автореферат диссертации по электронике, 05.27.06, диссертация на тему:Технология, фазовый состав, тонкая структура и свойства фотоситаллов и алюмооксидной керамики

ВВЕДЕНИЕ.

Глава 1. СОСТОЯНИЕ ВОПРОСА И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧ.

1.1. Области применения фотоситаллов и алюмооксидной керамики.

1.2. Микроструктура и прочностные характеристики фотоситаллов и алюмооксидной керамики.

1.3. Физико-химические свойства фотоситаллов и ш алюмооксидной керамики.

1.4. Механизм взаимодействия фотоситаллов и алюмооксидной керамики с лазерным излучением.

1.5. Высокотемпературная сверхпроводящая керамика.

1.6. Постановка задач исследований.

Глава 2. МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ ФОТОСИТАЛЛОВ И КЕРАМИКИ.

2.1. Структурные методы исследования качественного и количественного состава фотоситаллов и керамики

2.2. Метод аннигиляции позитронов.

2.3. Методы обработки фотоситаллов и керамики лазерным излучением.

2.4. Рентгенографические методы определения параметров тонкой структуры в фотоситаллах.

Метод четвёртых моментов.

2.5. Метод статистической функции распределения областей когерентного рассеяния по размерам.

2.6. Расчёт моментов профилей рентгеновских дифракционных линий при исследовании тонкой структуры стеклокристаллических материалов.

2.7. Расчёт плотности дислокаций по размеру областей когерентного рассеяния и величине микроискажений кристаллической решётки.

2.8. Спектральный метод определения содержания серебра в литиевоалюмосиликатных фотоситаллах,.

2.9. Методика рентгенографического исследования структурнофазовых превращений керамики в зоне действия луча лазера.

2.10.Автоматизация физических измерений при определении точки Кюри в ферритовой керамике.

2.11.Метод определения критической температуры Гс в высокотемпературной сверхпроводящей керамике

2.12. Выводы.

Глава 3. ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, ТОНКАЯ СТРУКТУРА,

ТЕРМОМЕХАНИЧЕСКИЕ, ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ, ХИМИЧЕСКИЕ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ЖТИЕВОАЛШОСЗШКАТНЫХ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ СТЕКОЛ И ФОТОСИТАЛЛОВ С РАЗЛИЧНЫМИ ДОБАВКАМИ ОКСИДОВ R0.

3.1. Тонкая структура и термомеханические свойства магнийсодержащих фотоситаллов

3.2. Содержание кристаллической фазы, тонкая структура, термические, механические и химические свойства бериллийсодержащих фотоситаллов.

3.3. Размеры областей когерентного рассеяния цинксодержащих фотоситаллов их термические, механические и диэлектрические свойства.

3.4. Фазовый состав, плотность дислокаций и диэлектрические свойства стронцийсодержащих фотоситаллов

3.5. Плотность дислокаций, фазовый состав, механические и диэлектрические свойства барийсодержащих фотоситаллов

3.6. Физико-химические свойства литиевоалюмосиликатных фотоситаллов модифицированных введением оксидов R

3.7. Выводы.

Глава 4. ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, ТОНКАЯ СТРУКТУРА, ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ,

ТЕРМОМЕХАНИЧЕСКИЕ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ЛИТИЕВОАЖМОСИЛИКАТНЫХ СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ СТЕКОЛ И ФОТОСИТАЛЛОВ. МОДИФИЦИРОВАННЫХ ВВЕДЕНИЕМ ОКСИДОВ R20, R2O3.

4.1. Влияние добавок щелочных оксидов на диэлектрические и технологические свойства литиевоалюмосиликатных светочувствительных стёкол и фотоситаллов.

4.2. Плотность дислокаций и химические свойства продуктов низкотемпературной кристаллизации литиевоалюмосили-катного светочувствительного стекла.

4.3. Фазовый состав, содержание кристаллической фазы и механические свойства закристаллизованных светочувствительных стёкол.

4.4. Синтез и свойства литиевоалюмосиликатных светочувствительных стёкол и фотоситаллов с различным содержанием AI2O3.

4.5. Расчёт значения коэффициента линейного термического расширения стеклокристаллического материала с различным содержанием кристаллической фазы.

4.6. Химический состав остаточной стекловидной фазы и микроструктура литиевоалюмосиликатных фотоситаллов

4.7. Выводы

Глава 5. ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, МИКРОСТРУКТУРА И СВОЙСТВА СТЕКЛОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ ПОДВЕРГШИХСЯ, РАЗЛИЧНЫМ РЕЖИМАМ ТЕРМООБРАБОТКИ.

5.1. Влияние содержания кристаллической фазы на величину плотности и объёмной усадки фотоситаллов, подвергшихся различным режимам термообработки.

5.2. Режимы термообработки, фазовый состав, тонкая структура и механические свойства фотоситаллов.

5.3. Фазовый состав, микроструктура и механические свойства стеклокристаллических цементов, в зависимости от тепловой обработки.

5.4. Влияние концентрации серебра на оптические и технологические свойства литиевоалюмосиликатного светочувствительного стекла.

5.5. Размеры областей когерентного рассеяния, плотность дислокаций и механические свойства фотоситалла, получаемого из непрерывно формуемой ленты стекла.

5.6. Исследование эффективности осветлителелей KI и ВаСЗ.2 для варки литийалюмосиликатного светочувствительного стекла в ванной печи периодического действия.

5.7. Выводы

Глава 6. ФАЗОВЫЙ СОСТАВ, МИКРОСТРУКТУРА, МЕХАНИЧЕСКИЕ И

ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СТЕКЛОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ И КЕРАМИКИ, ПОДВЕРГШИХСЯ РАЗЛИЧНЫМ РЕЖИМАМ

ОБЛУЧЕНИЯ.

6.1. Фазовый состав и механические свойства стеклокристаллических цементов, обработанных лучами лазера.

6.2. Микроструктура и свойства литиевоалюмосиликатных фотоситаллов, обработанных лучами лазера.

6.3. Фазовый состав, микроструктура и механические свойства алюмооксидной керамики в зоне действия луча лазера

6.4. Микроструктура и свойства керамики, подвергшейся различным режимам лазерного облучения

6.5. Тонкая структура фотоситалла, облученного быстрыми нейтронами.

6.6. Образование центров окраски в фотоситаллах и керамике при радиационном воздействии.

6.7. Фазовый состав и микроструктура иттриевой керамики

6.8. Выводы

7. ИСПОЛЬЗОВАНИЕ РЕЗУЛЬТАТОВ ИССЛЕДОВАНИЯ И ИХ ВНЕДРЕНИЕ.

Актуальность проведения такой работы диктуется следующими соображениями:

Академик И. В. Тананаев уже в 1979 году, отмечая широкое применение ситаллов в электронике, приборостроении, ракетной технике, химической и нефтеочистительной промышленности, в высокотемпературных теплообменниках, газотурбинной технике, в качестве термостойких цементов, подложек для плёночных микросхем, указывал на большую будущность этих неорганических материалов и на проблемы, которые предстоит ещё решить в ближайшие годы.

Необходима дальнейшая разработка теории катализированной кристаллизации; более полное изучение ситем состав - структура -дисперсность - свойство; исследование кинетики и роста кристаллических фаз, влияние состава и содержания стекловидной фазы на свойства ситаллов, повышенной устойчивостью к растворам HF.

Одним из важнейших классов ситаллов являются фотоситаллы. которые также требуют углублённого изучения зависимости их свойств от состава исходного светочувствительного стекла и режимов его фототермохимической обработки, так как известные фотоситаллы литиевоалюмосиликатной системы характеризуются недостаточно высокими физико-химическими свойствами.

Не менее актуальным является вопрос о выяснении механизма взаимодействия стеклокристаллических материалов и алпомооксидной керамита* с излучением различной природы и выбора оптимальных технологических режимов облучения. Компания Laser Tech Services (Дакия) - один из лидеров на мировом рынке в области лазерной обработки керамики для микроэлектронной промышленности, требует лазеры, которые будут производить проникновение от поверхности материала на одну и туже глубину и давать одинаковый профиль отверстия, без микрорастрескивания. Поэтому для оптимизации технологических параметров лазерного излучения необходимо знание процессов, протекающих в веществе при воздействии на него лазерного излучения.

Расчёт свойств материала по их заданному составу является конечной целью всех исследований свойств материалов, в том числе стекла и фотоситаллов. Поэтому перед исследовтелями всегда будут стоять задачи как рационального применения существующих систем расчёта, так и дальнейшего их усовершенствования. Выявление наиболее общих закономерностей изменения свойств стеклообразных систем от их состава остаётся главной задачей физико-химических исследований. Поэтому необходимо дальнейшее развитие и усовершенствование методов расчёта свойств стеклокрис-таллических материалов по заданному составу.

