автореферат диссертации по химической технологии, 05.17.06, диссертация на тему:Олигоуретанметакрилаты, структурирующиеся под действием излучений низких энергий

"Для служебного пользования"

Экз. № 0 0 0 0 1 1

На правах рукописи

РГВ од

Анисков Алексей Николаев^ 2011

ОЛИГОУРЕТАНМЕТАКРИЛАТЫ, СТРУКТУРИРУЮЩИЕСЯ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИЗЛУЧЕНИЙ НИЗКИХ

ЭНЕРГИЙ

05.17.06 -Технология и переработка пластических масс, эластомеров и композитов

АВТОРЕФЕРАТ

диссертации на соискание ученой степени кандидата химических наук

Per. №И. П.-3.1/18 ДСП

МОСКВА 2000

Работа выполнена на кафедре химии и технологии полимерных пленкообразующих материалов Российского химико-технологического университета имени Д. И. Менделеева

Научный руководитель -<

Научный консультант -

Официальные оппоненты -Ведущая организация -

кандидат химических науч доцент Оносова Л. А.

доктор химических наук, профессор Цейтлин Г. М.

д. х. н. Васнсв В. А. д. х. н. Дорошенко Ю. Е. Ярославский государственный технический университет

Защита диссертации состоится _ •4 ижб/ич ___ на заседании

диссертационного совета Д 053.34.02 в РХТУ им. Д. И. Менделеева (125047, г. Москва, Миусская пл., д. 9) в МА '-£>Б в часов.

С диссертацией можно ознакомиться в Научно-информационном центре РХТУ им. Д. И. Менделеева.

Автореферат диссертации разослан 2000г.

Ученый секретарь диссертационного совета КлабуковаЛ. «1

Актуальность работы. Относительно новым направлением в химии композиционных лакокрасочных материалов является разработка композиций, структурирующихся под действием излучений низких энергий. Указанный метод отверждения предполагает образование с высокими скоростями покрытий на основе полимеризационноспособных композиций под действие излучения диапазона длин волн 400-700 нм. Этот способ отверждения имеет ряд существенных преимуществ перед ионизирующими методами (потоком ускоренных электронов, у-излучением, а- и р-излучением, УФ-излучением): в процессе отверждения не происходит разогрева подложки, что в свою очередь, не приводит к деструкции пленкообразующего; не имеет места озонирование кислорода воздуха; метод характеризуется меньшим потреблением электроэнергии; хорошими экологическими характеристиками.

Несмотря на значительные преимущества данного метода отверждения, существуют определенные проблемы при разработке композиций, отвсрждающихся под действием излучений низких энергий. Одной го таких проблем является выбор фотоинтщиатора полимеризации или фотоинициирующей системы. Относительно не большая часть индивидуальных фотогашциаторов способна поглощать энергию излучения видимого диапазона спектра и достаточно эффективно инициировать реакцию полимеризации в мягких условиях. Как правило, эти фотоинициаторы имеют узкий максимум поглощения в видимой области излучения. В связи с этим требуется в каждом конкретном случае подбор соответствующего источника излучения соответствующего диапазона спектра. То есть, остро стоит вопрос о разработке универсальной системы, способной инициировать реакцию полимеризации под действием источника излучения с широким излучательным диапазоном 400-700 нм

Цель работы. Исследование процессов структурирования композиций на основе олигоуретанметакрилатов под действием излучений низких энергий: включающее изучения влияния типа и количества фотоинициатора полимеризации, фотосенсибилизаторов, входящих в состав фотоинициирующей системы, фотосенсибшшзирутощего действия изоциануратных фрагментов базового плекообразующего (олигоуретанметакрилатаизоцианурата - ОУМИЦ)

на компоненты фотоинициирующей системы, исследование механизмов взаимодействия как компонентов инициирующей системы между собой, так и взаимодействия с изоциануратньши фрагментами ОУМИЦ. И на основании полученных данных разработка композиций, фотополимеризующихся под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 нм.

