автореферат диссертации по радиотехнике и связи, 05.12.21, диссертация на тему:Процессы формирования низкопористых анодных оксидных пленок металлооксидных печатных плат

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ПО ВЫСШЕМУ ОБРАЗОВАНИЮ ЮАНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ им. А. Е ТУПОЛЕВА

ПРОЦЕССЫ ФОРМИРОВАНИЯ НИЗКОГОРИСТЫХ АНОДНЫХ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК ШАЛЯООКСЙДНЫХ ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ

Специальность 05.12.21 "Радиотехнические системы специального назначения, включая технику СВЧ и технологию их производства"

Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук

На правах рукописи Для служебного пользования

Экз. N -//

АХМАДЕЕВ Марат Мансурович

УДК 621. 395. б. 049.75:621. 794. 6

Казань - 1995

Работа выполнена в Казанском государственном техничес университете им.А. Е Туполева.

■доктор технических наук, профессор Ю. П. Ермолаев кандидат химических наук, доцент В. X. Сайфуллин : доктор технических наук, профессор И. К. Насьфов; кандидат технических наук; Л. Н. Кудрявцев , Казанский научно-исследоЕательс институт радиоэлектроники, г. Каг

ОкТяСрЬ 1995 г. в _ час. _ к на заседании диссертационного совета КР 063. 09.02 в занском государственном техническом университете им. А. Н. Тз лева.

Адрес КГГУ : 420111, г.Казань, ул. К. Маркса, 10.

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке КГТУ.

Автореферат разослан 1995 г.

Научные руководители:

Официальные оппоненты

Ведущее предприятие -

Защита-состоится "_"

Ученый секретарь диссертационного совета, кандидат технических наук, доцент С^^/к^ А'Ко!

- 1 -

1. ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ

Актуальность темы.

В настоящее время состояние уровня развития электронной эхники таково, что рынок печатных плат в ближайшие годы будет асширяться как в сторону увеличения объема их производства, жи в направлении поиска новых конструкторско-технологи-эских решений, позволяющих повысить геплоотвод, решить эколо-дческие проблемы, связанные с их производством, эксплуатацией утилизацией вышедших из строя печатных плат.

Одно из перспективных 'направлений - это печатные платы на эталлических основаниях. Здесь основная проблема - получение здежной и простой в технологическом плане изоляции.

Применение анодных оксидных пленок алюминия в качестве золирующего слоя печатной платы на металлическом основании в истом виде невозможно из-за пористой структуры окисла. Позто-у представляет интерес изучение процессов синтеза анодных ксидных пленок микродуговым анодированием, в расплавах солей итратов натрия и калия с целью их применения в качестве изо-ирующих слоев в печатных платах на металлических основаниях, иодирование в кислородосодержащих расплавах привлекает внима-ие специалистов с позиций формирования низкопористых оксидных доев в обезвоженных электролитах при высоких (около 300 гра-усов Цельсия) температурах.

На сегодняшний день не создано металлооксидных печатных дат, где бы в качестве изолирующего слоя использовали анодный ксид алюминия в "чистом" виде.

Поэтому направление исследований в технологии печатных лат на металлических основаниях с изолирующими слоями, сфор-ированными на сплавах алюминия в расплаве солей нитратов нат-ия и калия, является актуальным.

- 2 -

Цель работы и задачи исследования.

Целью работы является уменьшение пористости аноднь оксидных пленок, сформированных на алюминиевых сплавах в рас плаве солей.

Достижение указанной цели предполагает решение следующк основных задач:

1. Определение области проводимых исследований: выбор мз териалов основания платы и способа ее подготовки, режимов анс дирования.

2. Создание экспериментальной установки для анодного-мин родугового оксидирования в расплаве солей и анализ погрей ностей ее основных параметров.

3. Исследование процессов анодно-микродугового оксидирс вания алюминиевых сплавов в расплаве солей нитратов натрия калия.

4. Исследование основных электрофизических свойств ано] ных оксидных пленок.

5. Построение экспериментально-аналитической модели pací ределения_ плотности вероятности толщины оксидной пленки i подложе.

6. Разработка процесса формирования низкопористых анодш оксидных пленок на алюминиевых сплавах в расплаве солей.

Основные методы исследования.

