автореферат диссертации по химической технологии, 05.17.06, диссертация на тему:Фотосенсибилизированная полимеризация диметакрилового эфира триэтиленгликоля в присутствии различных активаторов

ВВЕДЕНИЕ.

1. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.

1.1 .Фотохимическая полимеризация.

1.2 .Источник УФ-излучения.

1.3. Фотохимическиполимеризующиеся системы.

1.4. Инициирование фотохимической полимирезации олигомермономерных систем.

1.5. Фотоинициированная радикальная полимеризация по механизму гомолитического распада инициатора.

1.6. Фотосенсибилизированная радикальная полимеризация путем молекулярного отрыва атома водорода.

2. РЕЗУЛЬТАТЫ И ОБСУЖДЕНИЯ.

2.1. Влияние спектральной энергии излучения различных УФ-источников на фотохимическое отверждение олигоэфир-метакрилата.

2.2. Влияние структуры фотосенсибилизатора на фотохимическую полимеризацию диметакрилового эфира триэтиленгликоля и их активация в присутствии третичного амина.

2.3.ВлИяние структуры амина на фотохимическую полимеризацию

ТГМ-3 инициируемую бензофеноном и 2-хлорантрахиноном.

2.4. Активация процесса фотохимической полимеризации ТГМ-3 инициируемую 2-хлорантрахиноном в присутствии различных спиртов.

2.5. Влияние солей хлоридов металлов переменной валентности на фотохимическую полимеризацию композиции состава

75% ТГМ-3 + 25% триэтиленгликоля.

2.6. Влияние ферроцена и его производных на фотохимическую полимеризацию композиции состава 75% ТГМ-3 +25% триэтиленгликоля.

2.7. Исследования влияния солей хлоридов металлов совместно с ферроценом и его производными на процесс фотохимической полимеризации композиции состава 75% ТГМ-3 +25% триэтиленгликоля. ]90;

2.8. Исследования жизнеспособности и испытания термогравиметрических и физико-механических свойств консервационного покрытия полученных УФ-отверждением.

2.9. Разработка устройства ультрафиолетового излучения и технологии получения консервационного покрытия фотохимическим методом на действующей линии изоляции труб полиэтиленом.

2.9.1. Разработка устройства УФ-излучения. ^

-42.9.2. Разработка технологии приготовления состава для консервационного покрытия.

2.9.3. Разработка технологии нанесения и получения консервационного покрытия методом УФ-отверждения.

2.9.4. Технология применения консервационного покрытия для основного антикоррозионного покрытия и влияние на его свойства.

3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ

3.1 Технические характеристики УФ-источника и схема установки УФ-отверждения на воздухе. 1 *'

3.2.Установка по изучению кинетики отверждения покрытия методом ДМА в среде азота.

3.3.Подготовка образцов при исследовании фотохимической полимеризации с помощью ДМА.

ЗЛИзучение фотохимической полимеризации на воздухе по изменению конверсии связей методом сравнения по ИК-спектрам.

3.5.Исследования спектральных характеристик растворов веществ методом УФ-спектроскопии.

3.6. Определение температуры стеклования и термогравиметрических характеристик покрытий.

-53.7. Определение выхода гель-фракций.

3.8. Определение поверхностной липкости покрытия.

3.9. Определение твердости покрытия и физико-механических свойств.

4.0.Изучение жизнеспособности состава фотополимеризующейся композиции.

ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ

1. Изучение влияния энергии излучения источника УФ-света на фотохимическую полимеризацию ТГМ-3 показало, что интенсивность УФ-излучения в области УФ- поглощения спектра фотоинициатора и олигоэфирметакрилата существенно влияет на полимеризацию. Установлено, что при выборе источника УФ-излучения необходимо учитывать область поглощения фотоинициатора и полимеризующейся системы. Пики эмиссии излучения УФ-источника должны по возможности совпадать в области максимума спектра поглощения фотоинициатора. При этом лампы, имеющие наибольшую дозу излучения в области 200-400 нм поглощения фотоинициатора и полимеризующейся системы, являются более эффективными.