Научная новизна. Разработана трехкомпонентная фотоинициирующая система,. которая эффективно инициирует реакцию фотополимеризации в мягких энергетических условиях. Исследовано влияние типа и количества фотосенсибшшзирующих добавок, ускоряющих процесс фотодиссоциации фотоинициатора, на скорость и степень реакции полимеризации композиций на базе олигоуретаиметакрилатов. Предложены механизмы взаимодействия компонентов фотоинициирующей системы в условиях облучения в диапазоне длин волн 400-700 нм. Изучено влияние предварительной выдержки как инициирующей системы, так и всей фотополимеризующейся композиции в целом на скорость полимеризации. Получены результаты о фотосенсибилизирующем влиянии изоциануратных фрагментов базового пленкообразующего (ОУМИЦ) на компоненты фотоинициирующей системы и , предложены механизмы этих взаимодействий.

Практическая ценность. Разработана фотоинициирующая система, способная эффективно инициировать реакцию полимеризации композиций различного состава, структурирующихся под действием излучений низких . энергий.

На основе проведенных исследований разработаны оптимальные составы композиций, содержащие пленкообразующие различных тшюв и структур. Высокий комплекс физико-механических свойств покрытий на основе этих композиций обеспечивает их применение в различных отраслях промышленности.

Публикации и апробация работы. По материалам работы имеется 7 публикаций. Результаты работы докладывались на X и ХП Международных конференциях молодых ученых по химии и химической технологии "МКХТ-96" и "МКХТ-98". По материалам диссертации подана заявка на патент РФ № 2000107901 от 31.03.2000 г.

Объем работы. Диссертация состоит из введения, литературного обзора, описания и обсуждения результатов эксперимента, выводов, методик

эксперимента и списка литературы. Работа изложена на _стр.

компьютерного текста, содержит_таблицы и_рисунков.

Литературный обзор посвящен исследованию влияния состава композиций в целом и фотоинициирующей системы в частности на скорость и глубину реакции полимеризации под действием излучений низких энергий.

Закономерности структурирования композиций на основе олигоуретанметакрилатов под действием излучений низких энергий.

Отверждение композиционных материалов под действием излучешш низких энерпш имеет существенную специфическую особенность по сравнению с другими ионизирующими методами излучения - низкие энергетические характеристики диапазона излучения 400-700 нм - 68,1-40,8 ккал/эйнштейн (для УФ-излучешя диапазона 200-380 нм - 190-95 ккал/эйнштейн, для рентгеновского излучения 0.1-30 нм - 285910-953 ккал/эйнштейн). Именно эта особенность в наибольшей степени определяет круг соединений, которые могут использоваться в композициях в качестве фотоинициаторов. Определенные требования, также предъявляются к пленкообразующим, входящим в состав композиций: оптическая прозрачность в диапазоне длин волн 400-700 нм, наличие в структуре полимергоационноспособных ненасыщенных групп, групп снижающих ингибирующее действие кислорода воздуха, а также наличие фотохимическнакшвных хромофор!П>1х групп, способных оказывать фотосенсибилизирующее действие на компоненты фотоинициирующей системы.

В качестве пленкообразующего выбран олигоуретанметакрилатизо-цианурат, имеющий в своей структуре как фотохимическиактивные хромофорные группы, так и группы снижающее ингибирующее действие кислорода воздуха.

В качестве фотошшциаторов были опробованы бензил, бегооин и смесь его эфиров. Бензил имеет в своей структуре две сопряженные

фотохимическиактивные хромофорные карбонильные группы, которые естественно будут определять спектральные характеристики соединения. Наличие сопряжения двух карбонильных хромофоров смещает максимум поглощения в ближнюю область УФ-излучения (рис. 1). Наличие максимумов поглощения бензоина и его эфиров, которые смещены в дальнюю УФ-область, по сравнению с максимумом бензила (рис. 1), подразумевает их меньшую эффективность инициирования реакции полимеризации под действием излучений низких энергий. Данные УФ-спектроскопии подтверждаются полученными значениями максимально достижимых степеней отверждения композиций на базе ОУМИЦ, в которых были опробованы данные фотоинициаторы.

