автореферат диссертации по металлургии, 05.16.09, диссертация на тему:Нанесение покрытий на материалы с низкой теплостойкостью с помощью аномального тлеющего разряда

ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ КАЗАНСКИЙ (ПРИВОЛЖСКИЙ) ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

На правах рукописи

НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА МАТЕРИАЛЫ С НИЗКОИ ТЕПЛОСТОЙКОСТЬЮ С ПОМОЩЬЮ АНОМАЛЬНОГО ТЛЕЮЩЕГО

РАЗРЯДА

Специальность 05.16.09 — Материаловедение

Автореферат

диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук

005552541) 1 8 СЕН т

Казань 2014

005552540

Работа выполнена в Казанском (Приволжском) федеральном университете Научный руководитель:

доктор технических наук, профессор Кашапов Наиль Фаикович

Официальные оппоненты: д.т.н.,

сотрудник лаборатории физикохимии и технологии покрытий Института металлургии и материаловедения им. A.A. Байкова РАН, г. Москва Кудинов Владимир Владимирович

д.т.н., профессор

заведующий кафедрой "Прикладная механика и материаловедение" НИИ Строительных материалов Томского государственного архитектурно строительного университета, г. Томск Волокитин Геннадий Георгиевич

Ведущая организация: ОАО «Казанское ОКБ «Союз», г. Казань

Защита состоится «11» октября 2014 г. в 13 часов на заседании диссертационного совета Д 212.081.31 в при ФГАОУ ВПО Казанский (Приволжский) федеральный университет по адресу: 423810, Татарстан, г. Набережные Челны, пр. Мира, 13А, Набережночелнинский институт (филиал) ФГАОУ ВПО Казанского (Приволжского) федерального университета, УЛК-5, ауд.309.

С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке Набережночелнинского института (филиал) Казанского (Приволжского) федерального университета.

Отзывы на автореферат направлять по адресу: 423810, Татарстан, г. Набережные Челны, пр. Мира, 68/19, диссертационный совет Д 212.081.31

Автореферат разослан : « 3 » с-ектз-^рд 2014 г.

Ученый секретарь диссертационного совета кандидат технических наук

Мавлеев И.Р.

Общая характеристика работы

Актуальность темы

В настоящее время широкое применение в различных сферах

промышленности находят технологии создания материалов с требуемыми прочностными характеристиками путем нанесения на их поверхность тонких пленок. В том числе возникла потребность в нанесении функциональных покрытий на материалы с низкой теплостойкостью.

Самыми перспективными для нанесения покрытий являются получившие в последние годы широкое распространение методы формирования покрытий с помощью плазмы. Результаты анализов говорят о том, что большинство методов осаждения покрытий при нормальном или повышенном давлении имеют недостатки при нанесении функциональных покрытий на поверхности изделий. Например, в случае использования плазменных методов нанесения покрытий при атмосферном давлении невозможно получить равномерные по толщине покрытия с высокой плотностью. Плазменные методы нанесения покрытий в вакууме лишены этого недостатка, но низкая скорость формирования покрытия и ограниченный выбор используемых материалов, значительно сужает возможности разработчиков конструкционных материалов. Магнетронные распылительные системы, в которых используется аномальный тлеющий разряд, позволили значительно увеличить область применения вакуумных плазменных методов распыления материалов при получении функциональных покрытий.

Из всех достоинств магнетронных распылительных систем можно выделить высокую скорость испарения пленкообразующего материала при одновременной ионизации и возбуждении распыленных атомов. Контроль параметров разряда дает возможность прицельно влиять на прочностные свойства покрытий без значительного влияния на структуру и свойства подложки. Следовательно, технологии с использованием магнетронной

распылительной системы, являются перспективными для нанесения функциональных покрытий на материалы с низкой теплостойкостью.

Работа направлена на решение актуальной проблемы исследования зависимостей физико-механических и эксплуатационных свойств покрытий на материалах с низкой теплостойкостью от параметров аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях, теоритического рассмотрения и создания способа реактивного магнетронного напыления в едином технологическом цикле многослойных металлических и оксидных покрытий на материалы с низкой теплостойкостью.

