автореферат диссертации по информатике, вычислительной технике и управлению, 05.13.06, диссертация на тему:Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода

На правах рукописи

Истомин Алексей Сергеевич

ПОВЫШЕНИЕ ЭФФЕКТИВНОСТИ АВТОМАТИЗИРОВАННОГО КОНТРОЛЯ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ ЕМКОСТНОГО МЕТОДА

Специальность 05,13,06 - Автоматизация и управление технологическими процессами и производствами (промышленность)

Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук

Рыбинск - 2006

Работа выполнена в Государственном образовательном учреждении высшего профессионального образования «Рыбинская государственная авиационная технологическая академия имени П. А. Соловьева».

Научный руководитель - доктор технических наук, профессор

Семенов Эрнст Иванович

Официальные оппоненты - доктор технических наук, профессор

Волков Дмитрий Иванович доктор технических наук, профессор Панфилов Юрий Васильевич

Ведущая организация - Институт микроэлектроники и информатики

РАН (г. Ярославль)

Защита состоится « 30 » ноября 2006 г. в 12 часов на заседании диссертационного совета Д 212.210.04 в Рыбинской государственной авиационной технологической академии имени П. А. Соловьева по адресу 152934, г. Рыбинск, Ярославская обл., ул. Пушкина, д. 53.

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке Рыбинской государственной авиационной технологической академии имени П. А. Соловьева.

Автореферат разослан « 27 » октября 2006 г.

Ученый секретарь диссертационного совета

ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ

Актуальность темы. Тонкие пленки, получаемые методами осаждения в вакууме, находят разнообразное применение в измерительной технике, приборостроении (в частности, в радиопромышленности), изделиях электроники и микроэлектроники.

Качество наносимых слоев оценивается путем контроля таких параметров покрытий, как толщина, химический состав, пористость, плотность, адгезия, износостойкость, твердость, шероховатость, внутренние напряжения и др. Совокупность контролируемых параметров в каждом конкретном случае зависит от назначения покрытия, однако для любого нанесенного слоя одним из важнейших параметров является его толщина. .

В ходе изучения технологического процесса контроля толщины покрытий

г ,

было выяснено, что в настоящее время не существует универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Поэтому вопрос о выборе метода измерений и прибора должен решаться в каждом отдельном случае в зависимости от метода нанесения покрытия, свойств материала, а также от диапазона требуемых значений толщины и необходимой точности измерений.

Для обеспечения стабильности качественных характеристик покрытий при термовакуумном нанесении необходимо наличие средств автоматического контроля и регулирования параметров покрытий и технологического процесса. Поэтому актуальной является задача непрерывного автоматического контроля этих параметров в процессе осаждения покрытия.

В данной работе предпринята попытка создания универсального датчика для контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, применяемых в электронной промышленности.

Цель работы - Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода.

Для достижения этой цели в работе поставлены и решены следующие задачи:

- анализ существующих методов контроля толщины покрытий в процессе нанесения их в вакууме;

- разработка и исследование емкостного метода контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме;

- разработка автоматизированной системы контроля толщины покрытий в процессе нанесения их в вакууме;

- экспериментальное исследование и подтверждение результатов теоретических исследований емкостного датчика и автоматизированной системы контроля толщины покрытий.

Объектом исследования настоящей работы является технологический процесс нанесения покрытий в вакууме.

Научная новизна работы заключается в следующем:

- предложен и исследован. емкостный метод контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме;

- разработана математическая модель емкостного датчика, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия.

Практическая ценность работы заключается в следующем:

- разработан емкостный датчик толщины покрытий, наносимых в вакууме;

- разработана система автоматического контроля толщины покрытий;

- исследованы чувствительность и ресурс емкостного датчика;

- уменьшена температурная зависимость показаний датчика за счет применения компенсационного конденсатора.

Реализация результатов работы. Основные научные и практические результаты диссертационной работы внедрены на ООО «НПП Тензосенсор» и ООО НТЦ «Интрофизика» (г, Рыбинск), а также используются в учебном процессе в РГАТА имени П. А. Соловьева при преподавании дисциплины «Конструкторско-технологическое обеспечение производства ЭВМ».

Основные положения, выносимые на защиту:

- емкостный метод контроля толщины покрытий;

- математическая модель емкостного датчика;

- принцип построения емкостного датчика толщины покрытий, позволяющий уменьшить влияние температуры на датчик.

Апробация. Результаты работы прошли апробацию в докладах на 11 международных, всероссийских, межрегиональных научно-технических, научно-практических и студенческих симпозиумах, конференциях и семинарах: IX, X, XI Международных научно-технических конференциях «Высокие технологии в промышленности России», (Москва, 2004 - 2006 гг.)') Всероссийской научно-технической конференции «Моделирование и обработка информации в технических системах», (Рыбинск, 2004 г.); XI Всероссийской межвузовской научно-технической конференции студентов и аспирантов «Микроэлектроника и информатика», (Москва, 2004 г.); XXIX конференции молодых ученых и студентов, (Рыбинск, 2005 г.); VI Всероссийской научно-практической конференции «Актуальные вопросы разработки и внедрения информационных технологий двойного применения», (Ярославль, 2005 г.); XI Всероссийской межвузовской научно-технической конференции студентов и аспирантов, (Москва, 2005 г.); международной научно-технической конференции «Современные методы и технологии создания и обработки материалов», (Минск, 2006 г.).

Публикации. По материалам диссертации опубликовано 12 печатных работ, из которых 1 патент, 8 статей и 3 тезисов в сборниках материалов конференций и симпозиумов.

Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и трех приложений на 128 страницах, содержит 51 рисунок, 10 таблиц, список источников из 95 наименований.

ОСНОВНОЕ СОДЕРЖАНИЕ РАБОТЫ

Во введении обосновывается актуальность темы исследования, формулируются цели и основные задачи исследования, приводится краткое изложение работы, ее научная новизна, практическая ценность полученных результатов и основные положения, выносимые на защиту.