Однако, при этом содержание гель-фракции композиций на основе ОУМИЦ за 30 минут облучения достигает всего 25-45%. Поэтому для более эффективного протекания процесса полимеризации необходимо снижать энергию активации молекул фотоинициатора до значения, сопоставимого с энергией излучения в диапазоне 400-700 нм.

Для этого снижения энергии активации были разработаны и исследовались многокомпонентные фотоинициирующие системы, состоящие из фотоишшиатора радикальной полимеризации и фотосенсибилизирующих добавок, между которыми возможно протекание обменного процесса переноса энергии излучения, приводящего к образованию электронного донорно-акцепторного комплекса (ЭДА).

Специфической особенностью ЭДА-комплексов является переход электрона от донорного компонента к акцепторному в условиях фотовозбуждения контактных комплексов - комплексов с переносом заряда (КПЗ). КПЗ имеет максимум поглощения в длинноволновой области спектра (400-700 нм) и, соответственно, более низкую энергию активации процесса фотодиссоциации инициатора Это достигается добавлением азотосодержащих ускорителей (доноры электронов). Использование фотоинициаторов бензоина, эфиров бензоина и бензила в сочетании с триэтиламином показало, что наибольшее содержание гель-фракции ~71% достигается при введении в композицию фотоинициирующей системы, включающей эфиры бензоина (3%

масс.) и триэтиламин (3% масс.). Поэтому, для дальнейших исследований была взята система состоящая из эфиров бензоина и амина.

В состав фотошпщиирующей системы вводился ряд алифатических (триэтиламин, трибутиламин, триоктиламин), гидроксилсодержащих (триэтаноламин, диэтаноламин, моноэтаноламин) и ароматических аминов (анилин; метиланилин, этиланилин; диметиланилин и диэтиланилин). Сравнение аминов показало, что наибольшим фотосснсибилизирующим действием обладают ароматические амины, так как атом азота в ароматических аминах находится в сопряжении с таким мощным хромофором, как бензольное кольцо. К тому же атом азота находится в одной плоскости с бензольным кольцом. Поэтому, поглощая энергию излучения, ароматические амины с гораздо большей скоростью переходят в возбужденное состояние даже в условиях когда они входят в состав комплекса с переносом заряда. Из ряда ароматических аминов наиболее эффективными являются диметиланилин и диэтиланилин, которые использовались в дальнейших исследованиях.

Многокомпонентные фотоинициирующие системы требуют предварительной временной выдержки вне зоны облучения. В течении данного периода происходит образование контактных ЭДА комплексов, которые в последствии под действием излучения переходят в КПЗ. Предварительной выдержки требует и вся композиция в целом, так как с течением времени происходит образование ЭДА комплексов компонентов инициирующей системы с фотосенсибилизирующими фрагментами пленкообразующего.

Из полученных данных следует, что для повышения степени отверждения покрытий предварительной выдержке следует подвергать сначала тшциирующую систему, а затем композицию. Предварительная выдержка композиции приводит к увеличению содержания гель-фракции на ~ 15-20 %.

Образовавшийся комплекс с переносом заряда можно обнаружить по спектрам поглощения, в которых появляется новая оптическая полоса поглощения, соответствующая образованию комплекса с переносом заряда. Для идентификации комплексов между компонентами инициирующей системы нами был взят интервал поглощения в области длин волн 440-460 нм. После облучения инициирующей системы в спектре пропускания появляется новая

полоса в области 440-460 им, соответствующая полосе образования комплекса с переносом заряда между компонентами системы (рис. 2). Причем интенсивность этой полосы сильно зависит от времени предварительной выдержки инициирующей системы, а также растворителя или смеси растворителей. Наибольшая интенсивность полосы поглощения (пропускания), соответствующей комплексу с переносом заряда наблюдается в системе растворителей серный эфир - предельный углеводород - этанол. Учитывая полученные результаты, можно было бы в дальнейших исследованиях использовать инициирующую систему в данной смеси растворителей. Однако, введение в исследуемые композиции предельного углеводорода приводит к высаждению пленкообразующего из материала. Поэтому в дальнейших исследованиях фотоинициирующая система применялась в виде раствора в метилэтилкетоне. Спектрофотометрические данные полностью согласуются с данными о фотосенсибилизирующей активности аминов различного типа и структуры, полученными на основании максимально достижимого значения содержания гель-фракции.