2. Фотосенсибилизированная полимеризация ТГМ-3 в присутствии соединений типа бензофенон и антрахинон зависит от энергетического расположения уровней пя и ля переходов. Необходимым условием полимеризации ТГМ-3, инициируемой фотосенсибилизаторами типа бензофенон, антрон и ксантон, имеющие высокий энергетический уровень пя переходов в области 300-380 нм, является использование восстановителей, типа третичных аминов. Использование антрахинонов, имеющих энергию пя перехода в более, длинноволновой области 300-450 нм является эффективной фотосенсибилизирующей системой в присутствии кислорода воздуха и зависит от электронодонорных свойств заместителя и его положения в молекуле. Использование фотосенсибилизирующей системы антрахинон-амин приводит к дезактивации процесса полимеризации ТГМ-3.

3 .Активация процесса фотохимической полимеризации ТГМ-3 инициируемая бензофеноном, возрастает с увеличением электронодонорных свойств, третичных аминов. Использование первичных и вторичных аминов имеющих наибольшую основность, чем третичный амин приводит к снижению скорости полимеризации. Система 2-ХАХ - амин с увеличением основности третичных аминов приводит к падению активности отверждения ТГМ-3. С ипользованием первичного амина, имеющего более основные свойства, чем третичный, скорость полимеризации дезактивируется в меньшей степени.

4. Использование спиртов как доноров водорода при фотосенсибилизированной полимеризации ТГМ-3 в присутствии 2-ХАХ активирует процесс отверждения олигоэфирметакрилата. Высокая конверсия двойных связей достигается при введении триэтиленгликоля в количестве 25%. Высокая степень конверсии конверсии -ОН групп на начальном этапе полимеризации приводит к изменению скорости реакции почти в два раза.

5.Соли хлоридов металла переменной валентности оказывают различное влияние на изменение скорости полимеризации ТГМ-3. Концентрация солей в композиции от 0,005 до 0,2 масс.ч. ускоряет полимеризацию ТГМ-3, инициируемую 2-ХАХ. При концентрации соли металла 0,1 масс.ч. степень конверсии двойных связей для хлорида цинка возрастает на 5%, для кобальта на 3% и железа 2% по сравнению с исходной при облучении 10 сек. Соль никеля, марганца не ускоряют процесс полимеризации, а соль меди даже ингибирует, снижая скорость отверждения материала

6. Использование органической соли металла переменной валентности ферроцена и его производных повышает константу скорости реакции с 0,021 до 0,038 сек"1. С увеличением электронодонорных свойств, при переходе от диацетилферроцена к дизтилферроцену скорость полимеризации и степень отверждения значительно возрастает. Установлено, что система ферроцен -ТЭГ является активной при действии УФ-света и инициирует процесс полимеризации

ТГМ-3 без 2-ХАХ. Предел активности ферроцена и его производных с 2-ХАХ находится при концентрации от 0,05 до 0,4 масс.ч.

7. Совместное использование солей хлоридов металла и ферроценов приводит к увеличению скорости полимеризации и степени отверждения покрытия в большей мере, чем действия этих катализаторов каждого в отдельности. При этом фотосенсибилизирующая способность системы хлористый цинк с ДЭФ-ТЭГ без 2-ХАХ возрастает по сравнению с системой диацетипферроцена -ТЭГ. Активность ферроценов в данном сочетании с хлоридами металлов растет с увеличением электронодонорных свойств ферроцена. Участие двух фотоинициируемых систем 2-ХАХ и хлористый цинк-ДЭФ-ТЭГ позволяет ускорить процесс отверждения олигомера по всей толщине покрытия и достичь высокой степени отверждения с отсутствием поверхностной липкости.