При решении поставленных задач использовались потенц остатические и динамические методы исследования кинетики ало, ных процессов. Электрофизические свойства анодных оксидн пленок исследовались рентгенофазовыи и электронномикроскоп ческим методом, гравиметрическим, резонансным методами. Д построения экспериментально-аналитической модели толщи использовались полигауссовы методы.

Научная новизна работы заключается в следующем:

1. Исследованы процессы анодно-микродугового оксидирова-1я алюминиевых сплавов в расплаве солей нитратов натрия и катя, в' результате чего определена стадийность формирования гсидных покрытий.

2. Исследованы основные электрофизические свойства анод-гл оксидных пленок, установлена их взаимосвязь с режимами юдирования.

3. Показано, что анодные оксидные пленки имеют сложное югослойное многофазовое строение с модификациями, соот-ггствуюшими типа шпинели, -, ? А1а0г.

4. Раскрыт механизм формирования низкопористых анодных ссидных пленок, на алюмомагниевнх сплавах в расплаве солей ■ггратов натрия и калия.

5. Разработана экспериментально-аналитическая модель рав-эмерности толшны оксидной пленки по подложке на основе поли-гуссовых методов.

Практическая ценность работы заключается в следующем:

- Разработан процесс изготовления металлооксидных печатных плат на алюмомагниевых сплавах, отличающийся от известных способов тем, что формирование рисунка электронной схемы производится непосредственно на анодной оксидной пленке.

- Разработаны режимы формирования низкопористых анодных оксидных пленок.

- Разработана и создана.установка для анодного микродугового оксидирования в расплаве солей.

- Создана экспериментальная установка и разработана методика исследования электрической прочности анодных оксидных пленок различной толщины и шероховатости.

- Определены • режимы формирования анодных оксидных пленок для подложек ГИС СВЧ и абразивных материалов на основе

• 4 -

ашамомагниевых сплавов. " ■

- Предложен способ формирования равномерной по толщга анодной оксидной пленки на основе разработанной экст риментально-аналитической модели.

Реализация результатов.

' Теоретические и практические результаты работы внедрены ГП "Радиоприбор" (г.Казань) и Научно-исследовательской лабор; тории КГТУ им. А. Е Туполева (г. Казань), где созданы промышле! ные установки для анодного микродугового оксидирования мета лов и сплавов в расплаве солей, используемые в технологии м< таллооксидных печатных плат, ГИС СВЧ,' абразивных материало: а также в учебном процессе.

Апробация работы.

Основные результаты работы докладывались и обсуждались Международной научно-технической конференции "Интеранод-9 (г.Казань, 1993 г.); Всесоюзной научной конференции "Физи окисных пленок" (г.Петрозаводск, 1991 г.);-Межотраслевом'нау но-техническом семинаре "Электрохимическая алюмооксидная те нология создания микросхем" (г.Минск, 1991 г.); Зональной н учно-технической конференции "Современные проблемы коррозии защиты металлов от коррозии в народном хозяйстве" (г.Уфа, 19 г. 1; Межреспубликанской конференции "Состояние и перспектк развития основных направлений' радиотехнологии и спецмашинос роения" (г. Казань, 1988 г.); Республиканском научно-тех* ческом семинаре "Анодное окисление алюминия и его практичеср примение" (г.Казань, 1988 г.); Межреспубликанских Туполеве^ чтениях (г.Казань, 1985 г.); научно-технических конференщ КГТУ(КАИ) им. А. Е Туполева (г. Казань,1989,1992,1993 и 1994гг.

- Б -

Публикации.

По теме диссертации опубликовано 12 печатных работ, полу-гн 1 Патент РФ.

Структура и объем работы.

Диссертация состоит из введения, пяти глав, . заключения, лиска литературы из 152 наименований и приложений на 28 етра-адах, содержит 102 страницы машинописного текста, 27 рисунков 3 таблиц. Общи объем работы составляет 130 страниц машино-лсного текста.

На защиту выносятся:

1. Кинетические зависимости и механизм процесса анод-э-микродугового оксидирования алюмомагниевых сплавов в расп-аве солей нитратов натрия и калия.

2. Свойства анодных оксидных пленок, полученных на раз-ичных стадиях формирования.

3. Экспериментально-аналитическая модель распределения лотности вероятности толщины анодной оксидной пленки по подожке.