Цель работы:

На основании исследования влияния параметров аномального тлеющего разряда в магнетронной распылительной системе на свойства покрытий разработать технологию получения покрытий с заданными свойствами на материалы с низкой теплостойкостью.

Для достижения поставленной цели решались следующие задачи:

1. Экспериментально исследовать аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения упрочняющих покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

2. Экспериментально исследовать нагрев поверхности подложки в процессе нанесения покрытий в отсутствие и при наличии реакционных газов;

3. Установить технологические параметры аномального тлеющего разряда в процессе нанесения упрочняющих покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

4. Исследовать характеристики полученных покрытий на материалах с низкой теплостойкостью и зависимость их от параметров разряда;

5. Разработать покрытия с заданными свойствами на материалах с низкой теплостойкостью;

6. Разработать способ получения в едином технологическом цикле покрытий с заданными свойствами на материалах с низкой теплостойкостью.

Научная новизна работы.

1. Экспериментально определены электрические и мощностные параметры аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях магнетрона при нанесения упрочняющих покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

2. Выявлено влияние расхода реакционного газа на вольт-амперную характеристику аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях и на свойства покрытий напыленных на материалы с низкой теплостойкостью;

3. Впервые установлены зависимости температуры поверхности подложки от параметров плазмы магнетронного разряда в процессе нанесения покрытий в отсутствие и при наличии реакционных газов;

4. Впервые установлены технологические параметры магнетронной распылительной системы (напряжение на катоде и = 300-500 В, ток разряда 1=3-10 А, мощность разряда Рр=1-5кВт, расход плазмообразующего газа С(Аг) = 4,0-10"4-6,0-10^ г/с, расход реакционного газа С(Ог) = 4,0-10^-7,0-10"4 г/с, давление газа Р = 0,02-0,2 Па) для нанесения упрочняющих покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

5. Впервые установлено, что в формирование химического состава покрытия при магнетронном распылении в атмосфере смеси плазмообразующего и реакционного газов происходит на поверхности мишени магнетрона, а не на транспортном участке и не на поверхности подложки;

6. Установлены закономерности влияния параметров аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях на характеристики получаемых покрытий на материалах с низкой теплостойкостью;

7. Впервые разработан способ нанесения в едином технологическом цикле многослойных покрытий с заданными свойствами на материалы с низкой теплостойкостью.

Практическая значимость работы:

1. Разработана и внедрена в промышленность технология нанесения в едином технологическом цикле тонкопленочных многослойных покрытий с заданными свойствами, содержащих металлические и оксидные слои, на материалы с низкой теплостойкостью;

2. Разработан способ получения упрочняющих теплоотражающих просветляющих покрытий для прозрачных пластиковых изделий;

3. Получены упрочняющие теплоотражающие просветляющие покрытия на пластиках.

Положения выносимые на защиту:

1. Электрические и мощностные параметры аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях магнетрона в процессе нанесения покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

2. Влияние параметров расхода реакционного газа на характеристики аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях;

3. Влияние плазмы магнетронного разряда на температуру поверхности подложки в процессе нанесения упрочняющих покрытий в отсутствие и при наличии реакционных газов;

4. Технологические параметры магнетронной распылительной системы (напряжение на катоде и = 300-500 В, ток разряда 1 = 3-10 А, мощность разряда Рр=1-5кВт, давление газа Р = 0,02-0,2 Па, расход плазмообразующего газа С(Аг) = 4,0-10"4-6,0-10"4 г/с, расход реакционного газа 0(02) = 4,0-10"4-7,0-10"4г/с) для нанесения упрочняющих покрытий на материалы с низкой теплостойкостью;

5. Технология нанесения в едином технологическом цикле тонкопленочных многослойных покрытий с заданными свойствами, содержащих металлические и оксидные слои, на пластики.

Апробация результатов работы

Материалы работы доложены и обсуждены на следующих конференциях:

Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС 2009,2010;

Научно-техническая конференция Низкотемпературная плазма в процессах нанесения функциональных покрытий 2009, 2010, 2011, 2012, 2013;

X международная конференция Опто- наноэлектроника, нанотехнологии и микросистемы 2008;

IX Российская ежегодная конференция молодых научных сотрудников и аспирантов «Физико-химия и технология неорганических материалов» 2012;

11-я Международная конференция Пленки и покрытия-2013;

Научная сессия КГТУ 2008,2009,2010,2011,2012.

