автореферат диссертации по электронике, 05.27.06, диссертация на тему:Разработка технологии и оборудования вакуумной металлизации полимерных пленок для производства гибких печатных плат

На правах рукописи

Трофнменко Кирилл Андреевич

РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИИ И ОБОРУДОВАНИЯ ВАКУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ГИБКИХ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ

Специальность05.27.06 - «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники».

АВТОРЕФЕРАТ

диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук

Москва, 2005 г

Работа выполнена в «МАТИ» - Российском государственном технологическом университете им. К.Э. Циолковского.

Научный руководитель: доктор технических наук, профессор

Слепцов Владимир Владимирович

Официальные оппоненты: доктор технических наук, профессор

Ковалев Лев Кузьмич

кандидат технических наук Белецкий Виктор Валерианович

Ведущая организация: ФГУП «НИИВТ им. С.А. Векшинского».

Защита состоится " С( " 2005 г. в _££_ часов на заседании

Диссертационного Совета Д 212.110.01 в «МАТИ» - Российском государственном технологическом университете им. К.Э. Циолковского по адресу: 109240, г. Москва, ул. Берниковская набережная, д. 14, строение 2, ауд. ш.

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке «МАТИ» - Российского государственного технологического университета им. К.Э. Циолковского.

Автореферат разослан "Д'Х " ¡ХЬс^Л/^ 2005 года.

Ученый секретарь

Диссертационного Совета Д 212.110.01 кандидат технических наук, профессор

ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ

Актуальность работы. Печатные платы (ПП) применяются практически во всех отраслях народного хозяйства, и потребность в них постоянно возрастает. Опережающие темпы развития радиоэлектроники и микроэлектроники требуют непрерывного повышения их технического уровня, который определяется ростом плотности монтажа электрорадиоэлементов (ЭРЭ), повышением требований к надежности, увеличением рабочей частоты, обеспечением помехозащищенности и др. Реализация этих требований зависит от достижений в области конструирования и развития технологии производства ПП. Это в свою очередь приводит к необходимости разработки новых материалов, конструкций и технологических процессов их изготовления.

Перспективным направлением в технологии печатных плат является разработка и производство гибких печатных плат (ГПП), обладающих следующими преимуществами по сравнению с жесткими ПП:

• упрощение компоновки и уменьшение объема электронной аппаратуры до 50%;

• высокая надежность;

• лучшие электрические характеристики;

• лучшее рассеивание теплоты;

• динамическая гибкость;

• возможность придания ГПП формы корпуса сложной конфигурации;

• технологичность конструкции и экономичность технологического процесса изготовления ГПП вследствие применения рулонной технологии.

В качестве материалов для изготовления гибких печатных плат применяют фольгированные и нефольгированные полиимид и полиэтилентерефталат.

Перспективным материалом для изготовления ГПП является политетрафторэтилен (ЛТФЭ), который обладает высокими диэлектрическими свойствами, химической стойкостью к агрессивным химическим средам и широким диапазоном рабочих температур. Важным недостатком, не позволяющим в полной мере применять ПТФЭ в качестве основы для гибких печатных плат, является низкая адгезия к металлическим и полимерным слоям.

Имеющиеся на рынке материалы для гибких печатных плат производятся по двум основным технологиям: прикатыванием проводящей фольги к диэлектрику через адгезионный подслой и металлизацией нефольгированного диэлектрика с применением адгезионного подслоя. Общим недостатком данных технологий является использование адгезионного подслоя, который ухудшает эксплуатационные характеристики получаемых изделий.

Поэтому актуальной являемся задача создания материала гибкой печатной платы на политетрафторэтилене без адгезионных подслоев.

Целью диссертации является разработка технологии и оборудования вакуумной металлизации полимерных пленок для производства гибких печатных плат на основе политетрафторэтилена без применения полимерного адгезионного подслоя. Для достижения этой цели в работе поставлены и решены следующие задачи:

• анализ механизмов адгезии металлического слоя к полимеру и теоретическое обоснование формирования медного слоя на ПТФЭ с высокой адгезией:

• изучение процесса плазмохимической обработки поверхности политетрафторэтилена с целью создания необходимого рельефа полимерного материала;

• исследование процесса вакуумной металлизации политетрафторэтилена методом магнетронного распыления с целью формирования устойчивого контакта меди с ПТФЭ;

• разработка образца экспериментального оборудования с технологическими устройствами модификации и металлизации полимерной пленки, реализующего рулонную технологию вакуумной металлизации;

• определение основных технологических факторов и масштабов их влияния на адгезионную способность пленки меди к политетрафторэтилену;

• разработка образца промышленного оборудования с технологическими устройствами модификации и металлизации полимерной пленки, реализующего рулонную технологию вакуумной металлизации;

• создание рулонной технологии вакуумной металлизации полимерной пленки для производства гибких печатных плат на основе ПТФЭ.

Научная новизна работы.

1. Создана физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера и экспериментально показана адекватность физической модели реальным условиям при формировании структуры медь - ПТФЭ ионно-плазменными методами в вакууме.

2. Впервые экспериментально показано, что применение высокоэнергетичных (5-9кэВ) ионов газов CF4, O2 и Аг обеспечивает развитие поверхности политетрафторэтилена на глубину до 3 мкм с достаточной для практического применения скоростью.

3. Результаты исследований по влиянию геометрии рельефа и модификации поверхности ПТФЭ на адгезию слоя меди к ПТФЭ. Технологические режимы, обеспечивающие формирование медного покрытия на поверхности ПТФЭ с адгезией более 1,5 Н/мм.

Практическая значимость.

1. Разработан и изготовлен образец экспериментальной установки вакуумной металлизации полимерной пленки.

2. Разработан и изготовлен образец промышленной установки вакуумной металлизации полимерной пленки, обеспечивающий выпуск материала для гибкой печатной платы с нормативными параметрами.

3. Разработан технологический процесс вакуумной металлизации ПТФЭ с ионно-лучевой обработкой поверхности ПТФЭ по рулонной технологии.

Методы исследований. При решении названных задач использовались

методы:

• современной вакуумной ионно-плазменной технологии (ионно-лучевая обработка, магнетронное нанесение) - для формирования высокоадгезионных слоев меди на ПТФЭ;

• измерения индукции магнитных нолей ионного и магнетронного источников -для определения оптимальной конфигурации магнитного поля;

• электронной микроскопии - для изучения геометрических характеристик полученных структур, исследования голографии и глубины обработки ПТФЭ:

• измерения адгезии металла к полимеру методом нормального отслаивания -для определения эксплуатационных характеристик получаемых образцов.

Основные положения, выносимые на защиту:

1. Физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера.

2. Результаты исследований по влиянию геометрии рельефа и модификации поверхности ПТФЭ на адгезию слоя меди к ПТФЭ. Технологические режимы, обеспечивающие формирование медного покрытия на поверхности ПТФЭ с адгезией более 1,5 Н/мм.

3. Экспериментальный и промышленный образцы оборудования и рулонная технология вакуумной металлизации ПТФЭ с ионно-лучевой обработкой поверхности ПТФЭ.