4. Установка для анодно-микродугового оксидирования в асплаве солей и анализ погрешностей ее основных параметров.

5. Разработанный процесс изготовления металлооксидных пе~ атных плат, отличающийся-от ранее известных способов тем,. • что ормирование рисунка, соответствующего электронной схеме, про-вводится непосредственно на анодном оксидном покрытии.

- 6 -

2. СОДЕРЖАНИЕ РАБОТЫ

Во введении обоснована актуальность темы исследований проблемы технологии металлооксидных печатных плат; определен цель и основные задачи работы; приводится структура работы.

В первой главе приведены результаты анализа исследовани и патентных решений в области технологии металлооксидных пе чатных плат с изолирующими слоями, полученными анодным оксиди рованием.

Дается анализ состояния рынка печатных плат. По мнеш зарубежных специалистов, промышленность по производству печат ных плат в ближайшие годы будет интенсивно развиваться, так я как и подготовка специалистов в этой области. Наибольшие темп роста в общем объеме производства составляют многослойные печатные платы с поверхностным монтажом. Среди главных тендем ций развития технологии печатных плат можно считать применена металлических оснований в ГКО и печатных платах с целью эффеь тивного отвода тепла, утилизации отходов вышедших из строя га чатных плат и создания термостойких оснований печатных плат

Основная проблема' - создание простой и надежной в технс логическом плане изоляции. Существующие способы получения изс лируюшх слоев в печатных платах на металлических основанш не позволяют получить качественную и простую в технологическс плане изоляцию. Формируемые в водных растворах электролите анодные оксидные пленки имеют в большей или меньшей степе! поры, не позволяющие непосредственно^ наносить слой металла 1 - оксидный слой, для чего используют различные наполнители сложные режимы анодирования в нескольких электролитах с посл^ дующим напылением.

Специалистов привлекает возможность получения плотн оксидных пленок в расплавленных электролитах. Как показал ан лиз литературы, наиболее подходящим является кислородосодерж

[ая эвтектическая смесь солей нитратов натрия и калия. Иссле-;ования по анодированию в расплавах в доискровом режиме уж роводились. По анодно-искровому анодированию алюминиевых плавов в расплаве солей нитратов натрия и калия патентной ли-ературы не обнаружено. Поэтому направление технологии метал-ооксидных печатных плат с изолирующими слоями, полученными нодно-искровым электролизом можно считать актуальным.

Во второй главе представлены материалы по исследованию роцессов формирования анодных оксидных пленок в расплаве соей нитратов натрия и калин.

Обоснован выбор материалов оснований и способ подготовки оверхности печатных плат перед анодированием. Показано, что аиболее перспективным материалом с точки зрения применения в ИС СВЧ и металлооксидных печатных платах является оксид алю-иния, причем его высокотемпературная модификация (альфа, бе-а) с добавлением шпинели типа М^А^О^.

Определены границы изменения режимов формирования оксид-ых пленок и методика исследований.

Описана созданная экспериментальная установка для анодно-микродугового оксидирования в расплаве солей и сделан анализ огрешностей ее основных параметров. Сделан вывод,что при ано-ном микродуговом оксидировании подлозкек температура расплава конце процесса больше, чем в его начале, и это не нарушает1 словий формирования качественных оксидных пленок и не вызыва-т увеличения погрешности измерения потенциала формирования.

Приводятся данные по потенциодинамическим исследованиям роцессов анодного поведения алюминия марки АД1М и сплавов МГ2 и АМГ6. Зависимость плотности тока от потенциала формиро-ания была получена для образцов с химической и электрохими-:еской подготовкой поверхности. Диапазон изменения скорости :отенциостатирования составил 0,057. ..1,42 В/с. Кривые снимаясь в пределах температуры расплава 240... 340 °С.

Установлено, что формирование анодной оксидной пледа происходит по стадиям: ионизация, пассивация, область доискрс вого анодирования, область анодно-искрового анодирования, о£ ласть анодно-микродугового оксидирования и дуговой разряд сопрововдащийся разрушением образца.

Анализ экспериментальных данных показал, что после элекз рохимического полирования подложи первый пик плотности токг соответствующий потенциалу пассивации, не наблюдается. Устс новлена температурная зависимость потенциала "зажигания" ись рового разряда и вторичной перепассивации, а также их связь составом сплава.