В первой главе диссертации проведен анализ современного состояния области исследования. Рассмотрены существующие методы осаждения покрытий в вакууме и сформулированы требования к технологическому процессу осаждения тонкопленочных покрытий. Рассмотрены и проанализированы существующие методы оперативного контроля толщины и скорости осаждения покрытий в вакууме и современный уровень их автоматизации.

Проведенный анализ существующих методов и средств контроля толщины и скорости осаждения покрытий в вакууме показал, что все существующие методы и средства можно разделить на две основные группы: первое дают информацию о массе наносимого покрытия или его толщине (геометрической или оптической), вторые — о скорости осаждения (рис. 1).

Рис. 1. Классификация методов контроля толщины и скорости осаждения

покрытий в вакууме

Дня контроля толщины тонкопленочных покрытий в процессе их осаждения в вакууме на изделия микроэлектроники могут использоваться пьезокварцевый метод, резистивный метод, емкостный метод (метод пленарного конденсатора), фотометрический метод, так как они предназначены

для контроля тонких слоев пленок. Все перечисленные методы обладают достоинствами и недостатками, поэтому для каждого технологического процесса необходимо выбирать свой метод контроля толщины покрытий. В результате появляется необходимость создания универсального датчика для контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, применяемых в электронной промышленности. В настоящей работе для контроля толщины покрытий предлагается использовать емкостный датчик.

Во второй главе проведены разработка и исследование емкостного датчика толщины покрытий, рассматриваются вопросы построения измерительных схем для датчика, оценивается погрешность и чувствительность датчика. На рис. 2 представлена конструкция емкостного датчика толщины.

Рис. 2. Конструкция емкостного датчика толщины покрытий 1 — керамическая подложка; 2,3 - медные обкладки конденсаторов; 4 - керамическая пластина; 5 — сетка; 6 - экран

Модель дифференциального емкостного датчика для измерения толщины покрытия в вакууме, одна из. обкладок которого выполнена из сетки, представлена на рис. 3.

1 2 3 3 3

Рис. 3. Модель емкостного датчика толщины покрытия 1 -верхняя обкладка конденсатора в виде сетки или перфорации; 2 - нижняя

обкладка измерительного конденсатора, выполненная сплошной; 3 - нанесенный материал; 4 - экран; 5 — нижняя обкладка компенсационного конденсатора, выполненная сплошной

Суммарное приращение емкости для исследуемого датчика вычисляется по формуле

АС2 = АСг + ДС; + (ДС„ - ДС,2 ), (1)

где ДС, - приращение емкости сетчатого конденсатора за счет осаждаемого материала;

ДС/ - приращение емкости сетчатого конденсатора в случае увеличения высоты площадок под ячейками сетки за счет осаждаемого материала;

ДС,, -температурное изменение емкости сетчатого конденсатора;

ДС,2 - температурное изменение емкости компенсационного конденсатора.

Влияние температуры на конструктивные элементы датчика приведет к приращению емкостей обоих конденсаторов. Поэтому после вычисления емкости ДС£ температурное приращение емкостей будет в значительной степени скомпенсировано.

При осаждении металлической пленки изменение емкости сетчатого конденсатора ДС^ вычисляется по формуле

З^ек__(2)

»

—-—+D

" 2*а*.(Л-Л,)

где а - толщина проводов, образующих решетку; О - коэффициент, зависящий от соотношения размеров решетки и числа ее ячеек; -

суммарная длина всех проводов, образующих решетку; Л - зазор между обкладками; И\ — толщина напыленной пленки; е0 — диэлектрическая постоянная; б - диэлектрическая проницаемость материала пленки.

Приращение емкости сетчатого конденсатора за счет осаждаемого материала в случае увеличения площадок под ячейками сетки ДС{ вычисляется по формуле

1 . 2,24-6 ' к '

1п———-

где N - количество ячеек в сетке; Ъ - размер ячейки в сетке; Ьг — толщина напыленной пленки под ячейкой сетки.

Изменение емкости компенсационного конденсатора ДС,2, вызванное изменением температуры, вычисляется по формуле

(4)

Дгц

где Лз - расстояние между обкладками компенсационного конденсатора; Д£ - изменение площади; обкладки компенсационного конденсатора.

Для того чтобы получить эффективную толщину Лэф напыленной пленки, необходимо из формул (3) и (4) выразить величины Ь\ и Ъ^'.

и^Л'.ЩЕМ2™'-*-1*

2 2 2в ЛС ))

Были проведены исследования влияния параметров а, Ь датчика на данную зависимость (рис. 4) для осаждения меди (плотность р — 8,9-10~3 г/мм3).

Рис. 4. Исследование влияния параметров а, Ъ датчика на зависимость толщины

нанесенной меди от емкости датчика На рис. 5 приведены графическая зависимость чувствительности емкостного датчика от толщины осаждаемого покрытия.

О 100 200 300 400 500 600 700 800 мкм 1000

А -k-

Рис. 5. Зависимость чувствительности емкостного датчика толщины покрытий

от толщины напыляемого материала

Проанализировав зависимость, приведенную на рис. 5, можно сделать вывод, что чувствительность емкостного датчика толщины увеличивается с увеличением толщины осажденного покрытия. Это объясняется тем, что емкость датчика возрастает при уменьшении зазора между обкладками.

В третьей главе проведена разработка автоматизированной системы (АС) контроля толщины покрытий на базе персонального компьютера класса IBM PC с использованием в качестве датчика толщины емкостного датчика, разработанного и теоретически исследованного во второй главе.

Автоматизированная система содержит устройство сопряжения, позволяющее производить переключения между измеряемыми конденсаторами (рис. б). Управление устройством сопряжения производится с помощью ПК.

УВН

Заслонка CR

С1

Емкостный датчик толщины

С2 t

Устройство сопряжения

ПК

Данные

^ RS-232C ^

Управление измерительным каналом

Управление заслонкой

Рис. 6. Структурная схема АС

В четвертой главе рассматриваются вопросы технической реализации и программного обеспечения емкостного датчика и системы автоматического контроля толщины покрытий, приводятся результаты их экспериментального исследования.