Не менеее актуальным, является вопрос об изучении химического состава остаточной стекловидной фазы. Так как до настоящего времени не удаётся точно рассчитать состав и надёжно определить количество остаточной стекловидной фазы, поэтому большое значение пробретает разработка экспериментальных методов изучения химического состава и количества этой фазы.

Изложенное выше обуславливает актуальность проведения ис-седований многокомпонентных светочувствительных стекол, стек-локристаллических цементов, фотоситаллов и керамики всеми имеющимися физическими и структурными методами, а также стимулирует развитие новых методов, ранее не применявшихся к фотоситаллам и керамике, но эффективно использующихся в физике твёрдого тела.

Научная новизна.

1. Впервые проведена модификация состава литиевоалюмосили-катных фотоситаллов оксидами RO, R2O, R2O3: введение оксидов щелочноземельных металлов (MgO, ВеО, ZnO, SrO, ВаО) позволило оптимизировать составы фотоситаллов по их свойствам. Так, введение оксидов MgO, ВеО, ZnO в фотоситалл литиевоалюмосиликатной системы уменьшало его коэффициент линейного термического расширения, стабилизировало тепловое расширение, повышало микротвёрдость. Введение оксидов SrO, ВаО в фотоситалл литиевоалюмосиликатной системы снижало его диэлектрические потери и повышало микротвёрдость. Эффект снижения диэлектрических потерь обусловлен тем, что основная часть ионов Sr2+, Ва2+ с большими ионными радиусами входят в стекловидную фазу, где блокируют перемещение щелочных ионов. Рост микротвёрдости обусловлен высоким содержанием кристаллической фазы;

- введение оксидов щелочных металлов (К2О, Na20,Ll20) благодаря их одновременному присутствию приводило к полищелочному эффекту и позволило синтезировать фотоситалы с пониженным значением тангенса угла диэлектрических потерь. Снижение обусловлено тем, что ионы К+ и Na+, обладающие большими ионными радиусами, блокируют миграцию основного переносчика электричества -иона Li+, имеющего малый ионный радиус. Эффектом совместного введения Na20 и К2О впервые показано, что в противоположность существующим представлениям добавка NasO к стеклу с К2О увеличивала коэффициент растворения фотоситалла в плавиковой кислоте;

- изучено влияние тугоплавкого оксида AI2O3 на величину термического коэффициента линейного расширения фотоситалла с целью приближения его к TKJIP других материалов электронной техники для получения согласованных спаев.

2. На основании проведённых исследований в области состав- структура- свойство- дисперсность, разработаны и оптимизированы технологические режимы ультрафиолетового облучения, термообработки светочувствительного стекла, ситаллоцемента и алюмо-оксидной керамики, обеспечивающие жёсткие допуски на размеры фотоситалловых изделий и повышающие процент выхода годных керамических изделий:

- установлены оптимальные режимы термообработки, приводящие к наибольшему упрочнению фотоситалла, к минимизации объём ной усадки фотоситалловых изделий и к получению ситаллоцементов

- 13 характеризующихся высоким значением микротвёрдости;

- для варки светочувствительного стекла создана малогабаритная ванная печь непрерывного действия с повышенным коэффициентом обмена стекломассы (до 0,02), без бассейна для охлаждения, производительностью до 100 кг стекломассы в сутки;

- впервые, при взаимодействии алюмооксидной керамики и стеклокристаллических материалов с лазерным излучением, умеренных потоков мощности q <106 Вт/см2, установлен эффект аморфиза-ции структуры материалов, который может быть применён для преднамеренного регулирования содержания аморфной и кристаллической фазы в СКМ и керамике.

3. Развито новое научное направление по рентгенографическому иследованию параметров тонкой кристаллической структуры (размеров областей когерентного рассеяния, микроискажений кристаллической решётки, плотности дислокаций) фотоситаллов и их влиянию на механические, химические и технологические свойства. Предложена структурная модель стеклокристаллического материала, позволяющая рассчитывать плотность дислокаций его кристалличесщ кой фазы.

- разработана модель для расчёта термического коэффициента линейного расширения светочувствительного стекла и фотоситалла, в основе которой лежит представление о доминировании химических связей катионов стеклообразователей (Si4+, Al3+, Zn2+) на величину свойств стекла таких, например, как ТКЛР.

4. При выполнении работы предложен комплекс физических методов, некоторые из них ранее не применялись при исследовании фотоситаллов, стеклокристаллических цементов и алюмооксидной керамики. К ним следует в первую очередь отнести: метод аппроксимации, метод четвёртых моментов, метод статистической функции распределения областей когерентного рассеяния по размерам, рентгеновский метод определения плотности дислокаций, метод малых диафрагм, спектральный метод определения концентрации серебра, метод определения критической температуры сверхпроводящего перехода в высокотемпературной сверхпроводящей керамике, метод определения точки Кюри в ферритовой керамике, метод аннигиляции позитронов.

Автор защищает:

1. На основе результатов рентгенографического анализа стеклокристаллического материала, установлен эффект уширения рентгеновских рефлексов, что позволило предложить структурную модель, базирующуюся на представлении о том, что в таком материале кристаллы разделены на участки с идеальной структурой, когерентно рассеивающие рентгеновские лучи. На границах облос-тей когерентного рассеяния имеются дислокации. Такая модель позволяет экспериментальными методами определять параметры тонкой кристаллической структуры (плотность дислокаций, размеры областей когерентного рассеяния, микроискажения кристаллической решётки).

2. Введение оксидов щёлочноземельных металлов МеО приводит к контрполяризующему влиянию иона Me на связь S1-0::: кремне-кислородного тетраэдра и подавлению подвижности щелочных ионов в стекле, т.е. к снижению электропроводности, диэлектрических потерь и повышению химической устойчивости щелочносиликатных стекол при замене в них S102 на МеО. При этом они выполняют функции модифицирующих агентов, задерживающих образование полиморфных превращений различных форм кремнезёма;

- 15 введение оксидов МегО благодаря их одновременному при-■ сутствию приводит к снижению диэлектрических потерь и повышению химической устойчивости щелочносиликатных стекол при замене в них 5102 на Me2О.

3. Разработанная технология для непрерывной варки и выработки ленты однородного литиевоалюмосиликатного светочувствительного стекла в малогабаритной газоэлектрической ванной печи. Оптимизация режимов тепловой обработки фотоситаллов и ситалло-цементов, приводящих к упрочнению и уменьшению коэффициента объёмной усадки материала. % 4. Модель для расчёта ТКЛР стекла и двухфазных стеклокристаллических материалов, в основе которой лежит представление о преобладающем влиянии химических связей катионов стеклообразо-вателей (Sl4+s Al3+, Zn2"1") на свойства стекла, таких как ТКЛР.

5. Эффект аморфизации алюмооксидной керамики, стеклокрис-таллических материалов, подвергшихся обработке лучами лазера умеренных потоков мощности q <10е Вт/см2. Оптимизация технологических параметров лазерного излучения и повышение процента выхода годных изделий.

Практическая значимость.

Полученные научные результаты являются основой создания технологии синтеза фотоситаллов и стеклокристаллических цементов, обладающих повышенными технологическими и физико-химическими свойствами.

Практическая значимость работы связана:

- с разработкой технологии и оборудования для непрерывной варки и выработки ленты однородного литиевоалюмосиликатного светочувствительного стекла в малогабаритной газоэлектрической ^ ванной печи;

- с разработанными фотоситаллами, которые были применены для изготовления держателей ФЭУ-86, 73ЛУФ7, 14ЛУФ9, ЭЛУФТ;

- с результатами исследования структурно-фазовых превращений алюмооксидной керамики при обработке её лучами лазера умеренных потоков мощностей.

В 1976-78 годах разработана и внедрена в производство на опытном заводе НШЭС (г.Москва) малогабаритная газоэлектрическая ванная печь непрерывного действия, производительностью 0.1 % т/сутки, для варки светочувствительного серебросодержащего ли-тиевоалюмосиликатного стекла и формования из него методом вертикального вытягивания ленты стекла, а также технология фототермохимической обработки ленты этого стекла с целью изготовления из него фотоситалловых изделий различного назначения.

В 1980 году на опытном заводе НПО "Плазма" в г. Рязани освоено производство газоразрядных индикаторных панелей с использованием фотоситалловых матричных решёток. щ В 1987 году в Саратовском НИИ "Волна" были внедрены результаты по минимизации толщины аморфного слоя при лазерной обработке алюмооксидной керамики. В результате внедрения был уменьшен дефектный слой платы. От внедрения получен экономический эффект.