Апробация работы. Основные положения диссертации докладывались и обсуждались на III научно-практической конференции «Энергопотребление и энергосбережение: проблемы, решения» (Пермь, 2000 г.); V международной конференции «Вакуумные технологии и оборудование» (Харьков, 2002 г.); Всероссийской научно-технической конференции «Новые материалы и технологии» (Москва, 2002-2004 гг.); Всероссийской молодежной научно-технической конференции «Гагаринские чтения» (Москва, 2000-2004 гг.), на постоянно действующем семинаре «Электровакуумная техника и технология» (Москва, 2004 г.), на кафедре «МАТИ» - РГТУ им. К.Э. Циолковского «Наукоемкие технологии радиоэлектроники» (Москва, «МАТИ» - РГТУ, 2004 г.).

Публикации. По результатам выполненных исследований опубликовано 10 печатных работ, список которых приведен в конце автореферата.

Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, 4 глав, заключения, списка литературы из 92 наименований и приложения. Общий объем диссертации составляет 135 страниц, в том числе включает в себя 73 рисунка и 10 таблиц.

КРАТКОЕ СОДЕРЖАНИЕ РАБОТЫ

Во введении обосновывается актуальность работы, сформулирована цель и общие задачи исследований, показана научная новизна и практическая ценность результатов исследования, перечислены основные положения, выносимые па защиту.

В первой главе проведен анализ наиболее распространенных методов и оборудования для производства гибких печатных плат (ГПП). Показаны основные тенденции развития данных методов, рассмотрены характеристики материалов для производства гибких печатных плат, и как наиболее перспективный выбран политетрафторэтилен (ПТФЭ). При анализе существующих технологий определены факторы, ухудшающие эксплуатационные характеристики ГПП, наиболее важным из которых является применение адгезионного подслоя при производстве базового материала ГПП. При анализе альтернативных методов производства материала ГПП был выбран метод вакуумной металлизации нефольгиронанных диэлектриков по

рулонной технологии как наиболее перспективный. Это связано, в первую очередь с чистотой и экологичностью технологических процессов вакуумной металлизации, хорошей воспроизводимостью состава покрытия, возможностью нанесения тонких (менее 1 мкм) слоев и хорошей равномерностью получаемых пленок (±5%). Основной трудностью в данном случае является нанесение толстых (более 5 мкм) слоев. В этом случае вакуумная металлизация применяется совместно с гальванической.

Схема вакуумной металлизации полимерной пленки приведена на рис. 1.

_I

к насосу ->

Рис. 1. Схема вакуумной металлизации полимерной пленки.

1 - вакуумная камера; 3 - система перемотки;

2 - полимерная пленка; 4 - источник металлизации.

Для вакуумной металлизации полимерной пленки применяют следующие технологические методы: резистивное испарение, электронно-лучевое испарение, магнетронное распыление и электродуговое распыление. Наибольший интерес для напыления тонкого (1-2 мкм) слоя представляет магнетронное распыление.

Как известно, основным сдерживающим фактором развития металлизации полимеров является низкая адгезия полимеров ко всем материалам. Перспективным методом повышения адгезии проводящих слоев к полимерной подложке является предварительная ионно-лучевая обработка подложки непосредственно перед нанесением покрытия без напуска атмосферы в вакуумную камеру.

При ионно-лучевой обработке происходит значительное повышение температуры подложки, что требует учета при разработке соответствующего технологического оборудования. Другим явлением, сопровождающим ионную обработку, является возникновение и рост на поверхности подложки структур конической формы, что приводит к повышению адгезии проводящего слоя к подложке за счет увеличения поверхности контакга.

Анализ существующего технологического оборудования показал отсутствие в России серийно выпускаемого промышленного оборудования вакуумной металлизации полимерных пленок методом магнетронного распыления по рулонной технологии с предварительной ионно-лучевой обработкой полимерной пленки. Вторая глава посвящена разработке физической модели формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера.

Обобщенное уравнение для удельной энергии связи, обеспечивающей адгезию металла к полимеру обусловленную связями физической адсорбции можно

записать в виде (1):

IV ¥\¥

(1)

где: 1Уор - энергия ориентационного взаимодействия; №ино - энергия взаимного притяжения:

^аисп ~ энергия связи, обусловленная дисперсионными силами: й^, - энергия связи, обусловленная электростатическими силами.

В данном случае под удельной энергией адгезионной способности структуры металл-полимер понимается сила связи между напыленной пленкой металла и идеально гладкой поверхностью полимера. Таким образом, общая адгезия будет определяться как сила связи между 1 см" пленки металла и поверхностью полимера, имеющего развитую поверхность.

Уравнение общей адгезии можно записать в виде (2):

где: - общая адгезия на площади 1 см2;

И - коэффициент заполнения рельефа поверхности; /- фактор развития поверхности.

Коэффициент заполнения рельефа поверхности полимерного материала металлом (Б) определяет площадь контакта металла и полимера и является функцией угловой скорости роста металлического слоя

где: - плотность тока ионов:

у - плотность распыляемого вещества: Кр - коэффициент распыления:

- угол между вектором скорости роста и направлением падения ионов.

Фактор развития поверхности определяется как отношение площадей реальной и геометрической поверхностей:

где: j - факгор развития поверхности:

5/> - площадь реальной поверхности: 5г- площадь геометрической поверхности.

Для поверхности с рельефом в виде пирамид фактор развития поверхности

равен:

(2)

(3)

(4)

4 05д/| Л

а

а

где. // - высота пирамиды;

- основание пирамиды.

Физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера представлена на рис. 2.

Исходная полимерная пленка

Полимерная пленка с развитым рельефом Развитие рельефа на глубину 2-3 мкм с фактором развития поверхности 14.4-21.6 приводит к увеличению адгезии металла к полимеру примерно в 7-10 раз

Полимерная пленка с развитым рельефом и модифицированной поверхностью

Полимерная пленка с развитым рельефом и нанесенным тонким (0,5-1 мкм) слоем металла.

Общее увеличение адгезии составляет 14-20 раз по сравнению с исходной пленкой.

Рис. 2. Физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера.

Таким образом, задача экспериментального исследования сводилась к разработке и исследованию процесса ионно-плазменной модификации поверхности полимерной пленки с последующей металлизацией для проверки адекватности данной физической модели.

В третьей главе рассматривается конструкция макетного образца экспериментальной установки вакуумной металлизации полимерных пленок и проводится экспериментальная проверка физической модели.

Схема конструкции образца экспериментальной установки представлена на рис. 3. Установка состоит из ролика намотки 1, ролика смотки 2. охлаждающего барабана 3, шлюзового устройства 4, ролика натяжения 5, шибера-заслонки 6. легкосъемного модуля модификации (металлизации) 7 с источником модификации (металлизации) 8. а также системы газонапуска 9 и вакуумной системы 10.

Принцип работы установки состоит в следующем. Полимерная пленка с ролика смотки 1 через ролик 5 и шлюзовую систему 4 поступает на охлаждаемый барабан 3 и проходит над источником металлизации 8. где на нее напыляются металлические покрытия. Как известно, в процессе металлизации при нагреве подложки происходит активное газовыделение. Для дополнительного обезгаживания полимерной пленки и предотвращения ее прожигания, охлаждаемый барабан охлаждают до температур —50..-100°С для вымораживания содержащейся в подложке воды, которая является основным легочником газа.

После напыления пленка с покрытием поступает в субкамеру намотки 2. Кинематическая схема установки обеспечивает движение пленки в обе стороны.