Для исследования качественных характеристик емкостного датчика толщины покрытий использовано дополнительное оборудование с характеристиками лучшими, чем у исследуемого датчика. В качестве такого прибора было выбрано устройство МЭК-1-У (микровесы электронные кварцевые), которое выдает значение текущей толщины виде напряжения.

Проводились измерения значения температуры емкостного датчика и управление температурой в вакуумной установке УВН-2М-1,

Автоматизированная система была дополнена модулями ввода/вывода семейства 1-7000 фирмы ICP DAS с использованием специализированного программного обеспечения (рис. 7).

1-7024

Тшпцевя Скорость

□ □

с=0 Диапазон

Рис. 7. Функциональная схема связи прибора МЭК-1-У-3,3, термопары и модуля нагрева с персональным компьютером

На рис. 8 представлена экспериментальная зависимость емкости датчика (с учетом компенсационной емкости) от толщины напыленной пленки меди для зазора между обкладками 125 мкм.

Исследован ресурс датчика, который составил 84 мкм при величине зазора между обкладками 125 мкм.

□ Экспериментальное значение емкости ___ расчетное значение емкости

А -►

Рис. 8. Экспериментальная зависимость емкости датчика от толщины напыленной пленки меди для зазора между обкладками в 125 мкм

В заключении анализируются полученные результаты и приводятся общие выводы по работе.

♦ ■ - |

1В результате анализа существующих методов контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, установлено, что в настоящее время нет универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Для измерения толщины покрытий предложен новый емкостный датчик, позволяющий контролировать толщину как металлических, так и диэлектрических покрытий.

2 Предложен и исследован емкостный метод контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме.

3 Разработана и исследована математическая модель емкостного датчика толщины покрытий, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия.

4 Технически реализован емкостный датчик толщины покрытий.

5 Разработаны и технически реализованы аппаратные и программные средства для создания системы автоматического контроля толщины покрытий, где в качестве датчика толщины используется емкостный датчик.

6 Разработана и технически реализована система регулирования температуры емкостного датчика толщины покрытий, что позволило увеличить точность измерений.

7 Экспериментально исследован емкостный датчик в составе системы автоматического контроля толщины покрытий. Датчик обеспечивает контроль толщины покрытия с погрешностью не более 4,9 % при средней толщине 4 мкм. Интегральная чувствительность датчика по толщине составила 0,365 мкм-1 для зазора между обкладками 125 мкм в диапазоне от 0 до 84 мкм.

Результаты диссертационной работы внедрены на ООО «НПП Тензосенсор» и ООО НТЦ «Интрофизика» (г. Рыбинск) и используются в учебном процессе РГАТА им, П. А. Соловьева при преподавании дисциплины «Конструкторско-технологическое обеспечение производства ЭВМ». Использование автоматической системы на основе емкостного метода позволяет повысить эффективность процесса контроля толщины покрытий в процессе их осаждения.

Список публикаций по теме диссертации:

Статьи в центральных и региональных журналах:

1 Семенов, Э. И. Измерение толщины покрытий в процессе их нанесения с помощью емкостного датчика [Текст] / Э. И. Семенов, А.С.Истомин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - Одесса : «ТКЭА», 2006. -№ 2. -С. 49-51.

2 Семенов, Э. И. Автоматизированная компьютерная система для измерения толщины покрытий с помощью емкостного датчика в процессе их нанесения [Текст] / Э.И. Семенов, А.С.Истомин // Вестник Рыбинской государственной авиационной технологической академии им, П. А. Соловьева: сб. науч. тр. - Рыбинск, 2005, -Хз 1-2 (7-8). - С. 157-162.

Патенты:

3 Пат. 2261416 Российская Федерация, МПК7 С 01 В 7/06. Емкостный способ контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме [Текст] / В. К. Козка, Э. И. Семенов, А. С. Истомин (Россия) ; заявл, 06.07.2004 ; опубл. 27.09.2005, Бюл. № 27.

Публикации в материалах международных конференций: .

4 Истомин, А. С. Автоматизированная система оперативного контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме [Текст] / А. С, Истомин,

A. Н. Ломанов, И. Ю. Паутов, Э. И. Семенов // Высокие технологии в промышленности России (мат. и уст-ва функц, электроники и микрофотоники) : мат. IX Междунар. науч.-техн. конф. ; под ред. А. Ф. Белянина,

B. Д. Житковского, М. И. Самойловича. - М. : ОАО ЦНИТИ «ТЕХНОМАШ»,

2003.-С. 71-76. '

5 Истомин, А. С. Емкостные датчики для контроля толщины покрытий [Текст] / А. С. Истомин, Э. И. Семенов // Высокие технологии в промышленности России (мат. и уст-ва функц. электроники и микрофотоники): мат. X Междунар. науч.-техн. конф. ; под ред. А. Ф, Белянина, В. Д. Житковского, М. И. Самойловича. - М. : ОАО ЦНИТИ «ТЕХНОМАШ»,

2004.-С. 230-233.

6 Семенов, Э. И. Камертонный метод контроля толщины покрытий в процессе осаждения их в вакууме [Текст] / Э. И. Семенов, И. Ю. Паутов, А. С. Истомин, А. Н. Ломанов // Высокие технологии в промышленности России (мат. и уст-ва функц, электроники и микрофотоники) : мат. X Междунар. науч.-техн. конф. ; под ред. А. Ф. Белянина, В. Д. Житковского, М. И. Самойловича. - М.: ОАО ЦНИТИ «ТЕХНОМАШ», 2004, - С, 236-241.

7 Семенов, Э. И. Автоматизация измерения толщины покрытий в процессе их нанесения с помощью емкостного датчика [Текст] / Э. И. Семенов, А. С, Истомин // Высокие технологии в промышленности России (мат. и уст-ва функц. электроники и микрофотоники) : мат. XII Междунар. науч.-техн. конф.; под ред. А. Ф. Белянина, В. Д. Житковского, М. И. Самойловича. - М. : ОАО ЦНИТИ «ТЕХНОМАШ», 2006. - С. 455-459.