В 1985-92 годах в НПО "Алмаз" совместно с ГНТП "Стома" (дочернее предприятие НПО "Алмаз") г. Саратов разработаны и внедрены в производство режимы лазерной обработки алюмооксидной керамики, позволившие уменьшить толщину аморфного слоя в зоне действия луча лазера, повысить надёжность твёрдотельных плат и реализовать указанные режимы в производстве плат гибридных интегральных схем.

Эффект аморфизации структуры материалов при обработке лучами лазера, может быть применён для преднамеренного регулирования содержания аморфной и кристаллической фазы в стеклокрис-таллических материалах и керамике.

Практическое использование данной работы подтверждено актами внедрения и использования.

Апробация.

Результаты диссертации доложены и обсуждены на Всесоюзном совещании "Пути совершенствования процессов стекловарения и новые методы варки стекла". Вышний Волочёк. 1981 г., На Всесоюзных семинарах: "Дифракционные методы исследованя искажённых структур" (1988 г.) и "Физико-техноллогические проблемы поверхности металлов" (1988 г.). Череповец 1988 г., на второй научно-методической конференции в г. Саранске 1994 г.

Новизна научно-технических решений настоящей работы подтверждена публикациями её результатов в журналах ДАН СССР, Известия АН СССР, Неорганическая химия. Заводская лаборатория, Стекло и керамика, ЖВХО им.Д.И. Менделеева и др.

Структура и объём диссертации.

Диссертация состоит из введения, анализа состояния вопроса, методической главы, четырёх глав экспериментальной части, раздела об использовании результатов исследования и внедрения, общих выводов, списка литературы из 236 наименований и приложения; изложена на 358 страницах машинописного текста, в том числе содержит 86 рисунков и 30 таблиц и дополнительно к этому 30 страниц приложений.

ОБЩИЕ ВЫВОДЫ

1. Экспериментально установлено, что существует корреляция между параметрами тонкой структуры фотоситаллов и их механическими свойствами. Образцы фотоситаллов, имевшие минимальные размеры областей когерентного рассеяния и достаточно низкие микроискажения кристаллической решётки, отличались более плотной микроструктурой и более высокой микротвёрдостью. Введение оксидов "О в состав литиевоалюмосиликатной системы позволило уменьшить и стабилизировать его тепловое расширение, благодаря образованию кварцеподобных твёрдых растворов в-звкриптита.

2. Установлено, что для синтеза магнийсодержащих литиевоалюмосиликатных фотоситаллов, обладающих повышенными термомеханическими свойствами, оптимальные добавки MgO составляли величину 5-5 мол.%. Добавка 3-5 мол.% ВеО в литиевоалюмосил^гкатную систему является оптимальной, так как препятствует структурным модификационным превращениям различных кристаллических форм кремнезёма в фотоситаллах и стабилизирует их кривые теплового расширения и приводит к высокому значению козффицент растворения. Синтезированные бериллийсодержащие фотоситаллы отличались высоким содержанием кристаллической фазы, достигающей 75%.

3. Введение оксидов SrO, ВаО с большими ионными радиусами б литиевоалюмосиликатную систему позволило синтезировать фотоситаллы, характеризующиеся достаточно низкими значениями тангенса угла диэлектрических потерь (9-20 -Ю-4). Получено новое структурное состояние подтверждающее гипотезу И.И.Китайгородского о роли стекловидной фазы в объяснении физико-химических свойств стеклокристаллических материалов.

- 323

4. Введение оксида Na20 к калийсодержащим светочувствительным стёклам увеличивало их избирательную растворимость и оказывало благоприятное влияние на образование метасиликата лития, Введение 1-3 мол.% К20 приводило к синтезу фотоситаллов, обладающих повышенными диэлектрическими свойствами, что обусловлено полищелочным эффектом.

5. Плотность дислокаций в продуктах низкотемпературной кристаллизации светочувствительного стекла с добавками К20 варьировало в зависимости от их химического состава от 1,6 -1010 до 3,5-Ю11 см-2. Образцы фотоситаллов с высокой степенью кристаллизации имели большие плотности дислокаций и высокие значения коэффициента растворения, в то же время образцы с низкой степенью кристаллизации отличались более низкой плотностью дислокации и низким значением коэффициента растворения.

6. Синтезированы фотоситаллы с повышенным содержанием AI2O3 и пониженным коэффициентом линейного термического расширения, лежащим в пределах (32-94)-Ю-7 К-1 в интервале температур 20~300°С, что расширяет возможности применения таких фотоситаллов в конструкциях, где необходимо спаивание с такими материалами полупроводниковой техники, как кремний, германий, ко-вар, платинит.

7. Экспериментально установлено существование оптимальной экспозиции облучения ультрафиолетовым светом цинкоодержащих фотоситаллов, приводящей к образованию тонкокристаллической структуры с максимально возможной степенью кристаллизации. о. Найдены оптимальные режимы кристаллизации светочувствительного стекла соответствующие интервалу температур 600-700°С, позволяющие получать объёмную усадку фотоситалловых из

- 330 делии (1-2%)} что даёт возможность обеспечить жёсткие допуски на размеры прецезиокных фотоситалловых изделий. Оптимальный режим термообработки, приводящий к наибольшему упрочнению литие-воалюмосиликатного фотоситалла с добавками К2О, двухстадийный температурный отжиг с предварительной выдержкой в течение 3 ч при 500°0.

S. Результаты, полученные методом аннигиляции позитронов, достаточно хорошо согласуются с результатами рентгенографического определения содержания кристаллической фазы в фотоситалле. Аморфизация (разрыхление) структуры сопровождалось ростом интенсивности долгоживущей компоненты аннигиляционного излучения.

10. Для варки светочувствительного стекла создана малогабаритная ванная печь непрерывного действия с повышенным коэффициентом обмена стекломассы (до 0,02), без бассейна для охлаждения, производительностью до 100 кг стекломассы в сутки.

11. Разработана структурная модель стеклокристаллического материала, базирующаяся на представлении о том, что в таком материале кристаллы разделены на участки с идеальной структурой, когерентно рассеивающие рентгеновские лучи. Такая модель позволяет экспериментальными методами определять параметры тонкой кристаллической структуры (плотность дислакаций, рамеры областей когерентного рассеяния, микрорюкажения кристаллической решётки) ,

12. Предложен аддитивный метод расчёта ТКЛР стекла и стеклокристаллического материала, основанный на учёте структурных единиц, формируемых стеклообразующими оксидами, и влиянии на ТКЛР оксидов-модификаторов структурной сетки стекла. Расчётным

- 331 путём впервые установлено значение ТКЛР поликристаллического метасиликата лития, равное 159-Ю-7 К"1.

13. Методами растровой электронной микроскопии и микро-рентгеноспектрального анализа установлено, что остаточная стекловидная фаза фотоситалла обогащена ионами Al3+, Na+, К+. Разработанный нами метод позволяет контролировать содержание химически}*: элементов в остаточной стекловидной фазы.

14. Воздействие лазерного излучения с умеренными потоками мощности q <10б Вт/см2 ка стеклокристаллический цемент, фотоси-талл, алюмооксидную керамику приводило к аморфизации структуры, снижению микротвёрдости, образованию микротрещин, лимитирующих прочностные свойства материала, а также к изменению их оптических диэлектрических и химических свойств свойств. На основе полученных результатов удалось оптимизировать параметры лазерного излучения и повысить выход годных изделий. Действие рентгеновских лучей с энергией квантов -,30 кэВ на алюмооксидную керамику ВК 100 и облучение литиевоалюмосиликатных фотоситаллов быстрыми нейтронами (Е=5 МзВ), приводило к образованию индукционных центров окраски и к росту величины микроискажений кристаллической решётки.

ПРАКТИЧЕСКИЕ РЕКОМЕНДАЦИИ

1. Бережной А.И. Ситаллы и фотоситаллы. М.:Машиностроение,1966. 348 с.

2. Бережной А.И. Ситаллы и фотоситаллы. 2-е изд., перераб. и доп. М. .-Машиностроение, 1981. 464 с.

3. Бережной А.И. Ситаллы, стеклокристаллические материалы. // В кн.: Энциклопедия неорганических материалов. 1977. Т.2. С. 394-398.

4. Павлушкин Н.М. Основы получения ситаллов: В 2-х ч. М. :Изд. МХТИ им.Д.И.Менделеева, 1967. 4.2. 209 с. Павлушкин Н.М. Основы технологии ситаллов. М.:Стройиздат, 1979. 388 с.

5. Саркисов П.Д., Михайленко Н.Ю., Халва В.М. Биологическая активность материалов на основе стекла и ситаллов // Стекло и керамика. 1993. № 9-10. С.5.