8. Создание двух инициирующих систем отверждения позволяет получить материал на основе ТГМ-3 с высокими термическими и физико-механическими свойствами. Введение наполнителей молотой слюды и алюминиевой пудры позволяет получать покрытия с высокими защитными свойствами. 9.На основании проделанной работы был создан состав консервационного покрытия (патент РФ №2122560) для Харцызского трубного завода. Разработаны технические условия, технологический регламент приготовления, нанесения и отверждения покрытия на трубах ХГТЗ. Создана проектная установка УФ-камеры отверждения. Проведены опытно-промышленные работы по выпуску труб диаметром 1420 м с наружным консервационным покрытием (Акт проведения испытаний 21.09.92r).

1. Youle М. УФ-отверждение может быть выгодным. // Poly. Painta. Col. S., 1990, v. 180, №4265, p. 502- 506.

2. Гербер В.Д. и др. Фотоотверждаемые акриловые композиции для защиты металлов.// Лакокрасочные материалы и их применение, 1988 , № 4, с. 70-74.

3. Грииценко В.К. Жидкие фотополимеризующиеся композиции.-Киев.: Наукова Думка, 1985 , С. 287.

4. Границы и возможности электроннолучевого и УФ-отверждения.// Oberflache + JOT., 1984, Bd. 24, № 3, s. 42-44.

5. Конференция по радиационно-химической сушке .// Oberflache + JOT., 1983, Bd. 24, №8, s. 21- 24.

6. Современные тенденции развития радиационного отвержедения.// Polym. Paint. Colour J., 1983, v 173. № 6, s. 348-350.

7. Flothman. Комбинированная УФ и ИК-установка со средневолновыми излучателями. // Jndustrie -lackierbetrieb, 1983, Bd. 51, № 6, s. 193-195.

8. Esch. С. UV curing-now and In tre future. //Polym. Paint Colour S., 1983, v. 173, № 4107, p. 79-80. 85.

9. Turner T.A. UV curing in the metal packaging industry.// Jnk and Print., 1984, v. 2. № 2. p. 10-13.

10. Fest M. Trocknung und Hartung Von lackfilmen. // Jnd. Zachierbetr., 1983, Bd. 51, № 10, s. 361-363.

11. Rau M. UV-lakier-Virgahren auf dem Vormasch. // Eine kosten bezogene Vergahrens betra chtung., 1983, Bd. 18, № 10, s. 896-897.

12. Baunrann H. Lichtharfende lacke Farbe und Verbund materialich. // Metallobefbache, 1989, Bd. 43,№ 9, s. 401-406.

13. The bare facts of UV fimishing. // Pigm. and. Resin. Technol., 1991, v.20, № 7, p.10

14. Bean S. Die Stralung strochnung Wird immer interessanter. // Oberflache+JOT., 1984, Bd. 24, № 5, s. 30-31.

15. Zylra Peter P. UV-Trochnung im Bogen und Rollen offsetbereich. //Adhasion, 1983, Bd. 27, № 12. s. 26-28, 35.

16. Vrancken A. Radiation curing in the eighties.// JOCCA., 1984, v.67, № 5, p. 118-124.

17. Заявка № 59-229.34 (Япония). УФ-источники для отверждения покрытий // Мибу Хироаки, Эдзаки Синто.- Опубл. в РЖХ, 1984, № 4, У174П.

18. Dufor Р. // PAP und Kunstof.Verarb., 1978, Bd. 13, № 7, s 45-46.

19. Крисанов В.Ф. Мишин А.П. Выбор эффективного наполнителя металлогалогенных ламп для фотохимического отверждения полиэфирных лаковых покрытий. // Научн. Труд. Московский Лесотехнический институт, 1990 , №229, с. 77-82.

20. Flash Polymerisation: Ебпе Verbesserte Art der Ultraviolerr - Trocknung. // Verpack-Berafer., 1991, № 11, s. 11-18

21. Груздев В .A. и др. // Электронная техника. 1984, сер. 4, вып. 3, с. 18-20.

22. Груздев В.А. и др. //Электронная промышленность ., 1984, № 4, с. 21-23.