Структура и объем диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения, списка литературы, включающего 135 наименований. Работа изложена на 123 страницах машинописного текста, содержит 48 рисунков, 1 таблицу.

В первой главе дан обзор способов нанесения покрытий на пластики. Описаны параметры низкотемпературной плазмы в процессе нанесения покрытий. Уделено внимание применению реактивного метода ионного распыления. Приведены характеристики покрытий, получаемых с помощью низкотемпературной плазмы. Изложены задачи диссертации.

Во второй главе описано экспериментальное оборудование. Приведено описание установки для нанесения покрытий на пластики,

7

методик исследования параметров плазмы, аппаратуры и методик исследования свойств покрытий на материалах с низкой теплостойкостью.

Вакуумная установка позволяет реализовать подведение газов в область магнетрона или в область подложки. При подведении газов в вакуумную камеру по схеме «1» реакционный газ (кислород) поступает в область подложки через газовводы ионного источника, а рабочий газ (аргон) - в область магнетрона (Рис. 1). В случае схемы «2» кислород подается в область магнетрона, а аргон - в область подложки. Выбор схемы подведения газов влияет в основном на процессы, происходящие на мишени магнетрона.

Рис. 1 Функциональное изображение подведения газов в камеру по схеме «1 » а) и «2» б): 1 - вакуумная камера; 2 - газовводы; 3 -магнетрон; 4 - подложка; 5 - вакуумная откачка;

6 - ионный источник

В третьей главе представлены результаты исследования аномального тлеющего разряда в процессах нанесения покрытий. Наиболее полное представление о механизме разряда в MPC можно получить из вольтамперных характеристик (ВАХ). На Рис. 2 изображены ВАХ разряда в атмосфере смеси аргона и кислорода при разных расходах последнего.

Давление в камере 4 10"2 Па. Значение напряжения увеличивается равномерно, без скачков.

При увеличении плотности тока разряда в атмосфере смеси кислорода и аргона (Рис. 2, а) падение напряжения имеет меньшее значение, чем при разряде в чистом аргоне. В этой области получаются прозрачные оксидные покрытия. На мишени магнетрона образуется оксидная пленка, мощности, вкладываемой в разряд, недостаточно для ее полного распыления.

О 5 10 15 20 25 30

.1, мА/см2

а)

с55^—

—О-02+Аг Т1

—0-02+Аг ф

.............................1_Г

О 5 10 15 20 25 30

¡, мА/см2

б)

Рис. 2 ВАХ для схемы «1» подключения плазмообразующего и реакционного газов: а), б) - смесь аргона, расход 0,4 мг/с, и кислорода, расходы 0,4 и 0,7 мг/с соответственно

При значении плотности тока 18 мА/см2 оксидная пленки на поверхности мишени полностью распыляется, и на подложку напыляются металлические покрытия. ВАХ при напылении металлических покрытий незначительно отклоняется от значений при разряде в атмосфере чистого аргона следовательно, можно сделать вывод об идентичности процесса. При уменьшении плотности тока имеется обратный переход в режим напыления оксидных покрытий при плотностях тока около 8 мА/см2.

Увеличение расхода кислорода (Рис. 2, б) вызывает увеличение разности напряжений между металлическим и оксидным режимами. Переходная область расширяется. Переход в металлический режим происходит при 20 мА/см2. Падение напряжения при оксидном режиме не превышает 500 В.

Для моделирования зависимости ВАХ от параметров магнетронного разряда использовалась система уравнений:

irm - Vi-e Ло'F 9_I

c ;~sp-no e , ( 2■ sp\ 0 (1)

uce^ggp, <2>

где 0 - степень покрытия мишени соединением, D - суммарный расход газов кислорода и аргона в мВт (Па*л/с), е - заряд электрона, At - площадь мишени, F - площадь геттерирующей поверхности, см2, Sp - скорость откачки, взятая 6 л/с, т]т и % - коэффициента распыления металла и оксида, к - количество ударов атомов кислорода по поверхности, см"2с"'Па"', у-переходный коэффициент порядка кБТ. D для расходов кислорода 0,8 и 0,4 мг/с равен 36 и 46 мВт соответственно.