6. Еужинский И.М., Даниленко В.А., Степанов С.Е. Стекло и ситаллы для астрономии. JI.: Наука. 1970. С202-205. Еужинский И.М., Сабаева Е.И., Хомяков А.Н. Стеклообразное состояние. Ввп.1. Катализированная кристаллизация стекла. Л.: Изд-во АН ССССР. 1963.

7. Holland Diane Exploiting crystallised glass // Phys. World. 1988. P.41-43.

8. Кингери У.Д. Введение в керамику. 2-е изд. М.:Стройздат,1967. 499 с.

9. Advanced ceramics: The NBS research effort // Amer. Ceram. Bull. 1988. 67. 8. P.1303-1304.

10. Буздин A.M., Булаевский Л.Н.,Кулич M. Л. .Потоков С.В. Магнитные сверхпроводники // УФН. 1984. Т.144. Вып.4. С.597.

11. Павлушкин Н.М., Ходаковская Р. Я. Ситаллы новые поликристаллические материалы на основе стекла // ЖВХО им.Д.И.Менделеева. 1968. Т.8. №2. С. 142-151.

12. Maurer R.D., J.Chem.Phys. 1958. V.29. Р.572-576.

13. Stooky S.D. Ind. and Engang chem. 1949. V.41. P.856-861.

14. Порай-Кошиц E.A. Строение стекла и начальные стадии ситал-лообразования // В кн.: Структурные превращения в стеклах при повышенных температурах. М.;Л.:Наука, 1965. С.5-14.

15. Vogel W. Inter-relationships between microheterogenitl, nucleation and cristalllzatlon In glasses // Glass. Tech-nol. 1966. V.7. №.1. P.15-21.

16. Stookey S.D. Catalyzed crystalyzation of glass In theory and practice // Glastechn. Ber., Sonderband V International er Glaskongr ess. 1959. 32 k.h.V. N.l. S.V/l-V/8.

17. Hinz W., Mitsch J. Zu Fragen der Glasstruktur auf Grund von Vltroke rambildungen // Sllllkattechnik. 1963. Bd.20. №.10. S.332-333.

18. Stookey S.D., Maurer R.D. Catalized crystallization of glass theory and practice // In: Progress In Ceramic Science. Vol.2. Oxford - London - new York ~ Paris: Perga-mon Press. 1962. P.78-101.

19. Китайгородский И.И. Стекло и керамика. М. :Промстройиздат, 1950. С. 32.

20. Чистосердов В.Г., Соболев И.А. Предел прочности на изгибтстекла и полученного путем его кристаллизации материала при различных температурах // Оптико-механическая промышленность. 1962. Т.29. № 9. С.35-37.

21. Павлушкин Н.М. Спеченный корунд, м. гГосстройиздат, 1961. 209 с.

22. Бокин П.Я. Механические свойства силикатных стекол. Л.,1970. С.163.

23. Tasiro М., Takagl К. Method of preventing scum formation in glass melts, and glass ceramics produkts // US Pat.

24. CI.106-39. №.3282712. 1966.

25. Богуславский И.А., Бутенко В.А. О процессе электрохимического упрочнения промышленного листового стекла //ДАН СССР, 1978. Т.240. №3. С. 1116-1120.

26. Duke D.A., Karstetter B.R., Pfltzenmaler R.W. Glass-ceramic article and method // US Pat. 01.106-39. №.3573073.1971.

27. Duke D.A., MacDowell J.F., Karstetter B.R. Crystalllsazionand Cemlcal Strengthening of Nephellne Glass-ceramics. // J.Amer.Ceram.Soc. 1967. V.50. №.2. P.67-74.

28. Корелова А.И., Алексеева 0. С., Деген М.Г. Микротвердость исходных и закристаллизованных литиевосиликатных стекол // Оптико-механическая промышленность.1962.Т.29. № 9. С.32-35.

29. Ходаковская Р.Я. Химия титансодержащих стекол и ситаллов. М., 1978. 272с.

30. Hasselman D.F., Fulrath P. Proposed fracture thery of a dispersion-strengthened glass matrux // J.Amer.Ceram.Soc. 1966. V.49. №.2. P.68-80.- 335

31. Сигаев В.Н. Строение оксидных стекол и процессов их крис-Ф таллизации с образованием изотропных и текстурированныхстеклокристаллических материалов на основе полярных фаз. Диссертация доктора химических наук / РХТУ им. Д.И.Менделеева. М. 1996. С. 320.

32. Еравинский В.Г., Колебина И. А., Осипов М.В. Газовыделение вакуумно-плотных керамических материалов, используемых в приборах СВЧ // Электронная техника. Сер.1. 1967. Вып.10. С.117-127.

33. Ship rodar to use MW klistrons // Electronics Design. 1963. * Y.ll. №.24. P.7.

34. Дегтярёва Э.В., Алексеенко Л.С. Просвечиваемость прозрачной поликристаллической корундной керамики // Сб. научных трудов Украинского НИИ огнеупоров. Вып. 11 (8)). М.:Металлургия, 1968. С.166-177.

35. Китайгородский И.И. Новые материалы в технике и науке. М.: Наука, 1966. С.120.

36. Сигаев В.Н., Саркисов П.Д., Лопатина Е.В., Стефанович ^ С.Ю., Молев В.И. Сегнето-пироэлектрическая текстура на основе стеклокристаллических материалов, содержащих стилве-литоподобную фазу LaBGeOs. // Физика и химия стекла. 1996. Т.22. № 2 С. 153-163.

37. Одинг И.А. Теория дислокаций в металлах и её применение. М. :Изд. АН СССР, 1959 . 83 с.

38. Petch N.I. J.Iron.Sted.Inst. 1953. V.174, 25.

39. Басченко Ю.В. Влияние тонкой структуры кристаллов на механические свойства ситаллов на основе кордиерита: Дис. . канд. техн. наук. М., 1989. 150 с.

40. Филипович В.Н. Структурные превращения в стёклах при повышенных температурах. М-Л. Наука. 1965. С. 15

41. Павлушкин Н.М., Ходаковская Р.Я., Щеглова О.В. Влияние напряжений на механические свойства ситаллов в системе S102-Al203-Mg0 // Изв.АН СССР. Неорг.материалы. 1977. Т.13. N 12. С. 347-349.

42. Hofer Е.М. Research about the tension and dimensions crls-tals glassceramlc // J.Amer.Ceram.Soc. 1964. V.48. №.8. P.438.

43. Ц 45. Бартенев Г.М. Строение и механические свойства неорганических стёкол. М. .-Стройиздат, 1966.

44. Аракелян С.Г., Бережной А.И., Иванова В.И. и др. Цветные фотошаблоны на основе светочувствительного стекла // Электронная промышленность. 1975. №6. С.52-54.

45. Егоров В.Н., Кондратенков В.И., Ростожинский В.В. О теплопроводности титансодержащих стекол и ситаллов на их основе // Электронная техника. Сер.14, Материалы (неоргани4 ческие диэлектрики). 1971. Вып.4. С.44-47.

46. Торопов Н.А., Барзаковский В.П. Высокотемпературная химия силикатов и других окисных систем. М.: Наука, 1965.

47. Торопов Н.А. Кристаллохимия и керамика алюмосиликатов с катионами малого размера // ЖВХО им. Д. И. Менделеева. 1963. Т.8. N 2. С.122-125.

48. Ходаковская Р.Я., Павлушкин Н.М. 0 структуре и свойствах метастабильных кварцеподобных фаз в ситаллах системы S102-Al203-Mg0~Ti02 // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1967. Т.З. №10. С. 1908-1915.

49. Стевелс Д. Электрические свойства стекла. М.: ИЛ, 1961. с. 84-92.

50. Машкович М.Д., Варшал Б.Г. К вопросу о влиянии кристаллической и аморфной фаз ситаллов на их диэлектрические свойства // В кн.: Стеклообразное состояние. Ереван: АН Арм. ССР. 1970. Т.5. Вып.1. с.112-119.

51. Сшшч Л.М., Бобкова Н.М. Диэлектрические свойства стекол и продуктов их кристаллизации в системе Ва0(Са0)-А120з~ T10£-Si02 // В кн.: Стекло, ситаллы и силликатные материалы. Вып.З. Минск: Вышейшая школа, 1974. С.159-163.

52. McMillan P.W. Electrical properties of glass-ceramics // J. Sci. and Technol. 1970. V.37. №.1. P.25-33.

53. Машкович М.Д. Диэлектрические потери и проницаемость ситаллов кордиеритовой системы // ФТТ. 1963. Т.5. № 3. С.843-850.