Публикации в материалах всероссийских и региональных конференций:

8 Семенов, Э. И. Автоматизация оперативного контроля толщины покрытий в процессе нанесения их в вакууме [Текст] / Э. И. Семенов, И. Ю. Паутов, А. С. Истомин, А. Н. Ломанов, А, В. Гусаров // Моделирование и

обработка информации в технических системах : мат. Всерос. науч.-техн. конф.

- Рыбинск: РГАТА, 2004. - С. 299-303. .

9 Семенов, Э. И. Измерение параметров покрытий, основанные на изменении емкости [Текст] / Э. И. Семенов, А. С. Истомин // Моделирование и обработка информации в технических системах : мат. Всерос. науч.-техн. конф.

- Рыбинск: РГАТА, 2004. - С. 307-311.

10 Истомин, А. С. Регистрация малых изменений электрической емкости [Текст] / А. С. Истомин // Микроэлектроника и информатика. Сборник докладов XI Всерос. межвуз. науч.-техн, конф. студентов и аспирантов. - М. : МИЭТ, 2004. - С. 216.

11 Истомин, А. С. Автоматизированная система контроля толщины покрытий на базе емкостного датчика [Текст] / А. С. Истомин И Актуальные вопросы разработки и внедрения информационных технологий двойного применения: тез. докл. VI Всерос. науч.-практич. конф., Ярославль, 2005. - С. 54-55.

12 Истомин, А. С. Емкостной измерительный преобразователь для контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме [Текст] / А. С. Истомин : тезисы докладов XXIX конференции молодых ученых и студентов. - Рыбинск : РГАТА, 2005.-С. 65-66.

Зав. РИО М. А. Салкова Подписано в печать 27,10.2006. Формат 60x84 1/16. УЧ.-ЮДЛ. 1. Тираж 100. Заказ 117.

Рыбинская государственная авиационная технологическая академия имени П, А. Соловьева (РГАТА)

152934, г. Рыбинск, ул. Пушкина, 53 Отпечатано в множительной лаборатории РГАТА 152934, г. Рыбинск, ул. Пушкина, 53

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. АНАЛИЗ СОВРЕМЕННОГО СОСТОЯНИЯ ОБЛАСТИ ИССЛЕДОВАНИЯ.

1.1 Методы осаждения покрытий в вакууме.

1.2 Методы контроля толщины тонких пленок в вакууме.

1.2.1 Весовой метод.

1.2.2 Метод кварцевого резонатора.

1.2.3 Фотометрический метод.

1.2.4 Резистивный метод.

1.2.5 Емкостные методы.

1.2.6 Вибрационный метод.

1.3 Выводы по первой главе и постановка задач исследований.

ГЛАВА 2. РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ ЕМКОСТНОГО ДАТЧИКА ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ.

2.1 Емкостный метод контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме.

2.2 Разработка емкостного датчика.

2.2.1 Конструкция емкостного датчика.

2.2.2 Математическая модель емкостного датчика.

2.2.3 Чувствительность емкостного датчика.

2.2.4 Погрешность емкостного датчика.

2.2.5 Измерительные схемы для емкостного датчика.

2.3 Выводы по второй главе.

ГЛАВА 3. РАЗРАБОТКА И ИССЛЕДОВАНИЕ АВТОМАТИЗИРОВАННОЙ СИСТЕМЫ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ.

3.1 Классификация автоматизированных систем.

3.2 Разработка аппаратного обеспечения АС.

3.2.1 Анализ возможных путей реализации устройства сопряжения.

3.2.2 Связь УС с персональным компьютером.

3.2.3 Управление заслонкой и коммутация сигналов.

3.3 Разработка программного обеспечения АС.

1 3.4 Выводы по третьей главе.

ГЛАВА 4. ТЕХНИЧЕСКАЯ РЕАЛИЗАЦИЯ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК ЕМКОСТНОГО ДАТЧИКА

ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ В ВАКУУМЕ.

4.1 Опытный образец емкостного датчика толщины покрытий и устройства сопряжения. k 4.2 Оборудование и техника экспериментов.

4.2.1 Разработка устройства ввода данных от измерительного оборудования в ПК.

4.2.2 Разработка программного обеспечения для устройства ввода данных от измерительного оборудования в ПК.

4.3 Результаты экспериментального исследования датчика.

4.4 Выводы по четвертой главе.

Тонкие пленки, получаемые методами осаждения в вакууме, находят разнообразное применение в измерительной технике, приборостроении (в частности, в радиопромышленности), изделиях электроники и микроэлектроники.

Качество наносимых слоев оценивается путем контроля таких параметров покрытий, как толщина, химический состав, пористость, плотность, адгезия, износостойкость, твердость, шероховатость, внутренние напряжения и др. [1]. Совокупность контролируемых параметров в каждом конкретном случае зависит от назначения покрытия, однако, для любого нанесенного слоя одним из важнейших параметров является его толщина [1].

Большой вклад в развитие технологических процессов по контролю качества покрытий в процессе осаждения внесли ученые следующих российских и иностранных организации: Санкт-Петербургского государственного электротехнического университета, МАТИ-РГТУ им. К. Э. Циолковского, Рыбинской государственной авиационной технологической академии им. П. А. Соловьева, Международного центра электронно-лучевых технологий Института электросварки им. Е. О. Патона, НИКИ «Вакууммаш», Leybold-Vacuum, CIT ALKATEL, Balzers, General Electric и др.

В ходе изучения технологического процесса контроля толщины покрытий было выяснено, что в настоящее время не существует универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Поэтому вопрос о выборе метода измерений и прибора должен решаться в каждом отдельном случае в зависимости от метода нанесения покрытия, свойств материала, а также от диапазона требуемых значений толщины и необходимой точности измерений. В результате появляется необходимость создания универсального датчика для контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, применяемых в электронной промышленности. Настоящая диссертация посвящена решению данной проблемы и отражает результаты исследований, выполненных автором в период с 2003 по 2006 г.

Объектом исследования настоящей работы является технологический процесс нанесения покрытий в вакууме.

Предметом исследования являются методы контроля толщины покрытий и средства построения систем автоматического контроля.