Показано, что с повышением температуры расплава "хара} терные" потенциалы сдвигаются в область больших значений, увеличением скорости поляризации от 0,057 В/с до 1,42 В/с пс тенциал первичной пассивации возрастает от 5 В до-40 В.; Поте! циалы,соответствующие "пикам" в.области искрового и микродугс вого разряда составляют,соответственно, 110+0,8 В и 130+1,9 ]

Были получены данные по зависимости "плотность тока время потенциостатирования" и "частота анодно-искровых разр! дов - время потенциостатирования". Анализ кривых показал, ч^ для завершения формовки анодной оксидной пленки время выдерм подложки при конечном потенциале формирования должно быть 1

менее 30 мин, при этом происходит спад плотности тока до зн;

2

чений 1... 10 мА/см .

В третьей главе изложены результаты исследований основн электрофизических свойств анодных оксидных пленок, сдел комплексный анализ их по параметрам процесса и установлен м ханизм формирования низкопористых оксидных пленок.

Исследован фазовый состав анодных оксидных пленок установке рентгеноструктурного анализа ДРОН-ЗМ способом нако ления информации и сканирования образца. Данные по рентгеноф "зовому анализу представлены в табл.1.

Таблица 1

базовый состав анодных оксидных пленок при различных потенциалах формирования (сплав АМГ2)

Потенциал формиров. 30 В 80 В 100 В НОВ 120В 130В 140В

Фазовый состав MgAl2CV MgAljO« /-АЦ0, MgAljOf /-АЬО, MgAl tO( х 3H»0 p-AhQ, х Н20 (AhOr х На0) ?-А120г x 3H20 /•AI« Qi Mg-A 1г0( ?-A120j x ЗНг0 ß-AltO x H20

Исследована пористость анодных оксидных пленок электрографическим и гравиметрическим методами, которая составляет ]... 2% от общего объема пленки в зависимости от режимов формировании. ;■ .-, ...

На основе. злектронномикроскопических исследований уста-говлено, что анодные оксидные пленки, сформированные на под-яожках из алюмомагниевых сплавов в рекиме анодно-микродугового оксидирования в расплаве солей нитратов натрия и калия, имеют

о

яизкопористуто структуру с диаметром пор в среднем 2.-.. 3 А.

Толщина оксидных пленок измерялась микроинтерферометром Линника МИИ-4 и вихревым толщиномером ВТ-ЗОН. Установлено, что з переходом в область анодно-искрового анодирования общая тол-дана оксида растет, вместе с тем, толщина оксида, образованного в области доискрового анодирования, уменьшается; прирост происходит за счет образования анодно-искрового слоя. Зависимость добротности от частоты была исследована на приборе Е9-4.

Анализ данных показал, что снижение диэлектрической проницаемости до 4... 5 в области анодно-искрового анодирования возможно из-за "переходной" объемно-пористой структуры оксида. Для получения диэлектрической проницаемости, близкой к 9,6, необходимо формовку производить в режиме анодно-микродугового оксидирования.

Для исследования электрической прочности была создана

экспериментальная установка и разработана методика, позволяющая получать данные по напряжению пробоя для оксидных пленок различной толщины и шероховатости. Обнаружена униполярность оксидных пленок в момент пробоя и смена проводимости на противоположное значение в области анодно-искрового анодирования.

Основные электрофизические свойства-анодных оксидных пленок, сформированных на АД1М, АМГ2 и АМГ6 сведены в табл.2.

Таблица 2

Основные электрофизические свойства анодных оксидных пленок

1 1 |Сплав| с1, 1 1 Суд, |ипр, | Епр, Яа-Кг, 1 1 £3, |диэл. | 1 порис- |

1 I 1 | мкм ПФ/СМ| В | МВ/см 1 | мкм 1 МГц|прон. | 1 | тость,%|

1 1 1 АД1М) 1 | 15 1 1 566 | 300| 0,2-1,2 1 ] 0,1-10 I ! 80 | 8-10| 1 | 0-2 1

1 1 | АМГ2| 1 1 80 1 ! 106 |110010,14-1,5 1 ] . 0,5-80 1 I 60 |5-9,8| 1 | 0-2 |

1 1 | АМГ6| 1 1 "00 I 1 42 |1600|0,08-1,4 | | 1,0-200 1 1 40 |4-9,6| I 1 0-2 | I

На основании комплексного анализа свойств и параметров процесса раскрыт механизм анодно-микродугового оксидирования алюминиевых сплавов в расплаве солей нитратов натрия и калия.