54. Машкович М.Д. Диэлектрические свойства ситалла. Цельзиано-вая система // ФТТ. 1964. Т.6. № 6. С.1862-1865.

55. Beall George Н. Strengthened glassceramic article and method // Coming Glass Works USA. Pat. № 4391914.

56. Fekeldjiev G., Andreeva V. Cordierite glass ceramic ma-terlall for electrical engineering // Int. Wlss. Kollog., Ilmenou,24-28 okt. 1983. Ht 4. Vortrages ВЗ, B4. Ilmenou. 1983. P.183-186.

57. Zheng Guo-Pei. Гуйсуеньянь сюэбао // J. Chin. Sillc. Soc. 1983. 11. 2. P.235-238.

58. Corning photosensitive glass for micro-engineering / Gros-bie Ion // Mater. Edge. 1992. № 40. P.2- 338

59. Йорданов Г., Богданов Б., Георгиев Д. Аморфнокристалличес-кие материалы: синтез, структура, свойства, применение / Московский химико-технологический институт. М. 1991. С. 74-76.

60. Ильяшова Е.В. Исследование процесса кристаллизации стекол с различной кристаллизационной способностью // Межвузовская научно-техническая конференция "Микроэлектроника и информатика" Москва 1996.: Тез. докл. М. 1996. С.90.

61. Пинес Б. Я. Лекции по структурному анализу. Харьков: Изд-во Харьковского университета, 1967. 476 с.

62. Majumdar B.S., Mah Т., Mendlratta M.G. Flaw growth In a polycrlstalllne lithium-aluminlum-sllicate glass ceramic // J. Mater. Sci. 1982. 17. № 11. P.3129-3139.

63. Третьяков Ю.Д. Химия нестехиомётрических окислов. М., 1974. 364 с.

64. Котрелл А. Теория дислокаций. М. :Мир, 1969. 95 с.

65. Миркин Л.И., Уманский Я.С. Исследование состояния кристаллической решетки и плотности дислокаций в аустените и фер

66. Щ рите при фазовых превращениях // Изв. высших учебных заведений. Физика. 1960. № 3. С.212-217.

67. Миркин Л.И. Справочник по рентгеноструктурному анализу поликристаллов. М. :Физматгиз, 1961. 863 с.

68. Williamcon G.K., Smallman R.E. Research about the tension and dlmtnslons crlstals glassceramic // Phil. Mag. 1956. К.1. P.34.

69. Hofer E.M. Research about the tension and dimensions crlstals glassceramlc // J. Amer. Ceram. Soc. 1964. V.48. .8 P.438.

70. Балкевич В. Л. Техническая керамика. М. .-Стройиздат, 1963. С.109-119.

71. Занегина М.М., Смоля А.В. Металлизация керамики на основе окиси бериллия // Электронная техника. Сер.10. 1966. Вып.7. С.169.

72. Ленг Ф. Разрушение композитов с частицами в хрупкой матрице // Композиционные материалы. 1978. Т.5. С.11-57.

73. Buessem W.R., Gruwer R.M. Computation of residual stresses in quenched AI2O3 // J.Amer.Ceram.Soc. 1972. V.55. №.2.1. P.101-104.

74. Hasselman P.H., Hlrschfeld D., Beauchamp E. Effekt of inc-lusisions on size of sur face flawes in glass crystal composites // J.Mater.Sclnse. 1985. V.64. №.2. P.82-86.

75. Wright A.F. Mlcrostructure control by thermal treatment: real time studies of crystallisation by neutron scatte ring // Glass . Cur. Issuees Pros. NATO Adv. Study Inst. Tenerlfe Apr. 1984. P.2-13. Dordreeht e.a. 1985.щ P.21-30.

76. Васченко Ю.В., Фадеева В.И., Ходаковская Р.Я. Влияние режима термообработки на тонкую структуру кристаллов в кор-диеритовом ситалле // Производство и исследование стекла и ситалловых материалов. Ярославль. 1988. № 9. С.161-165.

77. Леви Е.А., Ходаковская Р.Я., Победимская Е.А., Белов Н.Н. Рентгенографическое измерение микронапряжений в стеклокристаллических материалах // ДАН СССР. 1980. Т.255. № 3. С.572-576.

78. Fischer Е. Ferritmognete II. Herstellverfahren // Keram. Z. 1988. 40. № 11 P.968-970.

79. Соколова Т.Н., Миркин Л.И., Сурменко Л.А. Опыт применения лазерного оборудования при прошивке отверстий в корундовой керамике // В сб.: Опыт применения лазеров в приборостроении и машиностроении. М.:Машиностроение, 1981. С.39.

80. Вейко В.П., Либенсон М.Н. Лазерная обработка. Л. .-Лениздат, 1973. С.82.

81. Миркин Л.И., Ларина P.P. Деформация и разрушение материалов лучами лазера // Научные труды ин-та механики. № 46. М.:Изд-во МГУ, 1976.

82. Анисимов С.И., Имос Я.А., Романов Г.С. и др. Действие излучения большой мощности на металлы. М. .-Наука, 1970. 272 с.- 341

83. Афанасьев Ю.В., Крохин О.Н. К теории взаимодействия излучения лазера с веществом. // Тр. ФИАНа. Квантовая радиофизика. 1970. №52. С. 118-170.

84. Mortin Noboru, Jchlda Shalchl, Fujimori Yasutoma, Jshlkawa Ken. Pul sed laser processing of ceramics In water // Hppl. Phys. Lett. 1988 52. № 23. P. 1965-1966.

85. Sawudo Ulrlch, Lokai Peter, Kahiert Hans Jurgen, Basting Dirk. Exeimer laser - Bearbeltung Keramischer Werkstoffe-Ergebnisseund physikallsche Vorgange. // Laser und Optoe-lektron. 1989. 21. №3. P. 107-115.

86. Миркин Л.И. Физические основы обработки материалов лучами лазера. М.:Изд-во МГУ, 1975.

87. Медведева И.В., Берсенев Ю.С., Чижевский Б.А. и др. Влия-* ние высоких давлений на температуру сверхпроводящего перехода и электросопротивления керамики УВагСиэОх с дефицитом кислорода // Физика металлов и металловедение 1988. 66. № 3. С.621-623.

88. Washe Rolf. Keramishe Superlelter Kristall struktur, Ge-fuge und Eigenschaften. // Amts - und Mittellungsbl. Bun-des - anst. Materialforsh. und pruf. Berlin 1988. 18. № 2. P.128-133.

89. Gotor Francisco J., Fert Andre R., Odier Philippe, Pelle-rln Nadia. Grain growth, microstructure, and superconducting properties of pure and Y^BaCuOs eloped УВа£Сиз07-х ceramics // J. Amer. Ceram. Soc. 1995. 78. №8. C.2113-2121.

90. Горелик С.С., Расторгуев Л.Н., Скаков Ю.А. Рентгенографический и злектроннооптический анализ. М.:Металлургия, 1970. 367 с.

91. Гиллер Я. И. Таблицы меэкплоскостных расстояний. М. .-Недра, 1966. С.95.

92. Хейкер Д.М., Зевин Л.С. Рентгеновская дифрактометрия. М.: Физматгиз, 1963. С.223-225.

93. Вайнштейн Б.К. Дифракция рентгеновских лучей на цепных молекулах. М. :Изд-во АН СССР, 1963.

94. Oh1berg S.M., Colob H.R., Strickler D.W. Crystal Nucleati-on by Class in Class Separation. // In: Symposium on Nuc-leation and Crystallization in Glasses and Melts. Columbus, Ohio. Amer. Ceram. Soc. Inc. 1962. P.55-62.

95. Carrier G.B. Crystallization of glass Ceramics from Glasses Bosed on Blast Furnace Slog // J.Amer.Ceram.Soc. 1964. V.47. №.8. P.365-367.

96. Бартенев Г.М., Варисов А.Э., Гольданский В.И., Мокру-шин А.Д., Цыганов А.Д. // ФТТ. 1970. № 12. С.3454.

97. Бережной А.И., Красников А. С., Красникова М.Д. и др. Исследование структуры и механических свойств ситаллоцемен-тов, подвергнутых лазерному излучению // ДАН СССР. 1981. Т.256. № 6. С.1439-1449.

98. Вейко В.П., Либенсон М.Н. Лазерная обработка. Л.:Лениздат, 1973. С. 82.

99. Миркин Л.И., Смыслова Е.П., Смыслов Е.Ф. Структура исвойс- 343 тва металлов после импульсных воздействий // Издательство Московского университета. 1980. С.7.

100. Вагаряцкий Ю.А. Рентгенография в физическом металловедении. М. .-Госнаучтехиздат, 1961. С. 169-208.