Рис. 3. Схема конструкции образца нанесения покрытий на полимерные пленки.

экспериментальной установки для

1. - ролик намотки (смотки);

2. - ролик смотки (намотки);

3. - охлаждающий барабан;

4. - шлюзовое устройство;

5. - ролик натяжения;

6. - шибер-заслонка;

7. - модуль металлизации;

8. - источник металлизации;

9. - система газонапуска;

10. - вакуумная система.

Вакуумная схема установки приведена на рис. 4. Как видно из рисунка, вакуумная установка имеет 3 технологические субкамеры с индивидуальной откачкой: рулонную субкамеру 2, субкамеру напыления 3 и субкамеру источника модификации (металлизации) 4. Расположение фланцев откачки по бокам субкамеры напыления обеспечивает в ней необходимый градиент газового потока, что важно для проведения экспериментов.

В процессе разработки экспериментальной установки были исследованы магнитные поля источника ионов. По результатам исследований была разработана конструкция ионного источника, позволяющая работать при более высоких ускоряющих напряжениях (до 7 кВ). На основе расчета величины и конфигурации магнитного поля в зависимости от типа магнитной системы создана конструкция магнетрона с высокой равномерностью осаждения покрытий.

Проведен анализ температурного режима осаждения пленок меди на полимерную основу в стационарном и динамическом состояниях. Рассчитана температура охлаждения барабана и скорость движения пленки, при которых полимерная основа обратимо изменяет свои характеристики. На основании полученных данных разработана конструкция охлаждающего барабана.

Внешний вид макетного образца экспериментальной установки вакуумной металлизации полимерной пленки представлен на рис. 5.

Рис. 5. Внешний вид макетного образца экспериментальной установки вакуумной металлизации полимерной пленки.

Па разработанном экспериментальном оборудовании были проведены исследования адгезионной способности меди к ПТФЭ при обработке ПТФЭ в различных газовых средах на предельных режимах

работы технологическою оборудования для каждого газа. Результаты исследований приведены на рис. 6.

Из рисунка следует, что наиболее привлекательными для д&тьнейших исследований являются технологические среды аргона и кислорода, что не противоречит литературным данным. Необходимо также отметить, что плазмохимическая обработка полимера в вакууме с последующим осаждением на его поверхность слоя металла позволяет увеличить адгезионную способность металла к полимеру до 200 раз.

Поэтому следующим шагом стали исследования поверхности 111Ф). обработанного в плазме Аг и О2. методами растровой электронной микроскопии.

Для определения глубины нарушенного слоя был проведен анализ шлифа образца, который представлен на рис. 8. Как видно из рисунка, глубина нарушенного композиционного слоя составляет 2,45 мкм. Условно полученную композицию можно разделить на три области (область ПТФЭ, переходную область и область меди).

Рис. 8. Микрофотография шлифа пленки ПТФЭ с нанесенным слоем меди.

Результаты измерения адгезионной способности проводящих слоев к ПТФЭ в зависимости от типа рабочего газа представлены на рис. 9.

Н,Н/мм

1,5 2 2.5 3 3,5 4 4,5 5 5,5 и, кВ

Рис. 9. Зависимость адгезионной способности Н от напряжения разряда и ионного источника при модифицировании поверхности тефлона в плазме кислорода и аргона

Из рисунка видно, что с увеличением напряжения разряда происходит возрастание адгезионной способности медного слоя к ПТФЭ. Это связано, прежде всего, с увеличением площади контакта подложки и металла, а также с активацией поверхности ПТФЭ.

При этом для плазмы кислорода зависимость носит логарифмический характер, а для плазмы аргона - экспоненциальный. Граничные условия для данных зависимостей по напряжению определялись технологическими возможностями используемого источника ионов и вакуумной системы.

Сравнивая оба графика, можно сделать вывод, что применение аргона в качестве рабочего газа представляется наиболее целесообразным. Это связано в первую очередь с отсутствием необходимости применять специфические средства откачки активных газов, а также возможности загрязнения наносимого покрытия оксидами.

В четвертой главе рассматривается конструкция образца промышленной установки и разработка технологии вакуумной металлизации полимерной пленки для производства гибких печатных плат. Разработанная установка предназначена для металлизации полимерной пленки толщиной от 10 до 50 мкм и шириной 600 мм в рулоне.

Установка вакуумной металлизации приведена на рис. 10.

1 6 2 7 ' 5 3

Рис. 10. Схема установки вакуумной металлизации полимерных пленок

1 - субкамера смотки; 5 - полимерная пленка:

2 - субкамера напыления; 6 - система перемотки;

3 - субкамера намотки; 7 - охлаждающий барабан:

4 - модуль модификации и металлизации;

В качестве технологических источников модификации применяются протяженные ионные источники, в качестве источников металлизации при меняю гея протяженные магнетроны.

Общий вид установки приведен на рис. 11.

Для разработки технологического процесса вакуумной металлизации полимерной пленки был выбран следующий режим: развитие рельефа ПТФЭ ионно-лучевым методом - ионно-лучевая модификация поверхности ПТФ) - металлизация

ПТФЭ магнетронным методом в одном технологическом цикле. В этом режиме сначала происходит формирование заданного рельефа ПТФЭ с фактором развития поверхности /~ 20, затем активация поверхности полимерной пленки и металлизация ПТФЭ магнетронным устройством.

Рис. 11. Общий вид установки

Для разработки технологического процесса вакуумной металлизации полимерной пленки был выбран следующий режим: развитие рельефа ПТФЭ ионно-лучевым методом - ионно-лучевая модификация поверхности ПТФЭ - металлизация ПТФЭ магнетронным методом в одном технологическом цикле. В этом режиме сначала происходит формирование заданного рельефа ПТФЭ с фактором развития поверхности/- 20, затем активация поверхности полимерной пленки и металлизация ПТФЭ магнетронным источником.

Исследование адгезионной способности проводящих слоев к ПТФЭ в зависимости от напряжения разряда при ионно-лучевой обработке полимера в вакууме позволило определить оптимальные технологические режимы вакуумной металлизации ПТФЭ для получения ГПП с заданными характеристиками.

Оптимальные условия ионно-лучевой обработки и металлизации ПТФЭ в вакууме были определены исходя из требований стабильного получения высокой адгезии металла к полимеру с максимальной производительностью. Исходя из поставленной задачи оптимальные режимы ионно-лучевото источника, определенные экспериментальным образом: Цр = 5 кВ, 1р = 300 мА. р = 5-10"4 мм рт.ст.. газ - Лг,

1.1 л/час. Режимы работы источника для модификации были также определены экспериментально, и составили: ирж3 кВ, ¡р = 500 мА, р - 1-10"'' мм рт.сч., I аз - Лг, = 1-1 л/час. Режим металлизации источником магнетронного типа был выбран мм рт.ст., материал - Си, газ - При

этих режимах стабильная работа ионных источников и магнетронного \члройства при одновременной работе обеспечивалась конструкцией установки и использованием инертного газа Аг на всех этапах технологического процесса вакуумной металлизации ПТФЭ. Скорость перемещения полимерной пленки составила 0.3 м/мин.

Выгрузка металлизированной пленки в рулоне производится после напуска инертного газа до атмосферного давления в субкамеру намотки и выдержки в течение 15 минут, включая операцию напуска инертного газа.