Установлено, что в начальной стадии происходит ионизация алюмомагниевого сплава:

А1 -> А1 + Зе ; Мд -> Мд + 2е

После прохождения потенциала пассивации начинается рост анодной оксидной пленки:

г. г> 2.

А1 + 0 -> А1г0^ ; Ме + О -> М£0

Двухзарядный ион кислорода поступает на анод в результате термической (электрохимической) диссоциации:

N0^ -> N0* + о8"

- и -

Отличительной особенностью анодирования в расплаве нитра-'ов натрия и калия является то, что ионы 0 поступают на анод ( чистом виде, то есть они не окружены гидроксильными группами >Н , это и обуславливает формирование плотного низкопористого шодного оксида.

Образование шпинели происходит в результате реакции:

А120* + К^О ->

Определены режимы формирования низкопористых анодных жсидных пленок.

В четвертой главе предложен экспериментально-аналити-юский метод определения вероятностных характеристик толщины шодных оксидных пленок.

Дается обоснование применения выбранного емкостного мето-1а для измерения толщины анодных оксидных пленок.

Сделан анализ распределения емкости измерительных кон-1енсаторов, образованных на анодной оксидной пленке. На осно-зании предположения, что при анодировании различные участки юдложки находятся на неодинаковой глубине оксидировочной ван-ш, будет иметь место гауссовское распределение емкости конденсаторов на отдельно взятых условно-дискретных зонах. 1 Полностью распределение емкости по подложке опишется смесью га-/ссовских - полигауссовым распределением. Плотность , вероятности распределения емкости измерительного конденсатора по мате запишется в виде: 2

м ьг <

I У («

Здесь () - глубина условно-дискретной зоны; - среднеква-дратическое отклонение емкости измерительного конденсатора по плате; Шс~ среднее значение емкости измерительного конденсато-

ра по плате; С - емкость измерительного конденсатора; - за кон, устанавливающий положение условно-дискретных зон на опре деленной глубине электролита.

Было сделано функциональное преобразование случайной ем

кости в толщину: .г

ы % -Г

(2.

где т«1 - соответственно, среднеквадратическое отклонение . среднее значение толщины анодной оксидной пленки по плате

- весовой коэффициент, причем:

/V

■ I й -'

«г/

- диэлектрическая постоянная; £ - диэлектрическая проницае мость анодной оксидной пленки; ¡> - площадь перекрытия обкладо измерительного конденсатора.

Полученное выражение (2) является полигауссовой плот носгыо распределения толщины анодной оксидной пленки по плат и после экспериментального определения оценок параметров га уссовских составляющих может быть использовано для управлени технологическим процессом получения анодных оксидных пленок заданными толщиной и равномерностью по плате.

Исследованы различные способы получения анодных оксиднь пленок: с полным погружением в электролит, импульсный и лине{ ный режим анодирования, с перемещением платы. Установлено, чч сканирование образцам процессе анодирования снижает неравнс мерность толщины до 2...8 раз.

Пятая глава посвящена разработке процесса получения ш таллооксидных печатных плат.

Исследованы процессы образования оксидных пленок в скво; ных отверстиях печатных плат на алюминиевых основаниях. Уст<

овлено, что после операций предварительной подготовки и ано-ирования диаметр исходного отверстия изменяется, поэтому не-бходимо делать корректировку при их сверлении или вырубке, огласно табл. 3.

Таблица 3

Изменение параметров отверстий после операций предварительной подготовки и анодирования

Диаметр отверстия, мм

исходного после сверления предварит, подготовки анодирования

0,5 0,52+0,10 0,54+0,05 0,49+0,02

1,0 0,97+0,10 0,99+0,08 0,93+0,05

2,0 2,08+0Дб 2,10+0,10 2,05+0,08

Описан процесс изготовления метадлооксидной печатной пла-ы на алюмомагниевых сплавах, отличающийся от известных епосо-ов тем, что формирование рисуика электронной схемы произво-ится непосредственно на оксидном слое, что достигается благо-аря его ниэкопористой структуре. 11а способ изготовления пе-;атной платы получен Патент РФ N 2022496.