101. Сновидов В.М. .Каган А.С.,Ковальский. А.Е. Исследование тонкой структуры мартенсита по форме одной дифракционной линии // Заводская лаборатория. 1968. Т.34. № 9. С.1086-1091.

102. Сновидов В.М.,Каган А.С.Ковальский А.Е. Исследование тонкой структуры мартенсита по форме одной дифракционной линии // Заводская лаборатория. 1968. Т.24. № 9. С.1086-1088.

103. Гинье А. Рентгенография кристаллов. М.:Физматгиз, 1961. 966 с.

104. Бережной А.И., Красников А.С. О зависимости тонкой структуры цинксодержащих фотоситаллов от экспозиции облучения исходного светочувствительного стекла // Изв.АН СССР. Неорган. материалы. 1971. Т.7. И 1. С.160-163.

105. Красников А.С., Бережной А.И. Расчет моментов профилей рентгеновских дифракционных линий при исследовании тонкой структуры стеклокристаллических материалов // Заводская лаборатория. 1997. № 10. С.25-26.

106. Давыдов Г.В., Ерохов Н.Н., Беляева Г.Ф. Апроксимация профиля интерференционной линии функцией наиболее общего типа // Заводская лаборатория. 1967. № 12. С.120.

107. Демидович Б.П., Марон И.А., Шувалова Э.З. Численные методы анализа. М.: Мизматгиз. 1963. 368 с.

108. ИЗ. Миркин Л. И. Справочник по рентгеноструктурному анализу поликристаллов. М. гФизматгиз, 1961. 723 с.

109. Котрелл А. Теория дислокаций. М.:Мир, 1969. 95 с.

110. Кустанович И.М. Спектральный анализ. М.:Высшая школа, 1962. 154 с.

111. Ломоносов Л.С., Полькова О.Б. Спектральный анализ. М. .«Металлургия, 1968. 220 с.

112. Бережной А.И., Блинов В.А., Красников А.С., Глушков Ю.И., Белов Н.В. Влияние концентрации серебра на оптические и технологические свойства литиевоалюмосиликатного светочувствительного стекла // ДАН СССР. 1984. Т.274. № 1. С.142-144.

113. Красников А.С., Миркин Л.И. Методика рентгенографического исследования структуры керамики в зоне действия луча лазера // Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 1998. * 8. Т.64. С.35-36.

114. Красников А.С., Григорьев А.В., Дудник Е.В. Автоматизация физических измерений с помощью ЭВМ при определении точки Кюри в ферромагнетиках // Тезисы докладов второй научно-методической конференции. Саранск. 1994. С.190.

115. Таблицы физических величин. М.:Атомиздат, 1976. С.597.

116. Ильин В.А., Красников А.С., Петрова Е.Е., Семин И.А. Изучение сверхпроводимости в практикуме по физике // Вестник Рязанского педагогического института. 1993. Вып.1. С.28-30.

117. Rose-Innes А. С. A simple system for obtaining temperatures between 77 К and room temperature // J.Phls.E. 1988. V.21.

118. Бережной А.И., Красников А.С., Ерохов H.А. Исследование тонкой структуры и термомеханических свойств магнийсодер-жащих фотоситаллов // ДАН СССР. 1969. Т. 186. № 1. С. 142-145.

119. Davydov G.V., Krasnlkov A.S., Johrokhov N.A. X-ray determination of the region of coherent scattering in photocl- 345 tails (pyroceramics) // J.Phis. С (Solid St. Phis.). 1969. Ser.2. V.2. P.1994-1995.

120. Бережной А.И., Красников А.С. Исследование тонкой структуры, термомеханических и химических свойств берилийсодержа-щих фотоситаллов // ЖВХО им. Д.И.Менделеева. 1971. № 4. С.476-477.

121. Davydov G.V., Krasnikov A.S., Johrokhov N.A. X-ray determination of the region of coherent scattering in photoci-talls (pyroceramics) // J.Phis. С (Solid St. Phis.). 1969. Ser.2. V.2. P.1994-1995.

122. Stookey S.D. Colloid chemistri. Theoretical and applied // Collected and edited by J.Alexander. N.Y., 1950. P.697.

123. Бережной А.И., Иванова В.И.«Красников А.С.Красникова М.Д. Исследование структуры и свойств стронцийсодержащих литиевоалюмосиликатных фотоситаллов // ДАН СССР. 1972. Т.205. № 6. С.1385-1338.

124. Злиашберг Г.М. О "кислородной" картине высокотемпературной сверхпроводимости // Письма в ЖЭТФ. 1988. Т.48. Вып. 5. С.275-288.

125. Красников А.С., Бережной А.И., Красникова М.Д. Влияние ионов с различными радиусами на свойства литиевоалюмосиликатных фотоситаллов // Стекло и керамика. 1998. № 4. С. 7 11.- 346

126. Бережной А.И., Иванова В.И.Красников А.С.Красникова М.Д. Исследование дислокационной структуры и свойств барийсо-держащих литиевоалюмосиликатных фотоситаллов // ДАН СССР. 1973. Т.209. №6. С. 1381-1384.

127. Горбачев В.В. Изучение электронной структуры кристаллических и аморфных форм кремнезема методом аннигиляции позитронов: Автореферат дисс. . канд. физ.-мат. наук. М.: МПГИ им. В.И.Ленина, 1974.

128. Аппен А.А. Химия стекла. Издательство "Химия". 1970. с.157.

129. Бережной А.И., Красников А.С. Влияние добавок щелочных окислов на технологические и диэлектрические свойства литиевоалюмосиликатных светочувствительных стекол и фотоситаллов // ДАН СССР. 1980. Т.251. № 5. С.1186-1189.

130. Бережной А.И., Красников А.С., Полухин Ю.М.и др. Исследование диэлектрических свойств литиевоалюмосиликатных фотоситаллов. подвергшихся различным режимам термообработки и экспозиции // ДАН СССР. 1986. Т.288. № 5. С.1175-1176.

131. Мазурин О.В. Электрические свойства стекла. Л. :Ленгосхи-миздат, 1962. С.128.

132. Stookey S.D. USA Pat. 2971853. 1961.

133. Stookey S.D. Industr. and Engang Chem. 1953. Y.45. p.115.

134. HlnzW., Kranz G. Sillkattechnlk. 1965. Bel. 16. S.210.

135. Бережной А.И. Блинов В.А., Красников А.С. Исследование тонкой структуры и свойств закристаллизованных светочувствительных стекол // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1971. Т.7. №2. С.305-309.

136. Бережной А.И.Красников А.С. Синтез и исследование свойств литиевоалюмосиликатных светочувствительных стекол и фотоситаллов с различным содержанием AI2O3 // ДАН СССР. 1980. Т.255. № 2. С.402-405.

137. Бережной А.И., Красников А.С., Морин Д.В., Красникова М.Д., Глушков Ю.И. Исследование химического состава, остаточной стекловидной фазы и микроструктуры литиевоалюмосиликатных фотоситаллов // Журнал Неорганической химии. 1991. Т.35. № 4. С.992-995.

138. Практическая растровая электронная микроскопия. М. :Мир, 1978. С.352-378.

139. Рид К.С. Электронный зондовый микроанализ. М.:Мир, 1979. С.298-309.

140. Бережной А.И., Полухин Ю.М., Красников А. С. и др. Расчет значения коэффициента термического расширения стеклокрис-таллического материала с различным содержанием кристаллической фазы // Тр. МХТИ им.Д.И.Менделеева. 1988. Вып.153. С.134-138.

141. Бережной А.И., Полухин Ю.М., Красникова М. Д. .Красников А. С. Расчет состава стекла на основе прогнозируемых коэффициентов теплового расширения стекла и стеклокристаллического материала//Сб. трудов ВНИИстром. Вып.63(91). М.,1988. С.44.

142. Мазурин О.В., Тотеш А.С. и др. Тепловое расширение стекла. Л. .-Наука, 1969. С. 150.

143. Wlnkelman A., Schott 0. СО тепловом расширении различных- 348 стекол в зависимости от химического состава. // Ann. Phis. Chem. 1894. V.51. №.1. Р.730-746.

144. Аппен А.А. О состоянии и свойствах кремнезема в силикатных стеклах // ЖПХ. 1951. Т.24. № 9. С.904-914.

145. Аппен А.А. Расчет свойств силикатных стекол // Информационное сообщение ЦВТИ МПСМ СССР. М.: Промстройиздат, 1966.

146. Воронкова Е.М., Гречушников Е.Н., Дистлер Г.И.Петров И.П. Оптические материалы для инфракрасной техники. М. .-Наука, 1965. С.130.