После выгрузки производится операция контроля качества процесса металлизации. Контролируется равномерность полученного покрытия и адгезия. Равномерность контролируется методом четырехзондовым методом измерения электропроводности. Адгезия - методом нормального отслаиваивания.

Циклограмма процесса вакуумной металлизации полимерной пленки приведена в таблице 1.

Таблица 1.

Циклограмма процесса вакуумной металлизации полимерной пленки

В заключении отражены основные результаты, полученные в диссертации.

Внедрение результатов работы

Материалы диссертационной работы и полученные результаты использованы:

1. В ООО «МЭШПлюс», г. Зеленоград при разработке и запуске протяженных ионных и магнетронных источников.

2. В 1ST GmbH, Германия при разработке, запуске и отработке технологии экспериментального и промышленного образцов установок вакуумной металлизации полимерной пленки.

3. В ФГУП СПО «Аналитирибор». г. Смоленск при разработке и запуске ионных и магнетронных источников.

4. В учебном процессе кафедры «Технология производства приборов и систем управления летательных аппаратов» «МАТИ»-РГТУ им. К.Э. Циолковского.

ВЫВОДЫ

1. Впервые разработана физическая модель, обеспечивающая формирование структуры с высокой адгезией металла к полимеру за счет развитие рельефа и модификация поверхности полимерной пленки. Адгезия в основном обеспечивается силами Ван-дер-Ваальса и за счет формирования двойного электрического слоя на границе раздела высокоразвитого рельефа. Адекватность модели подтверждена жепери ментально.

2. Разработан экспериментальный образец установки вакуумной мегаллизации полимерных пленок по рулонной технологии.

3. Исследованы магнитные поля источника ионов. Разработана конструкция ионного источника, позволяющая работать при более высоких ускоряющих напряжениях (до 7 кВ).

4. Предложена инженерная методика расчета величины и конфигурации магнитного поля в зависимости от конструкции магнитной системы. Разработана магнитная система, обеспечивающая оптимальную конфигурацию магнитного поля с использованием магнитов самарий-кобальт. Создана конструкция магнетрона с высокой равномерностью осаждения пленок и минимизирующая тепловые потоки на подложку за счет электронной компоненты. Обеспечены условия совместной работы ионного и магнетронного источников.

5. Проведен анализ температурного режима осаждения пленок меди на полимерную основу в стационарном (неподвижная пленка относительно источника пара) и динамическом (пленка с определенной скоростью перемещается относительно источника пара) состояниях. Рассчитана температура охлаждения барабана и скорость движения пленки, при которых полимерная основа обратимо изменяет свои характеристики. На основании полученных данных разработана конструкция охлаждающего барабана.

6. Исследовано изменение адгезионной способности проводящих слоев к политетрафторэтилену в зависимости от режимов предварительной обработки пленки ПТФЭ. Показано, что максимальная адгезия пленки к подложке получается при глубине травления пленки 2-3 мкм. Данный результат однозначно подтверждает адекватность предложенной физической модели.

7. Разработан технологический процесс модификации поверхности ПТФЭ ионами, которые с одной стороны создают высокоразвитый геометрический рельеф, а с другой - формируют энергетический рельеф поверхности, насыщая ее избыточной энергией. В результате увеличения рельефа происходит рост адгезии до 200 раз.

8. Разработан и изготовлен образец промышленной установки вакуумной металлизации полимерных пленок по рулонной технологии.

9. Создана технология вакуумной металлизации полимерной пленки для изготовления гибких печатных плат. Полученные образцы по своим характеристикам удовлетворяют современным требованиям, предъявляемым к печатным платам.

Основные результаты диссертации опубликованы в следующих работах:

1. КА Грофименко, Е.В. Булыгина. И.Х. Нехороший. Ю.В. Панфилов, В.В. Слепцов. Методы плазменной инженерии поверхности в создании экологически чистых и ресурсосберегающих технологий. Контроль долговечности энергосберегающих тонкопленочных покрытий и архитектурных стекол. // «Энергопотребление и энергосбережение: проблемы, решения». Тез. докл. III научно-практ. конф.. Пермь, 2000. С. 157-160.

2. Грофименко К.А.. Кучесва Ь.Л. 11лазмохимическая модификация поверхности тефлона. // «XXX Гагаринские чтения». Тез. докл. междунар. молодежной научной конф. Т.6. М.: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004. С. 23-24.

3. КА "Грофименко. В.В. Слепцов. М. Данцигер. Конструкция экспериментальной установки для нанесения покрытий на пленочные материалы. // «Вакуумные технологии и оборудование». (Материалы 5-й междунар. конф. Вакуумные

технологии и оборудование). - Харьков: ННЦ ХФТИ. ИПЦ «Контраст». 2002. С. 264266.

4. К.А. Трофименко, Е.А. Жуков, В.В. Слепцов. Расчет магнитных систем планарных магнетронов. // «Вакуумные технологии и оборудование». (Материалы 5-й междунар. конф. Вакуумные технологии и оборудование). - Харьков: ННЦ ХФТИ. ИПЦ «Контраст». 2002. С. 272-277.

5. Трофименко К.А., Фадеев Д.С. Исследование режимов работы ионного источника. // «XXX Гагаринские чтения». Тез. докл. междунар. молодежной научной конф. Г.6. М.: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004. С. 23-24.

6. Трофименко К.А., Васильев A.M., Фадеев Д.С. Исследование магнитных полей протяженного ионного источника. // «Новые материалы и технологии - НМТ - 2004». Тез. докл. Всероссийской научно-техн. конф. Москва 17-19 ноября 2004 г. В 3 тт. Т 2. - М: ИТЦ «МАТИ»-РГТУ, 2004. С. 92-93.

7. Трофименко К.А., Слепцов В.В., Фадеев Д.С. Исследование адгезионной способности слоев меди к политетрафторэтилену для изготовления основы гибких печатных плат. // «Новые материалы и технологии - НМТ-2004». Тез. докл. Всероссийской научно-техн. конф.-ТЗ.-М.: ИТЦ «МАТИ»-РГТУ, 2004. С. 161-162.

8. Трофименко К.А., Васильев A.M., Слепцов В.В. Разработка конструкции промышленной установки для металлизации полимерных пленок. // Научные труды МАТИ им. К.Э. Циолковского. Вып. 6(78), - М: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004.

9. К.А. Трофименко. A.M. Васильев. В.В. Слепцов. Конструкция установки для интегрированных рулонных технологий синтеза наноструктурированных материалов. // «Новые материалы и технологии - НМТ - 2002». Тез. докл. Всероссийской научно-техн. конф. Москва 22-23 окт. 2002 г. В 4 тт. Т 3. - М.: ИТЦ «МАТИ»-РГТУ, 2002. С. 59-60.

10. Трофименко К.А., Васильев A.M. Вакуумная рулонная установка для плазменной обработки полимерных материалов. // «Новые материалы и технологии - НМТ -2004». Тез. докл. Всероссийской научно-техн. конф. Москва 17-19 ноября 2004 г. В 3 тт. Т 2. - М: ИТЦ «МАТИ»-РГТУ, 2004. С. 91-92.