На Рис. 3 представлены аппроксимирующие функции вольт-амперных характеристик для схемы «1» при давлении в вакуумной камере 4-10"2 Па и разных соотношениях расходов кислорода и аргона. Аппроксимация ВАХ схем отличается только коэффициентами Sp и (3.

700 —

600 •и, в

500 -400 -300 -200 — 100 -0 — 0

700 -600

и, В

500 400 300 -200 -100

0 -о

б)

Рис. 3 аппроксимация ВАХ для схемы «1» при давлении 410"2Па, соотношение расхода кислорода к аргону а) 1 к 1 б) 2 к 1

Аппроксимирующие функции ВАХ для схемы «2» также строятся при решении системы уравнений (1) и (2), но с другими значениями параметров 5Р и (3. Данные изменения можно объяснить тем, что для схемы «2», при которой кислород подается в область мишени, и увеличивается эффект

} ! Л

. в °

с О/ О о

Т1 С—

п -тГ " -и(1) О 02+Аг "1" , 4*10-2 Па □ 02+Аг 4*10-2 Па

5 10 15 20 25 мА/™2

а)

I 1 „а

□ ........11 ^

□ о -О—

< о □ — и(1)

.................о О 02+Аг 1- "1" , 4*10-2 Па □ 02+Аг 4, "1" , 4*10-2 Па

5 10 15 20 25

геттерирования. Отклонения расчетных данных от экспериментальных могут быть вызваны неучтенными моделью эффектами, например, неполное окисление частиц титана, распыление кислорода с поверхности мишени, появление других геттерирующих поверхностей, которые также появляются при переходе от одной схемы распыления к другой.

Результаты измерения пространственного распределения температуры подложки вблизи работающего магнетрона представлены на Рис. 4. Вид пространственного распределения температуры свидетельствует, что нагрев подложек вблизи работающего магнетрона происходит неравномерно. Однако на расстоянии 12-10"2м между магнетроном и подложкой неравномерность нагрева уменьшается, и нагрев подложек происходит практически равномерно.

Т, "С

180

-3-1 1 3 5 7 9 11 13 15 17 Lk' см

Рис. 4 Пространственное распределение температуры в MPC, относительно продольной

оси мишени на расстоянии / от ее поверхности: 1 -1=6 см; 2 -1= 12 см; 3 - /=18 см.

Благодаря полученным данным установлен технологический диапазон

параметров магнетронной системы для напыления оксидных покрытий на

материалы с низкой теплостойкостью (давление газа Р=0,02-^-0,2 Па,

напряжение на катоде U=30CH-500 В, ток разряда 1=3-^10 А, мощность разряда

Рр=1-^5 кВт, расход плазмообразующего газа G(Ar)=4,0- 1 0~4-НЗ,0-10'4 г/с,

расход реакционного газа G(02)=4,0-10 10 4 г/с).

12

В четвертой главе рассмотрены примеры упрочняющих покрытий на полиэтилентерефталате (ПЭТФ) и поликарбонате (ПК). Описаны характеристики полученных покрытий на материалах с низкой теплостойкостью и зависимость их от параметров разряда. Все образцы показали высокую механическую прочность на истирание и адгезию к подложке.

Исследовались оптические свойства покрытий из оксида титана толщиной от 130 до 160 нм, нанесенных при помощи магнетронной распылительной системы при разных расходах кислорода в процессе распыления. Спектральная зависимость коэффициента пропускания этих покрытий в видимой области спектра представлена на Рис. 5. Покрытие из оксида титана обладает коэффициентом пропускания, который от 400 до 800 нм превышает 60 % и в интервале от 350 до 400 нм имеет ступеньку.