23. Скубин В.К. Сазонов А.П. Исследования влияния дозы эффективной области УФ-излучения на скорость отверждения ненасыщенных полиэфиров.// Журнал прикладной химии., 1988, №5, с. 1204-1208.

24. Abadie M.S.M. // European Coatings Journal., 1988, № 5, p. 350-358.

25. Berner B.G. // J. Oil. Col. Chem. ASSOC., 1978, v. 61, p. 105-113.

26. Ledwith A. //J.Oil.Col.Chem.Ass., 1984, v. 61, № 5, p. 118-126.

27. Leslie B.D. //J Radiat. Cur., 1984, v. 11, № 2, p. 19-23.-14228. Aldridge A. D. UV-curing of TO2 pigment coating : of lamps with differing spectralcharacterictics. // J.Radiat. cur., 1984, v.11, № 3, p.1017.

28. Bassi G.L. // Double liaison., 1985, № 361 .C. 382.

29. Charlblon H.L. // J. Polym Sci. Plym. Chem. Ed., 1977, v. 15, № 5, p. 1381.

30. Joung S.E. The curing of organic coatings by high energy radiation processes. // Progress in Org. Coat., 1976, v. 4, № 4, p. 225- 249.

31. Berner G. // J. Radiat. Guring., 1979, v. 6, № 2, p. 24-25.

32. Delzenne G.A. // Europ. Polym. J., 1970, v. 6, p. 933.

33. YoungS.E. // Progress, in Organic Coating., 1976, v. 4, № 4, p.225-245.

34. Велик A.K. Отверждение полиэфирных покрытий фотохимическим способом (Обзор ).-М.: ВНИПИЭ, 1970.-С.50.

35. Gatechair R. //J. Radiation Curing., 1984, v .11, № 7, p. 4-18.

36. Pappas S.P. // Progress, in Org. Coat., 1974, v. 2, p. 333.

37. Halme B.E. // Paint Manufakture ,1975, v.45, № 3, p.916.

38. Матюшова В. Г. Шевчук А. В. и др. Фотополимеризующиеся материалы на основе ненасыщенного полиэфира ПН-301.//Пластические массы.-1977, №6, С.13-15.

39. А.с. 520344 (СССР) .Состав печатной краски / Т.А. Черненко, Ю.А. Иванов, В.С.Шур. Опубл.в Б.И., 1976, №25, с.72.

40. GnoshP.,MitraP.S.//J. Polymer Sci., 1976. v.14. №4, p. 993-1004.

41. Crivello J.V. //Macromolecules. 1977, v. 10, p. 1307.

42. Crivello J.V. // J. Polym Sci., 1979, v. 7, p. 977, 1047, 1059.

43. Ющенко T.C., Уваров А.В. и др. Метод исследования кинетики фотополимеризации в нижнем слое пигментированных пленок.// Высокомолекулярные вещества.-1982.-Т.24,сер А, № 9 , с 1999-2001.

44. Meier К. Radcure Europe 85. // Basel 1985.

45. Ющенко Т.С., Уваров А.В. // Лакокрасочные материалы и их применение.-1980. № 3, с.35.

46. Bassi G.L. Radcure 86. // Baltimore 1986.

47. Appelt В. К. // Polymer Eng. Sci., 1984, v. 25, p.931.

48. Appelt B.K. //J. Biomat Dent., 1987, v. 3, p. 17.

49. Brown P. Ultraviolet radiation cure of coatings. //Metal finishing, 1970, № 2, p.53-56.

50. Нурмухаметов P.T. Поглощение и люминесценция ароматических соединений.-М.: Химия 1971,- 277 с.

51. Шигорин Д.Н. и др. Электронная структура и спектрально-люминесцентные свойства молекул.//Журнал физической химии., 1970, Т. 44, № 11, с. 2681-2701.

52. Барлтрон Д. Возбужденные состояния в органической химии. М.: Мир, 1978,446 с.

53. Шигорин Д.Н. и др.// Журнал физической химии. 1965, Т. 39, № 5, с.235-240.