Подписано в печать 24.01.2005. Формат 60x84 1/16. Печать на ризографе. Объем 1 печ. л. Тираж 100 экз. Заказ №

Издательский центр «МАТИ» - Российского государственного технологического университета им. К.Э. Циолковского 109240. Москва. Берниковская наб.. 14

Типография ИЦ «МАТИ» - Российского государственного технологического университета им. К.Э. Циолковского 109240, Москва. Берниковская иаб.. 14

05.17

N

t

16 ФЕВ 2005'

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. АНАЛИЗ МЕТОДОВ И ОБОРУДОВАНИЯ ВАКУУМНОЙ

МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК.

1.1. Современное состояние производства гибких печатных плат.

1.1.1. Классификация гибких печатных плат.

1.1.2. Особенности технологий изготовления гибких печатных плат.

1.2. Технологические методы и оборудование для нанесения проводящего слоя на полимерную пленку.

1.2.1. Вакуумное нанесение покрытий на полимерную пленку.

1.2.2. Технологические методы вакуумного нанесения покрытий.

1.2.3. Состояние разработок технологического оборудования вакуумной металлизации полимерной пленки.

1.3. Методы повышения адгезионной способности покрытий.

1.3.1. Механизмы возникновения адгезионной способности

1.3.2. Методы повышения адгезионной способности покрытий. 39 Выводы и постановка задачи

ГЛАВА 2. ФИЗИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ ФОРМИРОВАНИЯ ВЫСОКОАДГЕЗИОННОГО СЛОЯ МЕТАЛЛА К ПОВЕРХНОСТИ ПОЛИМЕРА.

2.1. Физико-химические процессы, протекающие при воздействии плазмы на полимерные материалы.

2.2. Теоретический анализ процесса развития рельефа плоской поверхности.

2.3. Разработка физической модели формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера

ГЛАВА 3. РАЗРАБОТКА КОНСТРУКЦИИ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОГО

ОБОРУДОВАНИЯ И ПРОВЕРКА ФИЗИЧЕСКОЙ МОДЕЛИ.

3.1. Разработка образца экспериментального оборудования вакуумной металлизации полимерных пленок для производства гибких печатных плат.

3.2. Система перемотки экспериментальной установки.

3.2.1. Описание лентопротяжного механизма.

3.2.2. Разработка конструкции барабана.

3.2.3. Шибер-заслонка.

3.3. Источники модификации и металлизации полимерной пленки.

3.3.1. Конструкция ионного источника.

3.3.2. Конструкция магнетронного источника.

3.4. Методика проведения эксперимента.

3.5. Исследование адгезионной способности проводящих слоев к политетрафторэтилену,.

3.5.1. Исследование модификации поверхности ПТФЭ плазмохимической обработкой.

3.5.2. Исследование адгезионной способности проводящих слоев к ПТФЭ.:.

ГЛАВА 4. РАЗРАБОТКА ОБРАЗЦА ПРОМЫШЛЕННОЙ УСТАНОВКИ И ТЕХНОЛОГИИ ВАКУУМНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ГИБКИХ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ. ".

4.1. Вакуумная система и система перемотки промышленной установки.:.

4.1.1. Описание вакуумной системы.

4.1.2. Описание системы перемотки.

4.1.3. Описание конструкции барабана.

4.2. Источники модификации и металлизации полимерной пленки.

4.2.1. Протяженный ионный источник

4.2.2. Протяженный магнетронный источник.

4.3. Разработка технологии вакуумной металлизации.

Актуальность работы. Печатные платы (ПП) применяются практически во всех отраслях народного хозяйства, и потребность в них постоянно возрастает. Опережающие темпы развития радиоэлектроники и микроэлектроники требуют непрерывного повышения их технического уровня, который определяется ростом плотности монтажа электрорадиоэлементов (ЭРЭ), повышением требований к надежности, увеличением рабочей частоты, обеспечением помехозащищенности и др. Реализация этих требований зависит от достижений в области конструирования и развития технологии производства ПП. Это в свою очередь приводит к необходимости разработки новых материалов, конструкций и технологических процессов их изготовления.

Перспективным направлением в технологии печатных плат является разработка и производство гибких печатных плат (ГПП), обладающих следующими преимуществами по сравнению с жесткими ПП:

• упрощение компоновки и уменьшение объема электронной аппаратуры до 50%;

• высокая надежность;

• лучшие электрические характеристики;

• лучшее рассеивание теплоты;

• динамическая гибкость;

• возможность придания ГПП формы корпуса сложной конфигурации;

• технологичность конструкции и экономичность технологического процесса изготовления ГПП вследствие применения рулонной технологии.

В качестве материалов для изготовления гибких печатных плат применяют фольгированные и нефольгированные полиимид и полиэтилентерефталат.

Перспективным материалом для изготовления ГПП является политетрафторэтилен (ПТФЭ), который обладает высокими диэлектрическими свойствами, химической стойкостью к агрессивным химическим средам и широким диапазоном рабочих температур. Важным недостатком, не позволяющим в полной мере применять ПТФЭ в качестве основы для гибких печатных плат, является низкая адгезия к металлическим и полимерным слоям.

Имеющиеся на рынке материалы для гибких печатных плат производятся по двум основным технологиям: прикатыванием проводящей фольги к диэлектрику через адгезионный подслой и металлизацией нефольгированного диэлектрика с применением адгезионного подслоя. Общим недостатком данных технологий является использование адгезионного подслоя, который ухудшает эксплуатационные характеристики получаемых изделий.

Поэтому актуальной является задача создания материала гибкой печатной платы на политетрафторэтилене без адгезионных подслоев.

Целью диссертации является разработка технологии и оборудования вакуумной металлизации полимерных пленок для производства гибких печатных плат на основе политетрафторэтилена без применения полимерного адгезионного подслоя. Для достижения этой цели в работе поставлены и решены следующие задачи:

• анализ механизмов адгезии металлического слоя к полимеру и теоретическое обоснование формирования медного слоя на ПТФЭ с высокой адгезией;

• изучение процесса плазмохимической обработки поверхности политетрафторэтилена с целью создания необходимого рельефа полимерного материала;

• исследование процесса вакуумной металлизации политетрафторэтилена методом магнетронного распыления с целью формирования устойчивого контакта меди с ПТФЭ;

• разработка образца экспериментального оборудования с технологическими устройствами модификации и металлизации полимерной пленки, реализующего рулонную технологию вакуумной металлизации;

• определение основных технологических факторов и масштабов их влияния на адгезионную способность пленки меди к политетрафторэтилену;

• разработка образца промышленного оборудования с технологическими устройствами модификации и металлизации полимерной пленки, реализующего рулонную технологию вакуумной металлизации;

• создание рулонной технологии вакуумной металлизации полимерной пленки для производства гибких печатных плат на основе ПТФЭ.

Научная новизна работы.

1. Создана физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера и экспериментально показана адекватность физической модели реальным условиям при формировании структуры медь — ПТФЭ ионно-плазменными методами в вакууме.

2. Впервые экспериментально показано, что применение высокоэнергетичных (59 кэВ) ионов газов СР4, 02 и Аг обеспечивает развитие поверхности политетрафторэтилена на глубину до 3 мкм с достаточной для практического применения скоростью.

3. Результаты исследований по влиянию геометрии рельефа и модификации поверхности ПТФЭ на адгезию слоя меди к ПТФЭ. Технологические режимы, обеспечивающие формирование медного покрытия на поверхности ПТФЭ с адгезией более 1,5 Н/мм.

Практическая значимость.