Рис. 5 Спектральная зависимость коэффициента пропускания покрытий оксида титана для разных расходов О2 в процессе распыления: 1 - 0,8 мг/с; 2 - 0,4 мг/с

Разработан технологический процесс нанесения многослойных покрытий с заданными свойствами на пластики при непрерывном контроле толщины наносимых покрытий. Процесс включает в себя следующие технологические операции: 1. подготовка установки; 2. подготовка подложек; 3. герметизация

13

вакуумной камеры и откачка до давления 26 Па; 4. очистка и активация поверхности подложек; 5. откачка вакуумной камеры до высокого вакуума (1,33-10"3 Па); 6. нанесение тонкого адгезионного металлического или оксидного подслоя; 7. нанесение основных металлических или оксидных слоев покрытия требуемой толщины; оптическая толщина наносимых слоев контролируется системой фотометрического контроля толщины; 8. разгерметизация вакуумной камеры и извлечение упрочненных пластиковых подложек из вакуумной камеры.

Данным способом получено несимметричное зеркало, которое представляет собой двуслойное метал-диэлектрическое покрытие на полимерной подложке (ПЭТФ, ПК). В качестве металла использовался титан, в качестве диэлектрика - оксид титана. Спектральная характеристика покрытия изображена на Рис. 6. Данное несимметричное зеркало обладает интегральными коэффициентами пропускания - 30%, отражения со стороны подложки - 30%, отражения со стороны покрытия - 2% в диапазоне длин волн 450-650 нм.

и, т, %

60

40

20

-R(A) -R1W

0

450 500 550 600 650 Л' нм

Рис. 6 Спектральная характеристика несимметричного зеркала: коэффициент отражения со стороны подложки и со стороны покрытия R1(X)

На Рис. 7 приведены графики испытаний на упругость образцов материалов с низкой теплостойкостью (ПЭТФ) с покрытиями оксида титана разной толщины и без покрытия. Испытания проводились с помощью метода нагружения внутренним давлением.

Рис. 7 Экспериментальные кривые прогиб образцов Н от давления Р

Покрытие даже небольшой толщины (50 нм) влияет на прогиб образца. Увеличение толщины покрытия усиливает эффект. Уменьшение прогиба говорит об увеличении жесткости композиции «подложка-покрытие».

В заключении обобщаются основные результаты работы.

1. Экспериментально исследован аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения покрытий на материалы с низкой теплостойкостью: определены электрические и мощностные характеристики молекулярного потока плазмы. Выявлено влияние расхода реакционного газа на вольт-амперную характеристику аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях и на свойства покрытий напыленных на материалы с низкой теплостойкостью;

2. Экспериментально исследована температура поверхности

подложки в процессе нанесения покрытий в отсутствие и при наличии

15

реакционных газов. Впервые выявлена зависимость температуры поверхности подложки от расхода реакционного газа;

3. Впервые установлены технологические параметры нанесения функциональных покрытий на материалы с низкой теплостойкостью (давление газа Р=0,02-0,2 Па, напряжение на катоде и=300-500 В, ток разряда 1=3-10 А, мощность разряда Рр=1-5 кВт, расход плазмообразующего газа 0(Аг)=4,0-10"4-6,0-10^ г/с, расход реакционного газа 0(02)=4,0-10"4-7,010"4 г/с) для нанесения многослойных упрочняющих покрытий в атмосфере смеси плазмообразующего и реакционного газов в едином технологическом цикле на материалы с низкой теплостойкостью.

4. Установлены закономерности влияния параметров разряда на характеристики получаемых покрытий (толщину, прочность, жесткость, оптические свойства);

5. Впервые установлено, что формирование химического состава покрытия при магнетронном распылении в атмосфере смеси плазмообразующего и реакционного газов происходит на поверхности мишени магнетрона, а не на транспортном участке и не на поверхности подложки;

6. Впервые разработан способ нанесения в едином технологическом цикле тонкопленочных многослойных покрытий с заданными свойствами, содержащих металлические и оксидные слои, на материалы с низкой теплостойкостью. Разработана технология получения функциональных покрытий на прозрачных пластиковых изделиях;

7. Получены покрытия ТЮХ, где 0<х<2, на материалах с низкой теплостойкостью и исследованы их физико-механические и эксплуатационные свойства. Получены упрочняющие теплоотражающие просветляющие покрытия на пластиках.

Внедрен в производство способ получения упрочняющего теплоотражающего просветляющего покрытия для прозрачных пластиковых изделий (Заявка на изобретение № 2013133522).

Автор выражает благодарность Р.Н. Кашапову за консультации при проведении экспериментов и обсуждении результатов.