Цель работы - Повышение эффективности автоматизированного контроля процесса осаждения тонких пленок на основе емкостного метода.

Научная новизна работы заключается в следующем:

- предложены и исследованы емкостные метод и датчик контроля толщины покрытий, в процессе их нанесения в вакууме;

- разработана математическая модель емкостного датчика, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия.

В результате проведения исследований сформулированы основные научные положения, которые выносятся на защиту:

- емкостный датчик толщины покрытий;

- математическая модель емкостного датчика;

- принципы построения емкостного датчика толщины покрытий, позволяющее уменьшить влияние температуры на датчик.

Практическая ценность работы заключается в следующем:

- разработан емкостный датчик толщины покрытий, наносимых в вакууме;

- разработана система автоматического контроля толщины покрытий;

- исследованы чувствительность и ресурс емкостного датчика;

- уменьшена температурная зависимость показаний датчика за счет применения компенсационноко конденсатора.

Достоверность результатов диссертационной работы подтверждена корректно полученными данными теоретических расчетов и экспериментальных исследований датчика и системы автоматического контроля толщины покрытий в целом с опытными образцами аппаратных средств.

Материалы диссертационной работы прошли апробацию на конференциях и симпозиумах:

- «Высокие технологии в промышленности России», (Москва, 20042006 гг.);

- «Моделирование и обработка информации в технических системах», (Рыбинск, 2004 г.);

- «XXIX конференции молодых ученых и студентов», (Рыбинск, 2005 г.);

- «VI Всероссийской научно-практической конференции», (Ярославль, 2005 г.);

- «XI Всероссийской межвузовской научно-технической конференции студентов и аспирантов», (Москва, 2005 г.).

По материалам диссертации опубликовано 12 печатных работ, из которых 1 патент, 8 статей и 3 тезиса в сборниках материалов конференций и симпозиумов.

Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и трех приложений на 129 страницах, содержит 51 рисунок, 10 таблиц, список источников из 95 наименований.

4.4 Выводы по четвертой главе

1 Созданы опытные образцы емкостного датчика толщины покрытий и устройства сопряжения с ПК.

2 Создано программное обеспечение, осуществляющее обработку выходного сигнала емкостного датчика толщины покрытий, управление температурой датчика.

3 Разработана и технически реализована система регулирования температуры емкостного датчика толщины покрытий, что позволило увеличить точность измерений.

4 Проведено экспериментальное исследование емкостного датчика толщины покрытий на установке вакуумного напыления УВН-2М-1, в результате которого получены экспериментальные кривая и статические характеристики датчика. Датчик обеспечивает контроль толщины покрытия с погрешностью не более 4,9 % при средней толщине 4 мкм. Интегральная чувствительность датчика по толщине составила 0,365 мкм"1 для зазора между обкладками 125 мкм в диапазоне от 0 до 84 мкм. Исследован ресурс датчика, который составил 84 мкм при величине зазора между обкладками 125 мкм.

109

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Основные научные и практические результаты работы показали возможность создания системы автоматического контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, на базе IBM PC-совместимых ПК как средства дополнительного обеспечения качества покрытий.

В процессе выполнения работы автором были получены следующие результаты:

1 В результате анализа существующих методов контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме, установлено, что в настоящее время нет универсальных методов и средств, в равной степени удовлетворяющих всем предъявляемым требованиям к методам и датчикам оперативного технологического контроля процесса осаждения покрытий в вакууме. Для измерения толщины покрытий предложен новый емкостный датчик, позволяющий контролировать толщину как металлических, так и диэлектрических покрытий. v 2 Разработана и исследована математическая модель емкостного датчика толщины покрытий, связывающая изменение емкости с изменением толщины покрытия. :

3 Технически реализован емкостный датчик толщины покрытий.

4 Разработаны и технически реализованы аппаратные и программные средства для создания системы автоматического контроля толщины покрытий, k где в качестве датчика толщины используется емкостный датчик.

5 Разработана и технически реализована система регулирования температуры емкостного датчика толщины покрытий, что позволило увеличить точность измерений.

6 Экспериментально исследован емкостный датчик в составе системы автоматического контроля толщины покрытий. Датчик обеспечивает контроль

1 толщины покрытия с погрешностью не более 4,9 % при средней толщине

4 мкм. Интегральная чувствительность датчика по толщине составила 0,365 мкм-1 для зазора между обкладками 125 мкм в диапазоне от 0 до 84 мкм.

7 Повышена эффективность контроля толщины металлических тонкопленочных покрытий:

-разработанный дифференциальный датчик имеет большой диапазон контролируемых толщин (до нескольких сотен микрометров), что в десятки раз превышает ресурс кварцевого датчика и позволяет контролировать толщину относительно толстых покрытий, применяемых в машиностроении и авиационной промышленности;

- дифференциальный датчик температуростоек и может работать в процессе получения покрытий при температуре изделий до 350 °С.

Основные научные и практические результаты диссертационной работы внедрены на ООО «НПП Тензосенсор» и ООО НТЦ «Интрофизика» (г. Рыбинск) (акты внедрения приведены в приложении Б), а также используются в учебном процессе РГАТА им. П. А. Соловьева при преподавании дисциплины «Конструкторско-технологическое обеспечение производства ЭВМ», что подтверждается справкой, приведенной в приложении В.

Использование системы автоматического контроля толщины покрытий, позволяет измерять толщину осажденного покрытия и является способом дополнительного обеспечения качества получаемых покрытий.

В заключение автор выражает глубокую благодарность научному руководителю профессору Э. И. Семенову и доценту А. В. Гусарову за обсуждение материалов диссертационной работы и ценные советы, А. Н. Ломанову (Рыбинская государственная авиационная технологическая академия им. П. А. Соловьева) и И. Ю. Паутову, Н. А. Швалеву (ОАО «НПО» Сатурн») за помощь в проведении экспериментальных исследований, а также директору научно-производственной фирмы «Тензосенсор» В. С. Никитину за помощь в проведении испытаний и внедрении разработанной системы автоматического контроля толщины покрытий.