54. Четкина Л.А. и др.// Кристаллография. 1987 ,Т. 42, № 12, с. 67-70.

55. Шигорин. Д.Н. и др. II Журнал физической химии. 1969, Т. 43, № 6, с. 346-350.

56. Kumao Н. //J. Chem Phys., 1987, v. 86, № 12, p. 6654-6659.

57. Аношин A.H. Электронные колебательные спектры ароматических соединений с гетероатомами.- М.: Наука, 1984, -182 с.

58. Строкач Н.С. Электронно-колебательные спектры многоатомных молекул. М.: Наука, 1982 , -143 с.

59. Горелик М.В. Химия антрахинонов и их производных. -М.: Химия, 1983, -294 с.

60. Левин П.П. и др. Триплетные эксиплексы бензофенона с ароматическими аминами. //Успехи химии. 1987, т. 56, с. 528.

61. Левин П.П.и др. II Известия АН СССР серия химическая. 1987, с. 2367.

62. Кузьмин В.А. и др. //Известия АН СССР серия химическая. 1987, с. 670.

63. Mod. Paint, and Coat., 1991, v. 81, № 6, p. 34-38.-14465. Pigm and resin technol., 1991, v. 20, № 3, p. 17.

64. Hiroshi Y. // Bull.Sap.Soc. Prind. Sci and. Technol., 1991, v. 28, № 3. p.200-214.

65. Скубин B.K. Сазонов А.П. Влияние структуры фотосенсибилизатора на фотохимическую полимеризацию олигоэфирметакрилата и их активация в присутствии третичного амина. // Журнал прикладной химии. 1990, № 9, с.2215-2118.

66. Bartholomew R. F. // J. Chem. Soc., 1971, p. 23-42.

67. Leiberman R. A. // Radiation Curing., 1981, v. 8, № 3, p. 13-24.

68. Berner G. // Journal of Radiation Curing., 1979, v. 4, № 2, p. 2-9.

69. Hulme В. E. //J. Ole Col. Chem. Assoc., 1976, № 59, p. 245-252.

70. Masahara H. // Chem. Fhys. Lett., 1980, v.69, p. 182.

71. Simon J.P. // J. Amer. Chem. Soc., 1981, v. 103, p. 6403.

72. Das. P.K. // J. Chem Soc. Faraday Trans., 1981, v. 77, № 2, p. 1009.

73. By R.F. // J. Chem. Soc. Perkin II., 1972 , v. 11, p. 1860.

74. Шигорин P.H. Электронная структура спектрально-люминесцентные и фотохимические свойства молекул. //Журнал физической химии. 1970, т. 44, № 11, с. 2687-2701 .

75. Шигорин Р Н. Исследование связи между природой, относительным расположением электронно-возбужденных состояний молекул и механизмом их фотохимической дезактивации. //Журнал физической химии. 1972, т. 46, № 12, с. 3065-3069.

76. Кутепов Д.Ф. Редько В.П. Скубин В.К. Исследования процесса сопо-лимеризации ферроценсодержащих ненасыщенных полиэфиров со сти-ролом. // Высокомолекулярные соединения. 1977, т.19 (Б), № 2, с.118-121.

77. Лорковский Х.Д. // Высокомолекулярные соединения. 1973, т. 15(A), с. 314.

78. А. с. № 1664807. (СССР). Состав для получения консервативного покрытия УФ-отверждения.// Скубин В.К. Сазонов А.П. и др., 1991.

79. А. с. № 1487433 (СССР). Состав для покрытий отверждаемого УФ-излучением.// Скубин В.К. Сазонов А.П и др., 1989.

80. Патент № 2085802 ( РФ). Полимерная грунтовка ПМ-00113К и способ ее изготовления. // Скубин В.К. Сазонов А.П. и др., 1997.

81. Патент № 2122560 (РФ). Композиция консервационного покрытия.// Скубин В.К. Сазонов А.П. и др., 1998.