Работы, «публикованные по теме диссертации:

1. Кашапов, Н.Ф. Вакуумные технологии нанесения функциональных покрытий / Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Вестник КГТУ. - 2010. № 2. - С. 340-345.

2. Лучкин, А.Г. Температурный режим нанесения тонкопленочных покрытий на полимеры методом магнетронного распыления / А.Г. Лучкин // Вестник КГТУ. - 2011. № 16. - С. 121 - 126.

3. Лучкин, А.Г. Очистка поверхности подложек для нанесения покрытий вакуумно-плазменными методами / А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Вестник КГТУ. - 2012. № 15. -С. 208-210.

4. Kashapov, N.F. Abnormal glow discharge in crossed electric and magnetic fields in the presence of reactive gas / N.F. Kashapov. A.G. Luchkin, G.S. Luchkin // Journal of Physics: Conference Series Vol. 479, Issue 1, 2013, Article number 012019.

5. Галяутдинов, P.T. Реактивное магнетронное нанесение широкополосных просветляющих покрытий / Р.Т. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин // Вестник КАИ. - 2013. № 3 - С. 106-110.

6. Галяутдинов, Р.Т. Упрочнение пластиковых экранов средств индивидуальной защиты / Р.Т. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин // Ремонт, восстановление, модернизация. - 2014. № 1. - С. 37-40.

7. Кашапов, Н.Ф. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения упрочняющих покрытий на пластики / Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин // Известия Вузов. Физика.-2014. Т. 57, №3/3. - С. 162-166.

8. Галяутдинов, А.Р. Ионно-плазменное формирование упрочняющего покрытия / А.Р. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Тезисы докладов XXXV Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. Звенигород, 11-15 февраля 2008. С. 299.

9. Галяутдинов, А.Р. Упрочнение пластика оптическими наноразмерными покрытиями / А.Р. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // О 62 Опто-наноэлектроника, нанотехнологии и микросистемы. Труды X международной конференции. Ульяновск 2008. - С. 146-147.

10. Кашапов, Н.Ф. Влияние параметров аномального тлеющего разряда на коэффициент отражения упрочняющих наноструктурных покрытий / Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Тезисы докладов XXXVII Звенигородской конференции по физике плазмы и УТС. Звенигород, 8-12 февраля 2010. - С. 353.

11. Кашапов, Н.Ф. Физико-механические характеристики покрытий на пластиках полученных магнетронным распылением / Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Сборник статей. Низкотемпературная плазма в процессах получения функциональных покрытий. Казань. 2010. - С. 120-126.

12. Лучкин, А.Г. Нанострукгурные пленки для упрочнения поверхности пластика / А.Г. Лучкин // IX Российская ежегодная конференция молодых научных сотрудников и аспирантов «Физико-химия и технология неорганических материалов». Москва. 23-26 октября 2012г. / Сборник материалов. -М: ИМЕТ РАН, 2012. - С. 505-506.

13. Галяутдинов, Р.Т. Технологические параметры процесса нанесения функциональных покрытий с помощью низкотемпературной плазмы / Р.Т. Галяутдинов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Низкотемпературная плазма в процессах нанесения функциональных покрытий. IV Республиканская научно-техническая конференция: сборник статей. Казань, 27-29 ноября 2012г. - Казань : Изд-во Казан, гос. техн. ун-та, - 2013. - С. 155-161.

14. Галяутдинов, Р.Т. Метод магнетронного распыления в процессах нанесения защитных прозрачных покрытий на пластики / Р.Т. Галяутдинов, Н.Ф. Кашапов, А.Г. Лучкин, Г.С. Лучкин // Пленки и покрытия-2013: Труды 11-й Международной конференции. 6 мая - 8 мая 2013 г. / Под редакцией д-ра техн. наук В.Г. Кузнецова. - СПб: Изд-во Политехи, ун-та. 2013. - С. 279-281.

Подписано в печать 07.08.2014. Бумага офсетная. Печать цифровая. Формат 60x84 1/16. Гарнитура «Times New Roman». Тираж 100 экз. Заказ 31/8

Отпечатано с готового оригинал-макета в типографии Издательства Казанского университета

420008, г. Казань, ул. Профессора Нужина, 1/37 тел. (843) 233-73-59, 233-73-28