Реализованы элементы ГИО СВЧ на анодированных подложках, ;елитель мощности, согласующие трансформаторы. Исследования ;обротности и диэлектрической, проницаемости проводились в Тц-ом диапазоне частот методом полуволнового резонанса. Полу-енные данные свидетельствуют о перспективности использования йодированных в расплаве солей подложек в ГИС СВЧ диапазона за :чет их функциональности и пониженной (до б раз) себестои-гости.

Изготовлены абразивные инструменты с продольным и враша-■ельным движением. Микротвердость измерялась согласно ГОСТ 1450-76 на микротвердометре ПМТ-3, полученные данные свиде-■ельствуют о том, что микротвердость анодных оксидных пленок ie уступает алмазу. Шероховатость определялась профилогра-ром-профилометром модели 252 на длине трассы 6 мм. Шероховатость оксидных пленок можно изменять'от Ra 0,1 до Rz 200. К

нерешенным проблемам относится хрупкость анодно-искрового по? рытия.

Заключение содержит основные результаты диссертационнс работы.

В приложении приведены акты, подтверждающие внедрение ре зультатов диссертационной работы, а также дополнительные ш люстрации, таблицы, фотографии.

3. ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ РАБОТЫ

Основными результатами диссертационной работы являются:

. 1. Разработана установка для анодно-микродугового оксид рования алюминиевых сплавов в расплаве солей и сделан анал погрешностей ее основных параметров. Установлено, что при и менении температуры расплава от 240°С до 340°С качество форм руемых оксидных покрытий не ухудшается, относительная погре ность" измерения потенциала формирования не превышает +0,8%.

2. Исследованы процессы анодно-микродугового оксидиров ния алюмомагниевых сплавов в расплаве солей нитратов натрия калия, в результате чего определена их стадийность. Установа но, " что процесс формирования анодных оксидных пленок проио дит по следующим стадиям - ионизация, пассивация, область } искрового анодирования, анодно-искровое анодирование, анс но-микродуговое анодирование с переходом в дуговой разряд.

3. Исследованы структура и основные злектрофизтеа свойства оксидных покрытий, установлена их связь с режим; анодирования.

4. Раскрыт механизм анодно-микродугового оксидирова]

люмомагниевых сплавов в расплаве солей нитратов натрия и ка-ия. Установлено, что существенное (в 9. ..10 раз) снижение по-истости анодных оксидных пленок, сформированных в расплаве злей нитратов натрия и калия, до значений 2... 3 А, по сравне-ию с анодированием в водных растворах электролитов (по-ястость 25... 30 А), достигается за счет участия чистого двух-зрядного иона кислорода в формировании оксидной пленки.

5. Построена экспериментально-аналитическая модель рас-эеделения плотности вероятности толщины анодных оксидных пле-ж по плате (подложке), . позволяющая управлять процессом формования равномерных по толщине оксидных пленок.

6. Разработан и внедрен процесс изготовления металловидных печатных плат, обеспечивающий формирование рисунка яектронной схемы непосредственно на анодном оксиде.

Основные положения диссертации опубликованы в работах:

1. Сайфуллин В.X, Ахмадеев ЕЕ', Зуев A.B. Исследование груктуры и свойств анодных оксидных пленок на сплаве алюминия МГ5, сформированных в смеси расплавленных нитратов щелочных эталлов. // Тезисы докладов Республиканского научно-техни-эского семинара "Анодное окисление алюминия и его практи-эское применение". - Казань: КАИ, 1988. - С. 165.

2. Ахмадеев Е М. , Сайфуллин В. X. Исследование технологи-эского процесса анодного оксидирования подложек на основе плава алюминия АМГ6 в расплавах KMOj- NaNOj.//Тезисы докладов эйфеспубликанских Туполевских чтений. - Казань : КАИ, 1988. -.132.

3. Исследование технологического процесса анодного окси-ирования подложек на основе сплава АМЦ2 в расплаве солей KNO^

NaNOj. /Сайфуллин В. X. , "Ахмадеев М. Е , Стрельник Ю. В., Зуев . В. , Ахтямов Р. А. // Тезисы докладов Межреспубликанской конфе-энции "Состояние и перспективы развития основных направлений

радиотехнологии спецмашиностроения". - Казань, 1988.- С. 48.