1. Разработан и изготовлен образец экспериментальной установки вакуумной металлизации полимерной пленки.

2. Разработан и изготовлен образец промышленной установки вакуумной металлизации полимерной пленки, обеспечивающий выпуск материала для гибкой печатной платы с нормативными параметрами.

3. Разработан технологический процесс вакуумной металлизации ПТФЭ с ионно-лучевой обработкой поверхности ПТФЭ по рулонной технологии.

Методы исследований. При решении названных задач использовались методы:

• современной вакуумной ионно-плазменной технологии (ионно-лучевая обработка, магнетронное нанесение) — для формирования высокоадгезионных слоев меди на ПТФЭ; 1

• измерения индукции магнитных полей ионного и магнетронного источников -для определения оптимальной конфигурации магнитного поля;

• электронной микроскопии - для изучения геометрических характеристик полученных структур, исследования топографии и глубины обработки ПТФЭ; г 8

• измерения адгезии металла к полимеру методом нормального отслаивания — для определения эксплуатационных характеристик получаемых образцов.

Основные положения, выносимые на защиту:

1. Физическая модель формирования высокоадгезионного слоя металла к поверхности полимера.

2. Результаты исследований по влиянию геометрии рельефа и модификации поверхности ПТФЭ на адгезию слоя меди к ПТФЭ. Технологические режимы, обеспечивающие формирование медного покрытия на поверхности ПТФЭ с адгезией более 1,5 Н/мм.

3. Экспериментальный и промышленный образцы оборудования и рулонная технология вакуумной металлизации ПТФЭ с ионно-лучевой обработкой поверхности ПТФЭ.

Апробация работы. Основные положения диссертации докладывались и обсуждались на III научно-практической конференции «Энергопотребление и энергосбережение: проблемы, решения» (Пермь, 2000 г.); V международной конференции «Вакуумные технологии и оборудование» (Харьков, 2002 г.); Всероссийской научно-технической конференции «Новые материалы и технологии» (Москва, 2002-2004 гг.); Всероссийской молодежной научно-технической конференции «Гагаринские чтения» (Москва, 2000-2004 гг.), на постоянно действующем семинаре «Электровакуумная техника и технология» (Москва, 2004 г.), на кафедре «МАТИ» - РГТУ им. К.Э. Циолковского «Наукоемкие технологии радиоэлектроники» (Москва, «МАТИ» - РГТУ, 2004 г.).

Публикации. По результатам выполненных исследований опубликовано 10 печатных работ, список которых приведен в конце автореферата.

Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, 4 глав, заключения, списка литературы из 92 наименований и приложения. Общий объем диссертации составляет 135 страниц, в том числе включает в себя 73 рисунка и 10 таблиц.

Выводы 1

1. Разработан образец промышленной установки вакуумной металлизации полимерных пленок по рулонной технологии.

I 2. Разработаны и изготовлены протяженные источник ионов и магнетронный источник.

3. Разработана технология вакуумной металлизации полимерной пленки для изготовления гибких печатных плат. Полученные образцы по своим характеристикам удовлетворяют современным требованиям, предъявляемым к печатным платам. с

В заключение диссертационной работы можно сделать следующие выводы:

1. Впервые разработана физическая модель, обеспечивающая формирование структуры с высокой адгезией металла к полимеру за счет развитие рельефа и модификация поверхности полимерной пленки. Адгезия в основном обеспечивается силами Ван-дер-Ваальса и за счет формирования двойного электрического слоя на границе раздела высокоразвитого рельефа. Адекватность модели подтверждена экспериментально.

2. Разработан экспериментальный образец установки вакуумной металлизации полимерных пленок по рулонной технологии.

3. Исследованы магнитные поля источника ионов. Разработана конструкция ионного источника, позволяющая работать при более высоких ускоряющих напряжениях (до 7 кВ).

4. Предложена инженерная методика расчета величины и конфигурации магнитного поля в зависимости от конструкции магнитной системы. Разработана магнитная система, обеспечивающая оптимальную конфигурацию магнитного поля с использованием магнитов самарий-кобальт. Создана конструкция магнетрона с высокой равномерностью осаждения пленок и минимизирующая тепловые потоки на подложку за счет электронной компоненты. Обеспечены условия совместной работы ионного и магнетронного источников.

5. Проведен анализ температурного режима осаждения пленок меди на полимерную основу в стационарном (неподвижная пленка относительно источника пара) и динамическом (пленка с определенной скоростью перемещается относительно источника пара) состояниях. Рассчитана температура охлаждения барабана и скорость движения пленки, при которых полимерная основа обратимо изменяет свои характеристики. На основании полученных данных разработана конструкция охлаждающего барабана.

6. Исследовано изменение адгезионной способности проводящих слоев к политетрафторэтилену в зависимости от режимов предварительной обработки пленки ПТФЭ. Показано, что максимальная адгезия пленки к подложке получается при глубине травления пленки 2-3 мкм. Данный результат однозначно подтверждает адекватность предложенной физической модели.

7. Разработан технологический процесс модификации поверхности ПТФЭ ионами, которые с одной стороны создают высокоразвитый геометрический рельеф, а с другой — формируют энергетический рельеф поверхности, насыщая ее избыточной энергией. В результате увеличения рельефа происходит рост адгезии в до 20 раз.

8. Разработан и изготовлен образец промышленной установки вакуумной металлизации полимерных пленок по рулонной технологии.

9. Создана технология вакуумной металлизации полимерной пленки для изготовления гибких печатных плат. Полученные образцы по своим характеристикам удовлетворяют современным требованиям, предъявляемым к печатным платам.

1. Пирогова Е.В. Проектирование и технология печатных плат: Учебник. — М.: Форум: Инфра-М, 2005. 560 с.

2. Пикуль М.И. и др. Конструирование и технология ЭВМ: Учебник. Мн.: Высш. шк, 1996. С 215-244.

3. Ильин В.А. Технология изготовления печатных плат. — JL: Машиностроение, 1984.

4. Технология многослойных печатных плат. / Е.П. Котов, Ю.А. Устинов и др. — М.: Радио и связь, 1990. 208 с.

5. Manfred Hummel. Einführung in die Leiterplattentechnologie. Eine Beschreibung der wichtigsten Herstellverfahren. Leuze Verlag, D-7968 Saulgau/Wurtt, Germany, 1991.

6. Галецкий Ф.П. Назначение, свойства и характеристики гибких и гибко-жестких печатных плат. // Журнал депонированных рукописей. 2002. — №1 — С. 5-8.

7. Галецкий Ф.П. Характеристика современных технологий печатных плат. // Журнал депонированных рукописей. 2002. - №3 - С. 22-26.

8. Материалы для производства печатных плат / З.Н. Воробьев, JI.JT. Ушанова, Е.П. Вишнякова и др. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 1993. №2. с. 47-50.

9. Александрова JLГ. Перспективные разработки в области гибких фольгированных диэлектриков. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 1995. №1. с. 28-31.

10. Технология вакуумной металлизации полимерных материалов. / Ю.В. Липин, A.B. Рогачев, С.С. Сидорский, В.В. Харитонов. Гомель: Гомельское отдел. Белорус, инж. технологич. академии, 1994. - 206 с.

