автореферат диссертации по энергетике, 05.14.05, диссертация на тему:Разработка зеркально- лучевой печи и исследование ее энергетических характеристик

кандидата технических наук
Шокин, Владимир Васильевич
город
Ашхабад
год
1984
специальность ВАК РФ
05.14.05
цена
450 рублей
Диссертация по энергетике на тему «Разработка зеркально- лучевой печи и исследование ее энергетических характеристик»

Оглавление автор диссертации — кандидата технических наук Шокин, Владимир Васильевич

ВВЕДЕНИЕ.

I. ЛИТЕРАТУРНЫЙ АНАЛИЗ И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ

ИССЛЕДОВАНИЯ

1.1. Оптические схемы радиационных печей.

1.2. Высокоинтенсивные источники излучения.

1.3. Технологические зеркально-лучевые печи.

1.4. Постановка задачи исследования

П. ИССЛЕДОВАНИЕ ЭНЕРГЕТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК

ЗЕРКАЛЬНО-ЛУЧЕВОЙ ПЕЧИ.

2.1. Исследование оптико-геометрических и энергетических характеристик в системе эллипсоидный концентратор - цилиндрический приемник излучения

2.2. Энергетический расчет биэллипсоидной системы.

2.3. Формирование температурных полей и зон расплава в цилиндрическом образце при облучении аксиально-симметричным потоком излучения.

1. РАЗРАБОТКА КОНСТРУКЦИИ ЗЕРКАЛЬНО-ЛУЧЕВОЙ

ПЕЧИ.

3.1. Расчет оптико-геометрических и энергетических параметров зеркально-лучевой печи.

3.2♦ Конструкция зеркально-лучевой печи.

3.3. Экспериментальное исследование энергетических характеристик зеркальнолучевой печи.

ВЫВОДЫ.

Введение 1984 год, диссертация по энергетике, Шокин, Владимир Васильевич

Использование высокоинтенсивных лучистых потоков, обеспечивающих достижение высоких температур, представляет практический интерес при решении различного рода технологических задач по сварке, пайке, плавке высокоогнеупорных материалов, изучении воздействия лучистых потоков высокой плотности на конструкционные материалы, пластмассы, биологические объекты и т.д. Этому способствуют прежде всего особенности лучистого нагрева - оптические установки позволяют освободиться от примесей, обусловленных материалом тиглей, так как во время процесса плавки образо -вавшийся расплав окружен тем же материалом в исходном состоянии; позволяют нагревать вещество в среде любого состава, точно регулировать место подвода тепла, осуществлять нагрев и охлаждение за короткий промежуток времени; предоставляется возможность технологической обработки материалов независимо от их электрических и магнитных свойств; позволяют осуществлять локальный нагрев с осуществлением высоких температурных градиентов, легко и непре -рывно наблюдать за протеканием процессов; изучать поведение ве -ществ при избирательном облучении в широком спектральном диапа -зоне при различных степенях интенсивности потока излучения и т.д. /1-4, В/.

Широкое применение в настоящее время приобретают солнечные печи, которые в зависимости от размера отражателей (мощности) позволяют проводить исследования при высоких темпера -турах с достаточно большими объектами / б/. В отличие от них, оптические печи с искусственными излучателями позволяют при сравнительно малых размерах отражателей получать мощные световые потоки, способные облучать габаритные объекты с высокой интенсивностью. В связи с этим оптические печи используются для обеспечения стационарного и импульсного лучистого на -грева при проведении экспериментальных исследований, охватывающих широкий круг научно-технических проблем, а также при pea -лизации ряда производственных процессов, основанных на радиа -ционно-термической технологии. Значительное место занимает решение задач ракетно-космической техники, связанных с космической энергетикой и с нагревом летательных аппаратов при движе -нии в космосе, в атмосферах Земли и других планет, при моделировании внеатмосферного солнечного излучения в специальных камерах при испытании космической техники.

Технологическая аппаратура на базе зеркально-лучевых печей представляет большой интерес при использовании в космических экспериментах по плавке различных материалов. Особенности подвода энергии, возможность визуального наблюдения за протекаю щими процессами плавления и кристаллизации веществ и их реги -с.трации с помощью оптических приборов привлекает внимание специалистов. Некоторый опыт в этом направлении имеется зарубе -жом /II, 17, 18, 28 /.

В связи с этим разработка оптимальных конструкций зеркально лучевых печей и исследование их энергетических характерно -тик в зависимости от функционального назначения установок представляет актуальную задачу, имеющую научное и практическое значение • ч

I. ЛИТЕРАТУРНЫЙ АНАЛИЗ И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ ИССЛЕДОВАНИЯ

I.I. Оптические схемы радиационных печей.