Исследование влияния фотосенсибилизатора азонитрильного типа, на процесс полимеризации олигоуретанметакрилата циклической структуры.

Другим типом фотосенсибилизаторов, ускоряющих процесс фотодиссоциации инициатора, являются соединения азонитрильного типа, в частности, динитрилазибисизомасляной кислоты (ДАК). Эффективности инициирующих систем эфиры бензоина-ДАК и эфиры бензоина-третичный ароматический амин (диметиланилин) сравнивались по максимально достижимому значению содержания гель-фракции композиций. Переход от инициирующей системы эфиры бензоина-диметиланилин (степень отверждения 76%) к системе эфиры бензоина-ДАК приводит к значительному увеличению степени отверждения покрытий во всем временном интервале облучения (до 85%). Это объясняется образованием ЭДА-комплекса между компонентами инициирующей системы, а затем образовшшем комплекса с переносом заряда в области длин волн 440-460 нм. Смещение спектра поглощения

двухкомпонентной системы эфиры бензоша-ДАК в длинноволновую область спектра по сравнению со спектрами индивидуальных соединений эфиров бензоина и ДАК (рис. 3), а также появление пика при л=460 нм говорит о том, что между компонентами инициирующей системы происходит образование промежуточного комплекса с переносом заряда, который в дальнейшем под действием излучений шпких энергий достаточно эффективно инициирует реакцию полимеризации. При введении в состав инициирующей системы состава эфиры бепзоина-ДАК диметилашшина происходит дальнейшее увеличение содержания гель-фракции покрытии до -97%. В спектрах пропускания этой трехкомпонептной системы в области 430-470 нм (рис. 3), соответствующей образованию комплекса с переносом заряда, наблюдаются два характерных пика, соответствующих образованию комплекса между эфирами бензоина и ДАК (-460 нм), а также комплексу между эфирами бензоина и диметилашипшом (-440 нм) (рис. 3). Следует отметить, что в инициирующей системе также имеет место взаимодействие ДАК и диметиланилина, отражающееся в увеличении интенсивности поглощения азосвязи молекулы ДАК при А.=350 нм (рис. 3). Таким образом в инициирующей системе происходит взаимодействие всех трех ее компонентов, что в итоге приводит к высокому значению степени отверждения композиций. Мехашвмы взаимодействия компонентов фотоинициирующей системы представлены на схеме 1 на странице 12.

Сравнивая данные УФ-спектроскошш с данными по максимально достижимому значению содержания гель-фракции для двухкомпонентной и трехкомпонентной инициирующей системы, можно отметить абсолютную идентичность эффективности фотосенсибилширующего действия аминов различного строешм и типа. Отличием спектров пропускания трехкомпонентных систем является наличие двух полос поглощения в спектре-при Х=460 нм, соответствующей поглощешио комплексу с переносом заряда образованному компонентами ДАК и эфирами бензоина, и при >.=440 нм, соответсвующей образованию комплексу между эфирами бензоина и диметиланишшом.

Изучение влияния изоциануратных фрагментов пленкообразующего на процесс фотоинициированной полимеризации .

Учитывая специфическую структуру олигоуретанметакрилатаизоцианурата нами было сделано правомерное предположение, что олигомер может принимать, участие в реакциях образования КПЗ с компонентами фотоинициирующей системы, которые в свою очередь являются как донорами так и акцепторами. Предположение о сенсибилизирующем действии олигоуретана было сделано именно на основании его структуры, которая представляет собой единую р-п сопряженную систему

ГДЕ- -с-с-о-Л-рсн,

н2 н, ¿Нз

и содержит в своей структуре третичные атомы азота и фотохимически активные карбошшыгые хромофоры. Исследование сенсибилизирующего действия изоциануратного фрагмента на процесс шшщшрования реакции полимеризации проводилось спектральными методами анализа с использованием соединения - трифенилгооцианурата (ТФИЦ), моделирующего звено основной цепи олигоуретанметакрилатаизоциануратана:

после 30 минутного облучешм представлены на рисунке 4. При добавлении к

ТФИЦ компонентов фотоинициирующей системы (рис. 4) происходит смещение максимума поглощения системы от Я=330 нм (соответствующего максимуму поглощения ТФИЦ) в длинноволновую область и наблюдается резкое увеличение интенсивности поглощения при этой длине волны. В области 400500 им, соответствующей области образования переходных комплексов с переносом заряда, появляется расщепленная полоса поглощения около ¡1=450 нм. Одновременно с этим происходит появление полосы в области 550-600 нм, которая соответствует образованию эксимерных форм модельного соединения. Механизмы взаимодействия ТФИЦ с компонентами фотошшцштрующей системы представлены на схеме 2 на страшще 12.

Таким образом гооциануратный цикл является универсальным фотосенсибилизатором в системах, инициирующих реакцию полимеризации под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 нм и может проявлять как донорные так и акцепторные свойства в зависимости от характера компонентов, участвующих в тшциировапии реакции полимеризации.

Композиции, структурирующиеся под действием излучений низких

энергий.

Для получения покрытий с широким диапазоном варьировшшя свойств в зависимости от сферы их применения, нами в дальнейшем, разрабатывались и исследовались композиции различного состава.

Из ряда ненасыщенных соединений, для исследования интенсивности процессов структурирования композиций (содержащих основу: ОУМИЦ и фотошшциирующую систему) нами были взяты метилметакрилат (ММА) и диметакриловый эфир триэтиленгликоля (продукт промышленной марки ТГМ-3). Для композиций, содержащих ТГМ-3 и ММА, существует определенный гаггервал оптимальных концентраций ~ 10-35% масс. Увеличение концентрации сомономеров до 50% масс, сопровождается снижением значений физико-механических свойств покрытий, а также уменьшением степени структурирования. Покрытия на основе композиций содержащих в качестве

сомономера ТГМ-3 характеризуются гораздо более высокой степенью отверждения, чем покрытия, полученные на базе композиций, содержащих ММА. Сходным для композиций, содержащих ТГМ-3 и ММА, являются эффективное дальнейшее доотвержденис покрытий в течении суток в естественных условиях и достаточно высокий комплекс физико-механических свойств; износостойкость ~6-9 г/см2, прочностью при ударе 40-50 кгс*см, эластичностью 1-3 мм и содержанием гель-фракции 80-93%.

Для более широкого диапазона варьирования комплекса свойств получаемых покрытий в композицию вводились олигоуретанметакрилаты различного строения.

Для получения покрытий с высокими физико-механическими свойствами в состав композиций вводились олигоуретанметакрилаты линейного (ОУМ-502) и разветвленного (ОУМ-503) строения. В композицию, содержащую циклотример и фотошшциирующую систему, олигоуретаны вводились в диапазоне концентраций 10-80% масс. Самое высокое значение содержания гель-фракции (95 % масс.) было достигнуто для композиций, содержащих циклотример и смесь олигоуретанов ОУМ-502 и ОУМ-503, Все свойства покрытий с ОУМ-502 и ОУМ-503 характеризуются высокими значениями. Наибольшими показателями свойств обладают покрытия на основе композиций, содержащих олигоуретанметакрилаты различного строения. Наряду с этим они отлетаются наименьшей чувствительностью к ингибирующему действию кислорода воздуха (поверхностная липкость ~0.55-0.58*10"3 г/см2, у композиций с ТГМ-3 ~0.89-0.90*10'3 г/см2), обладают большей износостойкостью (~5-7 г/см2, у композиций с ТГМ-3 ~6-9 г/см2), большей прочностью при ударе (50кгс«см, у композиций с ТГМ-3 40-50 кгс*см), большей эластичностью (1мм, 1-3 мм) и наибольшим содержанием гель-фракции (91-95%, 80-93%).