1. Технология тонких пленок Текст. : справочник : в 2-х т. ; под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. ; пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. -М.: Сов. радио, 1977. Т. 1 - 664 е.: ил.

2. Ройх, И. Л. Нанесение защитных покрытий в вакууме Текст. / И. Л. Ройх, Л. Н. Колтунова, С. Н. Федосов. М. : Машиностроение, 1976. -368 е.: ил.

3. Ройх, И. Л. Защитные покрытия на стали Текст. / И. Л. Ройх, Л. Н. Колтунова. -М.: Машиностроение, 1971.-280 е.: ил.

4. Костржицкий, А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А. И. Костржицкий, В. Ф. Карпов, М. П. Кабанченко и др.. М.: Машиностроение, 1991. - 176 е.: ил.

5. Кафедра ИУ4 МГТУ им. Н. Э. Баумана Электронный ресурс. Электрон. дан. - М. : МГТУ им. Н. Э. Баумана, 1997 - . - Режим доступа: http://cdl.iu4.bmstu.ru, свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус., англ.

6. Ковалев, Л. К. Методы нанесения тонких пленок в вакууме Текст. / Л. К. Ковалев, Ю. В. Панфилов // Справочник. Инженерный журнал. 1997.3.-С. 20-28.

7. Технология тонких пленок Текст. : справочник : в 2-х т. ; под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. ; пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. -М.: Сов. радио, 1977. Т. 2 - 768 е.: ил.

8. Богородицкий, А. А. Состояние и тенденции развития методов и средств контроля толщины покрытий в приборостроении Текст. /

9. A. А. Богородицкий, А. А. Капитанов, А. А. Мельников // Измерения, контроль, автоматизация. 1982. - № 1. - С. 9-14.

10. Троицкий, В. А. Современное состояние и тенденции развития нераз-рушающего контроля покрытий (Обзор) Текст. / В. А. Троицкий,

11. B. И. Загребельный, Н. Н. Синица // Автоматическая сварка. 1986. - № 7. - С. 22-29.

12. Демидов, Ф. П. Датчики оперативного технологического контроля процессов нанесения и травления пленок Текст. / Ф. П. Демидов, JI. М. Амосова // Электронная промышленность. 1991. - № 7. - С. 20-26.

13. Данилин, Б. С. Вакуумная техника в производстве интегральных схем Текст. / Под. общ. ред. Р. А. Нилендера. М.: Энергия, 1972. - 256 с.: ил.

14. Мищенко, В. П. Весовой измеритель толщины и скорости роста покрытий Текст. / В. П. Мищенко, П. П. Осечков, JI. Ф. Новиченко // Проблемы специальной электрометаллургии. 1985. — № 4. — С. 51-55.

15. Мищенко, В. П. Автоматизированная система управления процессом электронно-лучевого нанесения покрытий Текст. / В. П. Мищенко, Н. В. Подола, В. Н. Воробьев, С. С. Тарасов // Проблемы специальной электрометаллургии. 1985. -№ 3. - С. 45-50.

16. Берлин, Г.С. Механотроны Текст. / Г.С.Берлин. М. : Радио и связь, 1984. - 248 е.: ил.

17. Зигмунд, Х.-И. Новые измерительные приборы и микропроцессорное управление для напылительных и распылительных установок Текст. / Х.-Й. Зигмунд. Ганау: Лейбольд-Хереус ГМБХ, 1980. - 33 е.: ил.

18. Демидов, Ф. П. Применение пьезокварцевого микровзвешивания при изготовлении тонкопленочных структур Текст. / Ф. П. Демидов,

19. A. И. Лоскутов, В. К. Ершов // Электронная промышленность. 1989. - № 11. -С. 20-21.

20. Малов, В. В. Пьезорезонансные датчики Текст. / В. В. Малов. 2-е изд., перераб. и доп. / В. В. Малов. - М.: Энергоатомиздат, 1989. - 272 с.: ил.

21. Ляпахин, А. Б. Прибор для контроля толщины и скорости осаждения пленок при вакуумном испарении Текст. / А. Б. Ляпахин, Б. Л. Пьянков, Д.Б.Горбачев // Оптико-механическая промышленность. 1988. - № 1. - С. 29-30.

22. Чураев, С. В. Модуль контроля и управления процессом напыления тонких пленок Текст. / С. В. Чураев, В. И. Хомяков // Каталог приборов. -Минск: Наука и техника, 1988. С. 152-153.

23. Заявка 98100837 Российская Федерация, МКИ6 С 23 С 14/35. Устройство для нанесения покрытий в вакууме Текст. / В. Г. Кузнецов,

24. B.П.Булатов, С.И.Рыбников (Россия) ; заявл. 01.13.1998 ; опубл. 27.10.1999, Бюл. № 12.-3 с.

25. Юдин, А. В. Анализ точностных характеристик фотометрического датчика толщины пленок Текст. / А. В. Юдин, С. Э. Семенова // Датчики и системы. 2001. - № 11. - С. 44-46.

26. Колгин, Е. А. Контроль толщин пленок при плазменном ВЧ распылении диэлектриков Текст. / Е. А. Колгин // Изв. Ленинград, электротехн. ин-та им. В. И. Ульянова (Ленина). 1989. - Вып. 408. - С. 57-60.

27. Быстров, Ю. А. Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве Текст. / Ю. А. Быстров, Е. А. Колгин, Б. Н. Котлецов -М.: Радио и связь, 1988. 168 е.: ил.

28. Колгин, Е. А. Об опыте применения лазерной системы контроля в установках термовакуумного нанесения фотослоев на основе селенида кадмия. Текст. / Е. А. Колгин // Изв. Ленинград, электротехн. ин-та им. В. И. Ульянова (Ленина). -1993. Вып. 455. - С. 3-6.

29. Пантелеев, Г. В., Нанесение неравнотолщинных покрытий с использованием оптического контроля Текст. / Г. В. Пантелеев, А. А. Журавлев // Оптико-механическая промышленность. -1988. № 3. - С. 35-36.