147. Stookey S.D. Method of producing ceramic // Chem. and Eng. News. 1961. V.39. №.25. P.116.

148. Макмиллан П.У. Стеклокерамика. M.: Мир, 1967 . 263 с.

149. Smith G.P. Whats New in Glass // Mach Des. 1970. V.42. P. 116-122.

150. Шикторов H.K. Изготовление аттенюаторных пластин с применением фотоситаллов // Вопросы радиоэлектроники. Технология производства и оборудования. 1968. Т.З. С.3-15.

151. Daniel P. Evaluation of glass-ceramics for qulded missile radomes // Ind.Diamond Rev. 1967. V.27. №.322. P.376-380.

152. Veres F. Glass seal ind method // US Pat. CI. 65-43, №.3734702. 1973.

153. Бережной А.И., Иванова В.И., Красников А.С., Красникова М.Д. Исследование влияния содержания кристаллической фазы на величину плотности и объемной усадки фотоситаллов // ДАН СССР. 1975. Т.221. №5. С.1145-1148.

154. Павлушкин Н.М., Сентюрин Г. Г., Ходаковская Р. Я. Практикум по технологии стекла и ситаллов. М.:Стройиздат, 1970.

155. Бережной А.И., Иванова В.И., Кумалагов А.И. и др. Исследо- 349 вание кинетики кристаллизации, структуры и физико-механи-Ф ческих свойств литиевоалюмосиликатного стекла и фотоситалла // ДАН СССР. 1974. Т.218. № 1. С.148-151.

156. Бережной А.И., Блинов В.А., Красников А.С. и др. Влияние термообработки на структуру и физико-механические свойства фотоситаллов // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1984. Т.20. № 10. С. 1737-1740.

157. Бокин П.Я., Корелова А.И., Пискунова А.Д. Кинетика фазовых превращений и изменение микроструктуры и механических свойств при ситаллизации литиево-алюмосиликатного стекла

158. Изв.АН СССР. Неорган, материалы. 1966. Т.2. № 9. С.1636.

159. Бережной А.И., Кумалагов И.А., Саркисов П.Д. Исследование особенности кристаллизации ситаллоцемента в системе Pb0-Zn0-B203-S102-Ti02-Nb205 // ДАН СССР. 1976. Т.228. №3. С.663.

160. Петрова В.З., Ханова Н.А., Гребенникова В.И., Шутова Р.Ф., Борисов А.Г. Химия в микроэлектронике. Ч I. 352 с.

161. Бережной А.И., Школенко К. В., Красников А. С. и др. Струк-^ тура и механические свойства ситаллоцемента, подвергшегосяразличным режимам термообработки // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1981. Т.17. № 3. С.532-535.

162. Frontiers of glass Sclense. Pros. Interrn. Conf. Los Angeles. 1980. V.42. P. 1-3.

163. Соколова Т.Н., Сурменко Л.А. Лазерная обработка материалов, применяемых в электронной технике. 4.1. Обработка керамики // Электронная техника. Сер.7. Технология, организация производства и оборудование. 1986. Вып.1(11161). С.5.

164. Миркин Л.И., Пилипецкий Н.Ф., Рабинович Э.М. Восстановле-^ ние серебра в светочувствительном стекле при облучении //

165. Изв.АН СССР. Неорган, материалы. 1968. Т.4. № 1. С.125-129.- 350

166. Миркин Л.И., Пилипецкий Н.Ф., Рабинович Э.М. О механизме воздействия светового луча лазера на светочувствительное стекло // ФТТ. 1967. Т.9. № 8. С.2400-2403.

167. Соколова Т.Н., Миркин Л.И., Сурменко Л.А. Опыт применения лазерного оборудования при прошивке отверстий в корундовой керамике // В сб.: Опыт применения лазеров в приборостроении и машиностроении. Л., 1983. С.47-49.

168. Speed suadrupled for atomic laserlng. Glob. Ceram. Rev. 1997. N.3. P.32.

169. Arrebola C., Cargallo L., Rosendahl E., Jungersen J., Ca-nonlco P., Peyskens A., Monzol., Barba A., Bou E., Mallol

170. G. Preparation des ecrens serigraphlgues par explosition an laser. Jnd. Ceram. et Verr., 1999. N.3. P.166-178

171. Бережной А.И., Красников А.С., Красникова М.Д., Ермаков

172. H.И. Исследование структура и механических свойств ситал-лоцементов, подвергнутых лазерному облучению // ДАН СССР. 1981. Т.26. 6. С.1439-1442.

173. Corning Glas Works. BP 863500. 1961.

174. Бережной А.И., Красников А.С., Миркин Л.И. и др. Исследование структуры и свойств литиевоалюмосиликатных фотоситаллов после воздействия лазерного излучения // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1991. Т.27. № 1. С.121-125.

175. Бережной А.И., Полухин Ю.М. Исследование образования центров кристаллизации в светочувствительных стеклах // Изв.АН СССР. Неорган, материалы. 1967. Т.З. № 6. С.986-992.

176. Пинес Б.Я. Лекции по структурному анализу. Харьков: Изд-во Харьковского университета, 1967 . 476 с.

177. Красников А.С., Соколова Т.Н. .Миркин Л.И. .Красникова М.Д.,- 351

178. Ермаков Н.И. Структура, фазовый состав и свойства алюмоок-сидной керамики в зоне действия лазерного луча // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1987. Т.23. № 12. С.2069-2073.

179. Вейко В.П., Либенсон М.Н. Лазерная обработка. Л. :Лениздат, 1973. С.82.

180. Физический энциклопедический словарь. М.: Советская энциклопедия. 1983. С.390.

181. Суховицын А.Е., Голубцов М.А., Пример Г.А., Хамаев Г.А. Получение отверстий лазерным лучом в керамических подложках для двухсторонних ГИС цифрового телевидения // Техника средств связи. Сер.ТПО. 1983. Вып.З. С.25-32.

182. Винчелл А.Н., Винчелл Г. Оптические свойства искусственных минералов. М. :Мир, 1967. С.81-82.

183. Калинина A.M. О полиморфизме и ходе термических превращений окиси алюминия // Журн.неорган, химии. 1959. Т.4. № 6. С. 1260-1269.

184. Калинина A.M. Термические превращения синтетического као-менита, алюмосиликатных гелей и окиси алюминия: Автореф. дис. . канд. хим. наук. М. :Ин-т химии силикатов, 1963.

185. Торопов Н.А., Барзаковский В.П., Лопин В.В., Курцева Н.Н. Диаграммы состояния силикатных систем. М.:Наука, 1965.

186. Павлушкин Н.М., Бережной А.И. Химическая стойкость корундовых материалов // Тр. МХТИ им. Д.И.Менделеева. 1954. Вып.18. С.175-178.

187. Красников А.С. Соколова Т.Н. .Миркин Л.И. .Красникова М.Д., Ермаков Н.И. Структура, фазовый состав и свойства алюмооксидной керамики в зоне действия лазерного луча // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1987. Т.23. № 12. С.2069-2073.

188. Slmson Н.Е. Glass Ind. 1964. V.45. №.3.

189. Френкель Я.И. Введение в теорию металлов. М.: Физматгиз, 1958.

190. Каган А.С., Сновидов В.М. Метод четвертых моментов при исследовании тонкой структуры мартенсита по форме одной дифракционной линии // Заводская лаборатория. 1968. Т.24. № 9. С.1086.

191. Бережной А.И. Иванова В.И. .Красников А.С. .Красникова М.Д. Рентгенографическое исследование структуры фотоситалла, облученного быстрыми нейтронами // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1974. Т.10. № 12. С.2242-2243.

192. Красников А.С. Бережной А.И. Образование центров окраски в стеклокристаллических материалах при радиационном воздействии // Журнал Стекло и Керамика. 1997. № 10. С.30-31.

193. Ковтуненко П. В. Физическая химия твёрдого тела. М.: Высшая школа. 1993. С.8.

194. Бережной А.И. Красникова М.Д., Ермаков Н.И. .Ремизова А.А. Исследование термомеханических свойств продуктов кристаллизации светочувствительных стекол в зависимости от режимов термообработки // ДАН СССР. 1983. Т.270. № 1. С.154.

195. Бережной А.И., Иванова В. И. .Красников А. С. .Красникова М.Д. Исследование фазового состава, дислокационной структуры и- 353 свойств стронцийсодержащих фотоситаллов // ДАН СССР. 1972.1. Т.205. №6. С.1381-1384.

196. Красников А.С., Бережной А.И. Расчет моментов профилей рентгеновских дифракционных линий при исследовании тонкой структуры стеклокристаллических материалов // Заводская лаборатория. 1997. № 10. С.25-26.