100 т,% 90

80

70

60

50

40

30

20

10

^50

—О—эйк а • 01 ¿ (arvmú írn идилэшашп» JiP.v»'-l' 1 loraíkHhfor жеюк

. —&~-баа чи-O.lMjíf jACnspaaxeK e/.: //.:

;

360

370

зао

390

400 410 >„нм

Píc 1. УСКлжцы цхмфскдаич гомдвгоров, бскяиг^ сыеся эфпров баооииа и óaooinu 100 Т.34

340 360 380 400 420 440 460 480 500 520. 540

Хам

Рис. 3. УФ-споктры пропускания компонентов инициирующей системы.

90 80 70 60 50 40 30 20 10

^00

/ 4- Н-Ш 1.1..! 4..U

-: -f- - i .... y : .i. :

: ' ; -"i "i ; / ! : ;

• i 6 ! : У; -/

: : / / L—Ó—,

: • : . / / ¡ I ;/cr ийХН . ; ■ ■ ■

- ! i •:■■•■ 1 jí -и ^ ^rl' -r

- • - ры бенэонпр-дфк! яаЦюшнч^-офкр-, ап^к&шюд- - - ■ -.

... : . -j . 7ша1вгон - -

. : : .: . —i ¡., i i i i ¡ i ---L-. i i. i

350

400

450

500 ¿HV, 550 Pie. 2 Стары гюглсшашя кошонзеов инициирующей асгемы в разлдавых ралворигедях

"300 350 400 500 550

Д.нм

Pie 4. УФчпяоры пзг.хшеоа маждьдаго сссшдавш ТФИЦ в сочетании с разлшными КОМПЭЮПФИ ({шоиюшрц^тасцсй асгемы

Механизмы взаимодействия компонентов фотоншщиирующей системы.

эфиры бензоина-диметиланилин

эфиры бегооина-ДАК

^•СОО-

С«, ¿0 ЛЯ

си, сн, —I—я=м-

[Г

т

N

у} н,с~|—сн,

0«Г-Н______^

диметиланилин-ДАК

СН, «Н, Н.С-Н-СН,

—[~Н=М-4—= - N +

-си

1 цс+сн,

_____ и

м' цс-н-си, |||

Схема 1.

1 " цс+сн,

н, -г

«I

N

9«, н,с-н-с

Схема 2. м

Механизмы взаимодействия ТФИЦ с компонентами фотоинициирующей системы.

ТФИЦ-эфиры бензоина

6} сх^А

О

СгГ

ТФИЦ-ДАК

Он О ^ ?«.

он, си,

ТФИЦ-д иметил анилин

адР^-Ь

7 I V* ч»

адр-Р

с1а

3----у

6

ОдР

-- К,» »

ах о.

6Л

XX: :

Выводы.

1. Изучена полимеризация олигоуретанметакрилатаизоцианурата под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 нм и показано, что выход образовавшегося при этом структурированного продукта зависит как от типа и количества фотоинициатора радикальной полимеризации и фотосенсибилизатора, от времени выдержки фотошшциирующей системы и композиции в целом, так и от состава олигомерной части композиции -реакционной способности олигомеров (сомономеров), наличием в них уретановых групп, наличием в структуре пленкообразующих фотохимическиактивных хромофоров, способных оказывать фотосенсибилизирующее действие на компоненты фотоинищшрующей системы.

2. Отмечено, что при полимеризации под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 нм в качестве фотоишщиаторов, входящих в состав фотоигащиирующей системы следует использовать карбонилсодержащие фотошшциаторы, которые в сочетшгаи с фотосенсибилизаторами различного типа и структуры приводят к значительному увеличению эффективности процесса полимеризации композиций.

3. Установлено, что из фотосенсибилизаторов аминного типа наиболее эффективны третичные ароматические амины, превосходящие по своему фотосенсибилнзирующему действию как гидроксилсодержащие, так и алифатические амины. При этом оптимальная концентрация их в композиции не превышает 5% масс.

4. Показано, что в случае полимеризации под действием излучений низких энергий степень отверждения покрыпш возрастает, если перед облучением подвергать предварительной выдержке композицию на подложке в течении 30 минут.

5. Полученные результаты исследований показали, что использование в качестве фотосенсибилизатора, дишггрила азобисизомасляной кислоты (ДЛК),

взамен ароматического амина, приводит к увеличению эффективности процесса полимеризации композиций, содержащих ОУМИЦ.