82. Lorhowski H.J. // Fortsch. chem. Forsch., 1967, № 9, p. 207.

83. Галкина М.Д. Сосин С.Л. Коршак В.В. //Высокомолекулярные соединения. 1973 , т. 15(Б), с. 164.

84. Richards J.H. // Paint Technology. 1967, v. 39, № 513, p. 569.

85. Richards J.H. // Paint Technology. 1969, v. 41, № 533, p. 363.

86. Koerner von Gustorf E. //Fortschr. Chem. Forsch., 1969, № 13, p. 366.

87. Fry A. J. Lin R. S. Hammond G. S. // J. Amer. chem. Soc., 1966, v.88, p. 4781.

88. Патент № 1694149 (ФРГ) . Polyester- Form und -uberzugsmasseu. //К. Fuhr, H.Rudolph, H. Schnell. -Опубл. В РЖХ, 1976, № 21, 21Т530П.

89. Заявка № 2259161 (ФРГ) ю Способ получения формованных изделий , пропиток, покрытий и т.п. из составов, отверждаемых под действием УФ-излучения. Опубл. в 1977, 22 декабря.

90. Заявка № 1436443 (Англия). Фотоотверждаемые композиции. Опубл. В Изобретения за рубежом 1976, № 4547.

91. А.с. 606328 (СССР). Способ получения ненасыщенных полиэфиров.// В.К. Скубин В.Н. Музыкантов и др.

92. А.с. 636900 (СССР). Способ получения ненасыщенных полиэфиров.// В.Н. Музыкантов, А.В. Алферов и др.

93. А.С. 675890 (СССР). Способ получения ненасыщенных полиэфиров.// В.Н.Музыкантов В.К. Скубин и др .

94. А.с. 642955 (СССР). Состав для покрытия УФ-отверждения // В.К.Скубин. В.Н.Музыкантов и др.

95. Imoto М. S. // Polym. Soht Polym Lett. Ed., 1974, v. 12, № 21.

96. Imoto M. S.// Chem. Soc. Sap. Chem. and Jnd chem., Опубл. В РЖХ., 1974, № 20 C234.

97. Рейбман А.И. Защитные лакокрасочные покрытия.~М.:Химия, 1982,-320 с.

98. Кузнецов Е.В. и др. Практикум по химии и физике полимеров.-М.: Химия, 1977 ,-256 с.

99. Браун Д. Практическое руководство по синтезу и исследованию свойств полимеров.- М.: Химия, 1976, -256 с.-147106. Ерусалимский Б.Л. и др. Процессы ионной полимеризации.- Л.: Химия, 1974,- 256 с.

100. Липатова Т.Э. Каталитическая полимеризация полимеров и формирование температурных сеток.-К.: Наукова Думка. 1974 , -208 с.

101. Казицына Л.А. Электронные и колебательные спектры поглощения органических соединений.-М.: МГУ им М.В. Ломоносова, 1965, -158 с.

102. Нильсен А. Механические свойства полимеров и полимерных композиций.-М.: Химия, 1978 , с.27-28.

103. Карякина М.И. Лабораторный практикум по испытанию лакокрасочных материалов и покрытий.- М.: Химия, 1977 , 240 с.

104. Богдасарьян Х.С. Исследования в области высокомолекулярных соединений. -М.: Издательство АН. СССР., с. 162.

105. Оудиан .Дж. Основы химии полимеров.- М.: Мир, 1974, 614 с.1. Державний кокмтет УкраУнипо металург1йн1й -149-промисловосл

106. Государственный комитет Украины по металлургической промышленности

107. ХАРЦИЗЬКИЙ ДЕРЖАВНИЙ ТРУБНИЙ ЗАВОД343700, Донеиька обл., м. Харцизьк, вул, Патона, 9

108. Тел. (06257)—96 Ю1, 96302, 96364, 42168 факс. (06257)—456У5

109. Телетайп: 330305 С0К1Л, 115360 ФОТОН Розрахунковий рахунок № 240302 у Харцизь-кому в1дд1л1 Промстройбанку, МФО 334345

110. ХАРЦЫЗСНИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТРУБНЫЙ ЗАВОД343700, Донецкая обл., г, Харцызск, ул. Патона, 9

111. Тел. (06257)—96301, 96302, 96364,42168 Факс. (06257)—45695

112. Телетайп: 330305 СОКОЛ, 115360 ФОТОН Расчетный счет М 240302 в Харцызском отделении Промстройбанка, МФО 3343451. ОТна №01 ^/ГС № df'S-st/

113. Директору ШИИГАЗ Гриценко А.И.У42717, Московская обл., Ленинский р-он, п,Развилка, БНШГАЗг

114. Направляем акт опытно~промышленных испытаний технологии нанесения и отверждения УФ-светом консервационного покрытия на трубы диаметром 1420 мм.1. Директор ХГТЗ1. Ф.С .Дерментли1. Исп.Сковпень Т.П. 9-61-07ч*'1. ЗР"~Гу' 490

115. ХГГ. Зач. -5628-5000 1992 г.1. УТВЕРЖДАЮ инженеросударственного завода1. Таничев А. Г. 1992г.1. АКТпроведения опытно-промышленных испытаний технологии консервации труб для магистральных газопроводов "диаметров1420мм

116. Настоящий акт составлен в том, что на Харцызском государственном трубном заводе в 1992г. проведены опытно-промышленные работы по отработке технологии нанесения и отверждения УФ-светом консервационного покрытия на линии изоляции труб большого диаметра.

117. Для проведения технологических испытаний были представлены:

118. Технологический регламент по приготовлению консервационного состава.

119. Технологический регламент по нанесению консервационного состава .

120. Технические условия на выпуск опытно-промышленной партии труб большого диаметра с фотохимически отвергаемым консер-вационным покрытием.

121. Технология получения труб с фотохимически отвержденным консер-вационным покрытием включала следующие стадии:

122. Приготовление состава композиции консервационного покрытия.

123. Композицию готовили в заводских условиях перемешиванием составляющих компонентов согласно рецептуры состава и технологическому регламенту.

124. Очистика поверхности трубы.

125. Для проведения испытаний использовали трубы диаметром 1420мм с поверхностью предварительно очищенной от загрязнений и ржавчины на дробеметной установке.

126. Нанесение состава композиции консервационного покрытия.- г

127. Композицию наносили методом- налива с последующим выравниванием силиконовым роликом.

128. Отверждение консервационного покрытия.

129. На основании проведенных работ по выпуску опытной партии труббольшого диаметра на линии нанесения покрытий ХГТЗ можно сделать следующие выводы:

130. Разработанная технология нанесения консервационного состава может быть использована в технологическом, потоке на линии нанесения покрытий и обеспечивает возможность получения труб с консервацион-ным покрытием.

131. Опытная установка УФ-облучения позволяет при скорости перемещения трубы 0,5 м/мин достичь отверждения покрытия, позволяющего транспортировать трубы по роликам без видимого визуально повреждения покрытия. .

132. Таничев А.Г.-гл.инженер Сазонов А.П.- и.с. лаборатории

133. Осоченко И.М.- нач. техотдела антикор, покр.

134. Шило В.Ил зам.нач ТЭСЦ-2 пр АКП

135. В соответствии с договором между ВШЩГАЗом и ХГТЗпроводятся работы по созданию консервационного покрытия труб, от-верждаемого УФ-светом. Окончание работ в марте 1992 года. .

136. ВНЙИГАЗом выполнены все этапы календглрного плана работ по договору. ' , • ^

137. Зам.начальника ТЭСЦ-2 по АКП т.Шило В.И. смонтировать УФ-установку. '

138. ВНЯИГАЗ обеспечивает участие специалиста в проведении опытных рабо^ в указанный срок.1. От ВНЙИГАЗа1. Сазонов А.П.1. От КГТЗ1. Осоченко И.М.1. Шило В,И.