11. Vakuumbeschichtung 5 / Hrsg.: Gerhard Kienel. Dusseldorf: VDI-Verl. - 1993. S. 74113.

12. Панфилов Ю.В., Осипов A.B., Резникова С.А. Нанесение в вакууме тонкой пленки меди на заготовки печатных плат. // Материалы X научно-техн. конф. «Вакуумная наука и техника». Под ред. Д.В. Быкова. М.: МИЭМ, 2003. С. 256-260.

13. Вилке Ю.К., Кузенкова М.А., Боровикова М.С. Нанесение покрытий в вакууме. Рига: Зинатине, 1986. С. 40-45.

14. Кудинов В.В., Бобров Г.В. Нанесение покрытий напылением. Теория, технология, оборудование. Учебник для вузов. М.: Металлургия, 1992. - 432 с.

15. Данилин B.C., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982. 72 с.

16. Марахтанов М.К. Магнетронные системы ионного распыления (Основы теории и расчета): Учебное пособие / Под ред. С.Д. Гришина. М.: Изд-во МГТУ, 1990. 76 с.

17. ЛипинЮ. Некоторые тенденции в развитии зарубежной вакуумной техники и технологии // Труды постоянно действующего научно-технического семинара «Электровакуумная техника и технология» (за 1997/98 гг.) Под ред. A.B. Горина М.: 1999, с. 80-84.

18. Christian Edelmann. Vakuumphysik. Grundlagen, Vakuumerzeugung und -messung, Anwendungen. Spektrum Akad. Vlg., 1998.

19. Max Wutz, Hermann Adam, Wilhelm Walcher. Handbuch Vakuumtechnik. Theorie und Praxis. Vieweg Verlagsgesellschaft, 2000.

20. D.R. Roisum. The Mechanics of Rollers. TAPPI PRESS. Atlanta, 1996.

21. Вакуумное модульное оборудование для экологически чистых и ресурсосберегающих технологий: Анализ проблем. Пути решения: Монография / Н.В. Василенко, E.H. Ивашов и др. Красноярск: НИИ СУВПТ; М.: Московский полиграфический дом, 1999. - 96 с.

22. Российские энергоэффективные технологии / Энергоэффективные технологии в ЖКХ. Покрытия на стекле и полимерной пленке. Выпуск №1 (4). М.: ЗАО «Фабрика офсетной печати», 2002. - 48 с.

23. Козлов В.М. Новое оборудование и технологические процессы для нанесения покрытий в вакууме // Труды постоянно действующего научно-технического семинара «Электровакуумная техника и технология» (за 1997/98 гг.) Под ред. A.B. Горина -М: 1999.

24. Ядин Э.В., Аусвальд Э.Я. Вакуумные установки для металлизации рулонных материалов. / Металлизация в вакууме, Рига: «АВОТС», 1983, с. 89-101.

25. А. Feuerstein, S. Hauff, Н. Laemmermann A New Sputter Web Coater with Pulsed Magnetron Sputtering Systems Design Aspects. "Society of Vacuum Coaters" (1997), p. 446-448.

26. Вальков И.Г., Панин C.B. Установка металлизации полимерной пленки. // «Вакуумная наука и техника». Материалы X конференции в 2-х томах. Под ред. Д.В. Быкова. М.: Изд-во МИЭМ, 2003. С. 486-488.

27. Адгезионная способность пленок / A.A. Углов, JI.M. Анищенко, С.Е. Кузнецов. — М.: Радио и связь, 1987. 104 с.

28. Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками / Под ред. Дж.М. Поута и др.; Под ред. A.A. Углова. М.: Машиностроение, 1987. 424 с.

29. Энергопотребление и энергосбережение: проблемы, решения». Тез. докл. III научно-практ. конф., Пермь, 2000. С. 157-160.

30. Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии: Учеб. пособие для спец. электронной техники вузов. — М.: Высш. шк„ 1984.-320 с.

31. Григорьев Ю.Н., Горобчук А.Г. Оптимизация состава смеси для травления Si в CF4/02. // Proceedings of International Conference RDAMM-2001, 2001, Vol. 6, Pt. 2, Special Issue, p. 217-224.

32. Синдеев Ю. Гальванические покрытия. M.: Изд-во Феникс, 2000. 256 с.

33. Мельников П.С. Справочник по гальванопокрытиям в машиностроении. М.: Машиностроение, 1991.-384 с.

34. Гильман А.Б. Плазмохимическая модификация поверхности полимерных материалов. // Материалы конференции «Школа молодых специалистов по плазмохимии». Иваново, 1999.

35. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. - 264 с.

36. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. - 232 с.

37. Сейдман JI.A. Очистка полимерных подложек плазмой магнетронного разряда. // Труды постоянно действующего научно-технического семинара «Электровакуумная техника и технология» (за 1999-2002 гг.) Под ред. A.B. Горина М., 2003.С. 53-57.

38. Словецкий Д.И. Механизмы плазмохимического травления материалов. // Материалы конференции «Школа молодых специалистов по плазмохимии». Иваново, 1999.

39. Антропов Л.И. Теоретическая электрохимия. М.: Высшая школа, 1975. С. 252-262.

40. Физика и технология источников ионов./ Под ред. Я. Брауна: Пер. с англ. — М.: Мир, 1998.-496 с.

41. Трофименко К.А., Кучеева Е.А. Плазмохимическая модификация поверхности тефлона. // «XXX Гагаринские чтения». Тез. докл. междунар. молодежной научной Конф.'Т.6. М.: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004. С. 23-24.

42. Современный эксперимент: подготовка, проведение, анализ результатов. / В.Г. Блохин, О.П. Глудкин и др. М.: Радио и связь, 1997. - 232 с.

43. Заберин А.Г., Пипкевич Г.Я. Исследование тепло- и массообмена в процессе осаждения металлических покрытий испарением и конденсацией в вакууме. / Металлизация в вакууме. Рига, «Авотс», 1983. С. 34-43.

44. Розанов JI.H., Розанов C.JI. Интенсификация теплообмена при вакуумном напылении лития на лавсановую пленку. // Вакуумная техника и технология. Том 13 номер 1,2003. С. 35-45.

45. Гробер И.Л. Температурный режим пластины при периодическом нанесении покрытия методом испарения и конденсации в вакууме. / Металлизация в вакууме. — Рига, «Авотс», 1983. С. 54-69.

46. Гробер И.Л. Температурный режим барабана вакуумной установки. / Металлизация в вакууме. Рига, «Авотс», 1983. С. 69-73.

47. K. Baxter. Effective Film Temperature Control for Vacuum Web Coaters. "Society of Vacuum Coaters" 35 (1992), p. 106-119.

48. F. Casey, N.A.G. Ahmed, G. Ellis Properties of Metallized Film in a Free Span Web Metallizer "Society of Vacuum Coaters" 42 (1999), p. 480-483.

49. W.E. Hawkins. Vacuum Coater Thread Path Design Using Basic Web Handling Principles and Techniques "Society of Vacuum Coaters" 42 (1999), p. 430-432.

50. M.J. McCann, Chadds Ford, D.P. Jones. Web Coating Dynamic Thermal and Wrinkling Model. "Society of Vacuum Coaters" 41 (1998), p. 412-417.

51. K.J. Blackwell, A.R. Knoll. Web Temperature Profiles and Thermal Resistance Modeling of Roll Sputtered Copper and Chromium onto Polyimide Webs. "Society of Vacuum Coaters" 34 (1991), p. 169-173. "

52. C.A. Bishop. Some Aspects of System Design for Roll-to-Roll Vacuum Coating Machines. "Society of Vacuum Coaters" 43(2000), p. 417-421.