6. Для увеличения скорости процесса полимеризации и степени структурирования покрытий в состав фотошшцииругощсй системы эфиры бензоина - ДАК целесообразно вводить третичный ароматический амин. Это приводит к дальнейшему увеличению содержания гель-фракции, так как в фотошшциирующей системе эфиры бснзоина:ДАК:третичный ароматический амин происходит взаимодействие между всеми тремя компонентами.

7. Спектрофотометрические исследование влияния типа амина, вводимого в состав фотошшциирующей системы эфиры бензоина - ДАК - амин показали, что наиболее эффективными фотосенсибилизаторами являются третичные ароматические амины (диметиланшган и диэтиланилин), а полученные ряды эффективности аминов (алифатичских, гидроксилсодержащих и ароматических) полностью идентичны рядам полученных при исследовании двухкомпонентных систем фотошшциатор-амин.

8. Полученные результаты исследований, проведенные с помощью УФ- и ИК-спектроскопии, показали, что изоциануратный цикл ОУМИЦ является универсальным фотосенсибилизатором в системах инициирующих реакцию полимеризации под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 пм и может проявлять как донорные так и акцепторные свойства в зависимости от характера компонентов участвующих в инициировании реакции полимеризации.

9. Разработанная трехкомпонентная инициирующая система состава фотошшциатор (смесь эфиров бензоина)-ДАК-диметиланилин может использоваться в композициях различного состава и под действием излучений низких энергий в диапазоне длин волн 400-700 нм способна эффективно и с высокими скоростями инициировал, реакцию полимеризации.

10. Показано, что максимальные результаты по скорости и степени отверждения, а также наибольшие значения комплекса физико-механических свойств, были получены для композиций, содержащих основу (ОУМИЦ и фотоишщиирующую систему) и олигоуретанметакрилаты различной структуры, линейный ОУМ-502 и разветвленный ОУМ-503. Установлено, что диапазон

концентрации олигомеров вводимых в композицию очень широк 10-80 % масс., что позволяет в широких пределах варьировать свойства получаемых покрытий.

Основное содержание диссертации изложено в работах.

1. Оносова JI.A., Анисков А.Н., Соболев С.В. Олигоуретанметакрилаты, структурирующиеся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов X Международной конференщш молодых ученых по химии и химической технологии "МКХТ-96".-М., 1996, с. 74.

2. Оносова JI.A., Анисков А.Н., Фатуев A.B. Пигментированные олигоуретанметакрилаты, структурирующиеся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов I Международной научно-технической конференщш "Актуальные проблемы химии и химической технологии"(Химия-97).- Иваново, 1997, с. 95-96.

3. Оносова Л.А., Анисков А.Н., Фатуев A.B. Композиции, отверждающиеся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов XI Международной конференщш молодых ученых по химии и химической технологии "МКХТ-97",- М., 1997, с. 50.

4. Оносова JI.A., Анисков А.Н., Туров Е.В. Ненасыщенные олигоуретанметакрилаты, структурирующиеся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов ХП Международной конференщш молодых ученых по химии и химической технологии "МКХТ-98",- М., 1998, ч. 2, с. 15.

5. Оносова JI.A., Анисков А.Н., Цейтлин Г.М. Композиции на основе ненасыщенных олигоуретанметакрилатизоциануратов.// Тезисы докладов Международной конференщш "Композит-98".- Саратов., 1998, с. 21.

6. Оносова JI.A., Анисков А.Н., Платонова H.A. Композиционные материалы на основе олигоуретанметакрилатов, структурирующиеся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов ХШ Международной конференщш молодых ученых по химии и химической технологии "МКХТ-99".-М., 1999,ч.2, с. 16.

7. Оносова JI.А., Анисков А.Н., Цейтлин Г.М. Полимеризационноспо-собные композиции, отверждакяцисся под действием излучений низких энергий.// Тезисы докладов 111 Международной научно-практической конференции "Лакокрасочные материалы XXI века",- М., 1999, с. 46.