30. А. с. 890760 СССР, МКИ3 С 23 С 13/08. Устройство для контроля скорости и толщины пленок на подложках Текст. / В. А. Тучин, Н. Т. Ключник, А. И. Гуров (СССР); заявл. 19.08.1979 ; опубл. 13.05.1980. Бюл. № 16.-4 с.

31. А. с. 1026004 СССР, МКИ3 G 01 В 11/16. Устройство для контроля толщины тонких пленок, наносимых на подложку Текст. / P. X. Фазылзянов, И. X. Исаков, И. С. Гайнутдинов (СССР); заявл. 06.01.1982 ; опубл. 30.06.1983. Бюл. № 12.-3 с.

32. Глудкин, О. П., Устройства и методы фотометрического контроля в технологии производства ИС Текст. / О. П. Глудкин, А. Е. Густов. М.: Радио и связь, 1981. - 112 с.: ил. (Масс, б-ка шщ. «Электроника»).

33. Зеркаль, Н. М. Устройство контроля толщины и показателя преломления прозрачных пленок в процессе выращивания Текст. / Н. М. Зеркаль. // Электронная промышленность. 1989. -№ 1. - С. 50.

34. Сокол, В. А. Система лазерного контроля процессов плазмохимиче-ского травления Текст. / В. А. Сокол, С. С. Сухоруков, В. М. Тельнов, В. И. Хомяков, С. В. Чукаев // Электронная промышленность. -1989. № 1. - С. 57.

35. Сморгонский завод оптического станкостроения Электронный ресурс. Электрон, дан. -. - Режим доступа: http://szos.nm.ru, свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус.

36. Комраков, Б. М., Измерение параметров оптических покрытий Текст. / Б. М. Комраков, Б. А. Шапочкин. М.: Машиностроение, 1986. - 136 с.: ил. (Б-ка приборостроителя).

37. Пат. 2032237 Россия, МКИ6 Н 01 С 17/08, Н 01 L 21/66. Способ контроля поверхностного сопротивления тонких резистивных пленок в процессе осаждения Текст. / В.К.Смолин, В.П.Уткин (Россия) ; заявл. 04.02.1992 ; опубл. 27.03.1995, Бюл. №9.-3 с.

38. Семенов, Э. II Автоматическое управление процессом нанесения рези-стивных пленок Текст. / Э. И. Семенов // Труды Украинского вакуумного общества. Харьков, 1997. - Т. 3. - С. 348-350.

39. Рогов, В. А. Методика и практика технических экспериментов Текст. : учеб. пособие для студ. высш. учеб. заведений / В. А Рогов, Г. Г. Позняк. -М.: Изд. центр «Адкадемия», 2005. 288 с.

40. Холлэнд, JI. Пленочная микроэлектроника Текст. / JI. Холлэнд, пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона. М.: Мир, 1968. - 316 с.

41. А. с. 1127913 СССР, МКИ3 С 23 С 13/00. Устройство для контроля толщины покрытия Текст. / Э. И. Семенов, В. П. Сидоркин, В. Ф. Латышев (СССР); заявл. 30.03.1983 ; опубл. 07.12.1984, Бюл. № 45. С. 4.

42. Семенов, Э. И. Методы контроля технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок и их параметров Текст. / Э. И. Семенов // Контроль. Диагностика. 1999. - № 3. - С. 17-24.

43. Пат. 2261416 Российская Федерация, МПК7 G 01 В 7/06. Емкостный способ контроля толщины покрытий, наносимых в вакууме Текст. / В. К. Козка, Э. И. Семенов, А. С. Истомин (Россия) ; заявл. 06.07.2004 ; опубл. 27.09.2005, Бюл. № 27. С. 4.

44. Материалы в приборостроении и автоматике Текст.: справочник под ред. Ю. М. Пятина. 2-е изд., перераб. и доп. - М. : Машиностроение, 1982. -528 с.: ил.

45. Назаров, Г. И. Теплостойкие пластмассы Текст. / Г. И. Назаров, В. В. Сушкин. М.: Машиностроение, 1980. - 208 с.: ил.

46. Назаров, Г. И. Конструкционные пластмассы Текст. / Г. И. Назаров, В. В. Сушкин, J1. В. Дмитриевская. М.: Машиностроение, 1973. - 190 с.: ил.

47. Гусев, В. Н. Электрические конденсаторы постоянной емкости Текст. / В. Н. Гусев, В. Ф. Смирнов. М. «Советское радио», 1968. - 108 с.: ил.

48. Нейман, JI. Р. Теоретические основы электротехники Текст. : в 3-х ч. / JI. Р. Нейман, П. JI. Калантаров. JI.: Энергоиздат., 1954. - Ч. 3. - 245 с.: ил.

49. Бронштейн, И. Н. Справочник по математике для инженеров и учащихся ВТУЗов Текст. / И. Н. Бронштейн, К. А. Семендяев. 13-е изд., испр. -М.: Наука, Гл. ред. физ.-мат. лит., 1986. - 544 с.: ил.

50. Иоссель, Ю. Я. Расчет электрической емкости Текст. / Ю. Я. Иоссель, Э. С. Кочанов, М. Г. Струнский. 2-е изд. - JI. : Энергоиздат, 1981.-302 е.: ил.

51. Савельев, И. В. Курс общей физики. Электричество и магнетизм. Волны. Оптика. Текст. / И. В. Савельев : учебное пособие в 3-х т. 3-е изд. испр. - М: Наука. Гл. ред. физ.-мат. Лит., 1988. - Т. 2. - 346 с.: ил.

52. Яворский, Б. М. Справочник по физике Текст. / Б. М. Яворский, А. А. Детлаф. 3-е изд., испр. - М. : Наука, Гл. ред. физ.-мат. лит., 1990. -624 с.: ил.

53. Тиль, Р. Электрические измерения неэлектрических величин Текст. / Р. Тиль. М: Энергоиздат, 1984. - 97 е.: ил.

54. Лугвин, В. Г. Элементы современной низкочастотной электроники Текст. / В. Г. Лугвин. М. - Л.: Энергоиздат, 1964. - 88 е.: ил.