53. N.A.G. Ahmed, G.H. Ellis The Influence of Water Content on Temperature Rise in Metallized Polypropylene Films "Society of Vacuum Coaters" 40 (1997), p. 350-3534 lvj .

54. Вакуумные процессы и оборудование ионно- и электронно-лучевой технологии: Учебное пособие. / М.И. Виноградов, Ю.П. Маишев. М.: Машиностроение, 1989. -56 с.

55. S. Schiller, М. Neumann, F. Milde Web Coating by Reactive Plasma Activated Evaporation and Sputtering Processes. "Society of Vacuum Coaters" 39 (1996), p. 371-377.

56. Трофименко К.А., Фадеев Д.С. Исследование режимов работы ионного источника. // «XXX Гагаринские чтения». Тез. докл. междунар. молодежной научной конф. Т.6. М.: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004. С. 23-24.

57. Кузьмичев А.И. Современные магнетронные распылительные системы. // Материалы междунар. конф. «Функциональные покрытия на стеклах». Харьков: ННЦ ХФТИ, ИПЦ «Контраст», 2003. С. 81-101.

58. T.G. Krug, S. Beisswenger, R. Kukla. High Rate Reactive Sputtering with A New Planar Magnetron. "Society of Vacuum Coaters", 34 (1991), p. 183-190.

59. T. Rettich, P. Wiedemuth. MF, DC and Pulsed DC in Practical Use for Large Area Coating. "Society of Vacuum Coaters" 43 (2000), p. 147-152.

60. K.A. Трофименко, Е.А.Жуков, В.В.Слепцов. Расчет магнитных систем планарных магнетронов. // «Вакуумные технологии и оборудование». (Материалы 5-й междунар. конф. Вакуумные технологии и оборудование). Харьков: ННЦ ХФТИ, ИПЦ «Контраст», 2002. С. 272-277.

61. Трофименко К.А., Васильев A.M., Слепцов В.В. Разработка конструкции промышленной установки для металлизации полимерных пленок. // Научные труды МАТИ им. К.Э. Циолковского. Вып. 6(78), М.: Изд-во «ЛАТМЭС», 2004.

62. Спиваков Д.Д., Парфененок М.А., Телегин А.П. Оборудование для нанесения покрытий реактивным магнетронным распылением в режиме двойного незатухающего разряда. // Вакуумная техника и технология. Том 12, №3, 2002. С. 145149.

63. R. Kukla, М. Bahr High rate sputtering of metals and metal oxides with a moving plasma zone. "Thin Solid Films" 228 (1993), p. 51-55.

64. S. Beisswenger, T. Krug Economical Considerations on Modern Web Sputtering Technology "Society of Vacuum Coaters" 35 (1992), p. 128-134.

65. R.Kukla, T. Krug A high rate self-sputtering magnetron source "Vacuum" 41 (1990), p. 1968-1970.

66. M. Fahland, V. Kirchhoff. Roll-to-Roll Deposition Of Multilayer Optical Coatings onto Plastic Webs. "Society of Vacuum Coaters" 43 (2000), p. 357-361.

67. C.A. Bishop. Some Aspects of System Design for Roll-to-Roll Vacuum Coating Machines. "Society of Vacuum Coaters" 43 (2000), p. 417-421.

68. M.G. Langlois. Engineering Solutions Enabling a New Family of Expandable, MultiProcess, Multi-Chamber Vacuum Roll Coaters. "Society of Vacuum Coaters" 42 (1999), p. 475-479.

69. F. Casey. Properties of Metallized Film in a Free Span Web Metallizer. "Society of Vacuum Coaters" 42 (1999), p. 480-484.

70. Вакуумная техника: Справочник / E.C. Фролов, B.E. Минайчев, А.Т.Александрова, и др.: Под общ. ред. Е.С.Фролова, В.Е. Минайчева. М.: Машиностроение, 1992. - 480 с.

71. Hisashi Ohsaki. Global market and technology trends on coated glass for architectural, automotive and display applications. "Thin Solid Films", 351 (1999), p. 1-7.

72. К. Suzuki. State of the art in large area vacuum coatings on glass. "Thin Solid Films", 351 (1999), p. 8-14.

73. Tatsuo Asamaki. High-vacuum planar Magnetron Sputtering "Jpn. J. Appl. Phys.". Vol. 32 (1993), p. 902-906.

74. P. Vanden Brande. Steel coating by self-induced ion plating, a new high throughput metallization ion plating technique. "Jpn. Vac. Sci. Techn." A. 18 (4), 2000, p. 1555-1560.

75. W.M. Posadowski. Plasma parameters of very high target power density magnetron sputtering. "Thin Solid Films", 392 (2001), p. 201-207.

76. K. Macak, V. Kouznetsov. Ionized sputter deposition an extremely high plasma density pulsed magnetron discharge. "Jpn. Vac. Sci. Techn." A. 18 (4), 2000, p. 1533-1537.

77. Гончаров В.Д., Белоус A.JI., Фискин E.M. Технологическое использование модуляции энерговклада магнетронных распылительных систем. // «Вакуумная техника и технология», том 12, №1, 2002, с. 51-54.

78. Хамаев В.А., ХамаеваЛ.В. Новая технология печатных плат на основе полимерной пленки и создание электропереходов без химического травления. //

79. Общество с ограниченной ответственностью МЭШшпосмэш

80. Адрес: 124489, г.Москва, Восточно-коммунальная зона, проезд 4921, стр. 1 Тел./факс: (095) 535-25- 15,534-39-01 E-mail: mash@zelmail.ru

81. Р/счет № 40702810300050000523 в

82. Зеленоградском отделении ОАО МИнБ г.Москвы кор.счет 30101810300000000600 БИК 044525600 ИНН 7735042031

83. T Ionen Strahl Technologie - GmbH Vor dem Gropemtor 20 06484 Quedlinburg www.istechnoIogie.de

84. Tel.: +49(0)39 46 91 58 33 Fax: +49(0)3946 91 58 32 e-mail: info@istechnologie.de

85. Geschäftsführer: Manfred Danziger, Dr

86. Handelsregister: Amtsgericht Magdeburg HRB 11212 Ust-lDNr DE 196 758 166

87. Bankverbindung: Kreissparkasse Quedlinburg BLZ 800 535 02 Konto-Nr 361 361 038 28

88. ФГУП СПО "АНАЛИТ <р> ПРИБОР"2140? 1 г . Смоленск.л. Бабушкина. 3тел. 51-12-42.51-30-77, 51-12-56телефакс 59-07-48телетайп 281206 ПИОН1. Банковские реквизиты:1. ИНН 673 100 2766

89. ОАО "ПСР>" филиал '"Смоленский",г. Смоленск

90. Р сче г 40 502 810 898 000 000 001 ( К/счет 30 101 810 900 000 000 790 БИК 046614790 ОКПО 00226247 ОКВЭД 33.201. Лага 25.01.2005 № 04-73/

91. Главный инженер ФГУП СПО «Аналитприбор»1. Галкин B.C.1. ЪЕРЖДАЮ"

92. Заведующий кафедрой "Наукоемкие технологии радиоэлектроники" ' д.т.н., проф.1. Слепцов В.В.