4. Исследования кинетики анодного оксидирования сплаЕ АМГ6 в расплавленной эвтектической смеси KNO,- NaNQ?.// Тезис доклалия. / Сайфуллин В. X , Ахмадеев М. М. , Зуев А,3., ГалееЕ Л. X // Тезисы докладов Зональной научно -технической конферен ции "Современные проблемы коррозии и зашиты металлов от коррс зии в народном хозяйстве". - Уфа: УАИ, 1990. - С. 73.

5. Сайфуллин В. X, Ахмадеев М. М. Исследование электру ческой прочности анодных оксидных пленок, сформированных и сплавах алюминия Д16, АМЦ, AMT в расплаве солей KNO*- NaNO/./ Тезисы докладов Всесоюзной научной конференции "Физика окиснь пленок", - Петрозаводск: ПТУ, 1991,- С. 73.

6. Пат. N 2022496 (РФ) Ш(И Н 05 К 3/00. "Способ изгото! ления печатной платы". / Сайфуллин В. X , Ахмадеев М. М. , Стрел! ник Ю. В., Галимов И. М. // Б. И. N 20, 1994.

7. Сайфуллин В. X , Ахмадеев М. М. Исследование анодног оксидирования сплава АМГ6 в расплаве солей KNO,?- NaNO/ для ог тимизации процесса получения металлооксидных печатных плат. / Тезисы докладов межотраслевого научно-технического семина{ "Электрохимическая алюмооксидная технология создания ми росхем".-'Минск: МРГИ, 1991.- С. 56.

8. Исследование элементов ФАР,сформированных на подложке алюминиевых сплавов, анодированных в расплаве солей. / Ахмаде« М. Е .Кузнецов Д. И. .Сайфуллин В. X ,Тюхтин М. Ф. //Тезисы доклад! межреспубликанской научно-технической конференции "Фазирова: ные антенные решетки и их элементы". - Казань: КАИ, 1992. - С. 5:

9. Функциональные свойства анодных оксидных пленок, сфо; мированных на подложках из алюминиевых сплавов в расплаве с лей. / Ахмадеев Е М. , Сайфуллин В. X , Галеева JL X , Зуев А. В. Материалы Международной научно-технической конференции "Инте анод-93".- Казань: КАИ, 1993.- С. 52.

10. Структура и свойства оксидных пленок, сформированных расплаве солей на тонких слоях АМГб, полученных магнитронн

аспылением./ Чепахин В.Г., Ахмадеев М.М., Сайфуллин В.Х., Зу-в A.B.// Материалы Международной научно-технической конференции "Йнтеранод-93".- Казань: КАИ, 1993.- С.53.

11. Зернограничная диффузия в процессе анодирования алюми-иевых сплавов./ Сайфуллин В.Х., Ахмадеев М.М., Танеева Л.Х. и р.// Материалы Международной научно-технической конференции йнтеранод-93".- Казань, 1993.- С.54.

12. Сайфуллин В.Х., Ахмадеев М.М., Зуев A.B. Механизм лодного микродугового оксидирования алюминиевых сплавов е асплавах солей и свойства оксидных покрытий.// Тезисы докла-св Всероссийской научно- технической конференции "Физика кеидных пленок".- Петрозаводск: ПТУ, 1994,- С.67.

13. Абразивные материалы,полученные анодным микродуговым ■ксидировакием алюминиевых сплавов в расплавленных электроли-ак./ Сайфуллин В.Х., Ахмадеев М.М., Галеква Л.Х., Зуек A.B. /Тезисы докладов Всероссийской научно-технической конференции Отделочно - упрочняющая технология в машиностроении". ■ Минск: >ТИ АНН. 1994. - С. 4?.

Печ.л.1.0. Усл.печ.л.0.93. Усл.-кр.отт.О.Э;:. Уч.-изд.л.1.0.

Формат 60x84 1/15. Бумага

Печать офсетная.

Тираж 80.

Заказ Р124/ Ч€>.

Для служебного пользования

Казанский государственный технический университет им. А.Н.Туполева

Ротапринт Казанского государственного технического университета им. А.Н.Туполева 420111, Казань, К.Маркса, 10.