55. Михлин, Б. 3. Высокочастотные емкостные и индуктивные датчики Текст. / Б. 3. Михлин. -М.: Госэнергоиздат, 1961.-120 е.: ил.

56. Измерения и автоматизация Текст. : Каталог. М.: National Instruments, 2002. - 49 е.: ил.

57. Ballard, L. J. Instrumentation for measurment of moisture Text. / L. J. Ballard «Nat. Coop. Highway Res. Program Rep.», 1973. - №. 138. - 66 p.

58. Magruder, Thomas. Гибкие масштабируемые системы сбора данных на основе ПК Текст. / Thomas Magruder // Instrumentation Newsletter, 2001. Т. 13.-№3.-С. 4-5.

59. Севрюгин, Н. Н. Аппаратные и программные средства систем управления : учебное пособие. Текст. / Н. Н. Севрюгин. Рыбинск : РГАТА, 2003. -90 е.: ил.

60. Новиков, Ю. В. Разработка устройств сопряжения для персонального компьютера типа IBM PC : практическое пособие Текст. : под общ. ред. Ю. В. Новикова. М: ЭКОМ, 2002. - 224 е.: ил.

61. National Instruments Электронный ресурс. Электрон, дан. - . - Режим доступа: http://www.ni.com, свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус., англ.

62. Фирма Элике Электронный ресурс. Электрон, дан. -. - Режим доступа: http://www.Eliks.ru., свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус., англ.

63. Дмитриев, Д. Р. Устройство параллельного ввода-вывода информации для IBM PC Текст. / Д. Р. Дмитриев, М. Н. Подлевских // Приборы и системы управления. 1994. - № 2. - С. 26-27.

64. Schumny, Н. Digital measurement systems Text. / H. Schumny // Modern electrical and magnetic measurement: proceedings of the 7th IMEKO TC4 International Symposium. Part 1. - Prague, 1995. - P. 1-7.

65. Кривченко, Т. И. Построение современных измерительных систем на базе стандартных интерфейсов Текст. / Т. И. Кривченко, В. А. Сталневич, А. В. Клементьев, Г. Н. Новопашенный. // Приборы и системы управления. -1996.-№1.-С. 1-6.

66. Степаненко, И. П. Основы теории транзисторов и транзисторных схем Текст. / И. П. Степаненко. 4-е изд., перер. и доп. - М.: Энергия, 1977. -672 с.: ил.

67. Фирма Ниеншанц-Автоматика Электронный ресурс. Электрон, дан. - . - Режим доступа: http://www.nnz-ipc.ru, свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус., англ.

68. Яковлев, В. Структура измерительной системы на базе пассивных датчиков Текст. / В.Яковлев // Современные технологии автоматизации. -2002. -№1.- С. 76-84.

69. Сорокин, С. A. IBM PC в промышленности Текст. / С. А. Сорокин // Приборы и системы управления. 1996. - № 1. - С. 46-51.

70. Хазаров, В. Г. Управляющий вычислительный комплекс на базе ПЭВМ PC Текст. / В. Г. Хазаров, М. С. Утешев // Приборы и системы управления.- 1996.-№6.-С. 8-10.

71. The Measurement and automation Text.: Catalog. Austin: National Instruments, 2002. - 769 p.: ill.

72. Фирма ProSoft Электронный ресурс. Электрон, дан. - . - Режим доступа: http://www.prosoft.ru, свободный. - Загл. с экрана. - Яз. рус., англ.

73. Костелянский, В. М. Создание и применение средств вычислительной техники для управления технологическими процессами в странах СНГ Текст. / В. М. Костелянский // Приборы и системы управления. 1996. - № 10. -С. 13-12.

74. Литюга, А. М. Теоретические основы построения эффективных АСУ ТП Текст.: конспект лекций / А. М. Литюга, Н. В. Клиначев, В. М. Мазуров. -Offline версия 1.1. Тула, Челябинск, 2002. - 703 файла: ил.

75. Керер, Р. Новая тенденция в области измерений на базе персональных компьютеров Текст. / Р. Керер // Приборы и системы управления. 1997 - № 4 - С. 25-27.

76. Гореликов, Н. И. Устройства связи с объектом. Состояние и перспективы Текст. / Н. И. Гореликов, Б. М. Кауфман, А. Г. Кузнецов, А. Я. Соколов // Приборы и системы управления. 1990. - № 2 - С. 14-16.

77. Блокин-Мечталин, Ю. К. Многоканальный аналого-цифровой измерительный преобразователь для магистрально-модульных систем Текст. / Ю. К. Блокин-Мечталин, В. М. Власенко, В. И. Матвиив, А. В. Судаков // Измерительная техника. 1991. - № 11 - С. 15-16.

78. Краткий каталог продукции ПроСофт 8.0. М.: ProSoft, 2002. - 273 е.:ил.

79. Яковлев, В. А. Структура измерительной системы на базе пассивных датчиков Текст. / В. А. Яковлев // Современные технологии автоматизации. -2002.-№1.-С. 76-84.

80. Дворсон, А. И. Метрология и радиоизмерения Текст.: конспект лекций / А. И. Дворсон. Рыбинск: РГАТА, 1995. - Ч. 1. - 66 е.: ил.

81. Тойберт, П. Оценка точности результатов измерений Текст. : пер. с нем. / П. Тойберт. М.: Энергоатомиздат, 1988. - 88 с.: ил.

82. MathCad 6.0 PLUS. Финансовые, инженерные и научные расчеты в среде Windows 95 Текст. / Перевод с англ. М. : Информационно-издательский дом «Филинъ», 1996. - 712 с.

83. Кудрявцев, Е. М. Mathcad 2000 Pro : символьное и численное решение разнообразных задач Текст. / Е. М. Кудрявцев. М. : ДМКПресс, 2001. -576 с.: ил.

84. Истомин, А. С. Измерение толщины покрытий в процессе их нанесения с помощью емкостного датчика Текст. / А. С. Истомин, Э. И. Семенов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2006. - № 2. - С. 49-51.122