197. Бережной А.И., Гольберг A.M., Горбачев А.А. и др. // Опти-комеханическая промышленность. 1969. С.28-31.

198. Бережной А. И., Плавник Г. М., Дзекановская В. П., Красникова М.Д. Применение метода перевала при рентгеноструктурномрц исследовании параметров тонкой структуры фотоситаллов //

199. Заводская лаборатория. 1975. Т.41. № 4. С.445-448.

200. Головчинер Я.М. Вопросы методики определения напряжений второго рода и размеров блоков мозаичности // Заводская лаборатория. 1960. № 4. С.1091-1093.

201. Демкина Л.И. Новая система расчета коэффициента термического расширения силикатных стекол // Стекло и керамика. 1960. № 10. С.5-11.щ 204. Диас Дж., Ванйард Дж. Радиационные эффекты в твердых телах. М.: Изд-во Иностр. лит., 1960. С.38.

202. Ерохов Н. А. Развитие метода апроксимации при рентгеновском исследовании тонкой структуры поликристаллов: Дис. . канд. физ.-мат. наук. М.,1968. 129 с.

203. Китайгородский И. И., Павлушкин Н.М., Ходаковская Р. Я. Исследование возможности применения метода количественного рентгенофазового анализа к стеклокристаллическим материалам // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1966. Т.2. № 4. С.726-732.- 354

204. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела. М. :Физматгиз, 1962. С.бОб.

205. Кузин Ю.А., Сыромолотов Е.Н., Плавник Г.М., Дубинин М.М. Определение плотности распределения субмикроскопических неоднородностей по данным рассеяния рентгеновских лучей под малыми углами //ДАН СССР. 1968. Т. 182. № 5. С. 1114-1117.

206. Манченко З.Ф. .Ермоленко Н.Н. Изучение электрических свойств алюмоборосиликатных стекол и ситаллов // В кн.: Стекло, ситаллы и силикатные материалы. Минск: Вышэйшая школа, 1974. Вып.2. С. 118-121.

207. Плавник Г.М. .Шишлянникова Л.М. // Аппаратура и методы рентгеновского анализа. 1978. Вып.21. С.63-70.

208. Полухин Ю.М. К вопросу технологии изготовления матричных решеток из фотоситаллового стекла для газоразрядных индикаторных панелей // Электронная техника. Сер.4. Электровакуумные и газоразрядные приборы. 1976. Вып.8. С.93-98.

209. Полухин Ю.М. Метод определения светочувствительных характеристик исходных стекол для получения фотоситаллов // Журн.приклад.спектроскопии. 1970. Т.12. № 6. С.1085-1091.

210. Тананаев И. В. Перспективы развития исследований в области некоторых неорганических материалов // Изв. АН СССР. Неорган. материалы. 1971. Т.7. № 3. С.361.

211. Уманский Я.С. Рентгенография металлов и полупроводников. М.:Металлургия, 1969. С.101-102.

212. Шишаков Н.А. Основные понятия структурного анализа. М. : Изд-во АН СССР, 1961. С.93-95.- 355

213. Щеглова О.В. Внутренние микронапряжения в ситаллах и их связь с механическими свойствами: Дис. . канд.техн.наук. М.1974. 212 С.

214. Conway I.e. Struktural Evaluation of a Ceramic-Underwater Vehicle // J. Amer. Ceram. Soc. Bull. 1968. V.47. №.3. P. 1030-1034.

215. Veres F. Glass sealind method // US Pat. CI.65-43, №.3734702. 1973.

216. Осипьян Ю.А. Аморфные металлы и сплавы // Вестник АН СССР. 1987. 9. С.3-13.

217. Красников А.С., Бережной А.И. Рентгенографический интегральный метод малых диафрагм для исследования структурных превращений в зоне действия луча лазера // Стекло и Керамика. 1997. И 7. С. 24-25.

218. Филиппович В.Н. Структурные превращения в стёклах при повышенных температурах. М.; Л.: Наука, 1965. С. 15.

219. Сигаев В.Н. Строение оксидных стекол и процессов их кристаллизации с образованием изотропных и текстурированных стеклокристаллических материалов на основе полярных фаз. Диссертация доктора химических наук / РХТУ им. Д.И.Менделеева. М., 1998, с.320.

220. Машир Ю.И. Листовые медногалоидные фотохромные солнцезащитные стекла. Диссертация доктора технических наук / РХТУ им. Д.И.Менделеева. М., 1997, с.320.

221. Мс. Crocen Walter I, Clark David Е, Hench Larry L. Agneous durability of lithium disillcate glass-ceramics // Amer. Ceram. Soc. Bull. 1982. 61. * 11. P. 1218-1223.

222. Jacobsen A. Schott glass ceramics for new optical purposes- 356 in astronomy, space travel and navigation // Schott-Inf. 1982. № 3. P.2-9.

223. Holond W., Vogel W., Naumann К. Machinable bloactive glass-ceramic // Glass Curr. Issnes. Proc. NATO Adv. study Inst., Tenerlfe, Apr. 1984. P.12-13.

224. Prewo Кате M., Brenon J.J., Layden G.K. Fiber reinforced glasses and glassceramlcs for high performance applications // Amer. Ceram. Bull. 1986. № 2. P.305-313.

225. Mc. Crocen Walter I, Clark David E, Hench Larry L. Agneous durability of lithium dlsilicate glass-ceramics // Amer. Ceram. Soc. Bull. 1982. 61. №11. P.1218-1223.

226. Zheng Guo-Pei. Гуйсуеньянь сюзбао // J. Chin. Sllic. Soc. f} 1983. 11. 2. P.235-238.

227. Красников А.С., Бережной А.И., Миркин Л.И. Структура и свойства стеклокристаллических материалов после лазерной обработки // Стекло и керамика. 1999. № 5 С. 15-20 . 232.- 357

228. Красников А.С., Бережной А.И., Миркин Л.И. Структура и свойства керамических материалов после лазерной обработки // Стекло и керамика. 1999. № б. С.8-11.

229. Красников А.С., Бережной А.И. Автоматизация физических измерений при определении точки Кюри в ферритовой керамике // Новые технологии. М., 2000, с.15-17.

230. Красников А.С., Бережной А.И. Образование центров окраски в стеклокристаллических материалах и керамике при радиационном воздействии // Новые технологии. М., 2000, с.48-51.

231. Красников А.С. Автоматизация физических измерений с помощью персонального компьютера при определении точки Кюри в ферритовой керамике // Заводская лаборатория. № 1. 2001 С. 36.

232. Одинг И.А. Теория дислокаций в металлах и её применение // М.: Изд. АН СССР, 1959. 83 с.

233. Грабой И.Э., Кауль А.Р., Метлин Ю.Г. Химия и технология высокотемпературных сверхпроводников // Итоги науки и техники. Серия Химия твёрдого тела. М. 1983.

234. WuM.K., Asburn I.R., Torng С.Т. etal. Superconduktivity at 93 К a new mixed-phase. V-Ba-Cu-0 compound system at ambient pressure // Phys Rev. Lett 1987.

235. Бережной А.И., Блинов В.А., Красников А.С. Исследование тонкой структуры и свойств закристаллизованных светочувствительных стекол // Изв. АН СССР. Неорган, материалы. 1971. Т.7. № 2. С.305-309.- 358

236. Демкина Л. И. Новая система расчета коэффициента термического расширения силикатных стекол // Стекло и керамика. I960. № 10. С.5-11.

237. Frontiers of glass science. Pros. Intern. Conf. Los Angeles, p.16-18. J.Non-crlst. Solids, 1980, vol 42, № 1-3.

238. Физический энциклопедический словарь. M.: Советская энциклопедия. 1983. С.390.

239. Суховицын А.Е., Голубцов М.А., КримерГ.А., Хамаев Г. А. Получение отверстии лазерным лучом в керамических подложках для двухсторонних ГИС цифрового телевидения // Техника средств связи. Сер.ТПО. 1983. Вып.З. С.25-32.

240. Красников А.С., Бережной А.И., Миркин Л.И. Структура и свойства керамических материалов после лазерной обработки // Стекло и керамика. 1999. № 6. С.8-12.

241. Slmson Н.Е. Glass Ind., V.45, 3. 1964.

242. Красников А. С. Автоматизация физических измерений с помощью персонального компьютера при определении точки Кюри в ферритовой керамике // Заводская лаборатория. М. 2001. 1. Т.67. С.36.

243. Петрова В.3., ХановаН.А., Гребенникова В.И., Шутова Р.Ф., Борисов А.Г. Химия в микроэлектронике. Ч II. 326 с.