Оптические печи, как правило, состоят из системы фокусирующих отражателей, высокоинтенсивного источника излучения, технологического оборудования для осуществления процессов термо -обработки материалов и пускорегулирующей аппаратуры. Фокусирующие отражатели, в зависимости от особенностей подвода лучис -того потока на исследуемые объекты, могут быть выполнены по различным схемам. Выбор схемы оптической печи в совокупности с конкретным источником излучения определяется прежде всего обеспечением заданных уровней плотностей потоков излучения в зоне нагрева, определяющих значения рабочих температур, распределением энергии на приемнике, его формой, особенностями под -вода энергии излучения в зоне нагрева и уровнем максимальных температур. В данной работе рассматриваются варианты установок технологического назначения, предназначенные для проведения процессов плавки материалов в широком температурном диапазоне, поэтому ограничимся анализом тех схем оптических печей, кото -рые представляют практический интерес с этой точки зрения.

В практике разработки и создания оптических печей нашли отражение в основном двух- и трехзеркальные концентрирующие системы на основе параболических и эллипсоидных отражателей /1-3, 8 /. Форма отражающих поверхностей, "как правило, определяется вращением образующих на основе кривых второго поряд ка - параболы, гиперболы и эллипса, что связано с их оптичес -кип свойством собирать в один из фокусов лучи, вышедшие из другого фокуса. В идеальных случаях с точечными источниками излучения можно преобразовать сходящийся поток лучей в расходящийся (и наоборот) в эллипсоидных и гиперболоидных зеркалах и параллельный в сходящийся в параболическом отражателе. На практике реальные источники имеют угловые размеры, что приводит к образованию изображения в фокальном пятне, характеризующегося отклонениями в результате неточности изготовления зеркал, де -фокусировки и т.д./7, 24-26 , 31, 32/.

На рис. I.I приведены оптические схемы двухзеркальных установок - биэллипсоидной, бипараболоидной и бипараболоидной - типа "закрытая раковина". Бипараболоидные схемы получили широкое распространение для получения высокой освещенности при малых размерах изображения. В одном из параболоидов за счет источника создается поток излучения, параллельный оптической оси ус -тановки, который концентрируется вторым параболоидным отража -телем. Во втором фокусе получается изображение источника с размерами, близкими к размерам излучателя. В случае использования схемы типа "закрытая раковина" изображение источника выносится за пределы оптического тракта установки, что исключает затенение зеркал технологическим оборудованием.

В биэллипсоидной установке два отражателя размещены на одной оптической оси и имеют совмещенный дальний фокус. Излуче -ние от источника, отражаясь от первого отражателя, прожодя через совмещенный фокус, попадает на второй отражатель, который концентрирует излучение в ближнем фокусе. Промежуточное поло -жение фокуса в биэллипсоидной системе дает возможность использования различного рода диафрагм и затворов благодаря малому поперечному сечению пучка лучей от отражающего эллипсоида. а) &и.эллиптическая схема u-napaSi одическая схема.

К) схема „закрытой ракоИшш

I. Схемы двузеркальных систем.

Следует отметить, что в оптических установках целесообразно использование широкоапертурных отражателей, что связано с увеличением коэффициента использования лучистой энергии от излучателя и достижением более высоких степеней концентраций потоков и соответственно температур. Изменением апертуры зеркал и их размерами можно варьировать площадью зоны нагрева и её облученностью.

На рис. 1.2 показаны схемы оптических установок, представляющие собой сочетание двухзеркальных систем с моноэллиптической с сохранением радиальной симметрии фокуса. Такая комбина -ция двух систем позволяет увеличить плотность потока излучения в фокусе и тем самым расширить температурный диапазон. На рис. 1.3 представлены графики распределения плотности потока излучения в области фокуса трехзеркальной системы по оси сис -темы и в фокальной плоскости/ 8/. Как видно из рисунка, распределение энергии в фокусе вдоль оси для моноэллипсоидной системы более растянуто, а для биэллиптической - сжато.

Привлекает внимание оптическая система, выполненная из нескольких радиально расположенных моноэллипсоидов, имеющих совмещенный фокус, рис. 1.4. Если в рассмотренных выше схемах предусматривалось использование одного или двух излучателей,то в данном случае, при равной мощности одного излучателя, коли -чество их может быть в несколько раз увеличено. Кроме того, при равных суммарных мощностях установок, для этого сйучая возможно использование отражателей меньших геометрических размеров и излучателей с меньшей мощностью, что позволяет подвести всю энергию излучения в кольцевую зону нагрева с меньшей шириной, что особенно важно при проведении процессов зонной плавки ма -териалов. Следует также подчеркнуть гибкость этой системы при > работе с образцами различного диаметра. Синхронно перемещая ч^/

Рис. 1.2. Варианты оптических схем трехзеркальной печи: I - сочетание бипарабодической и моноэллиптической систем; 2 - сочетание моноэллиптической и биэллиптической систем с плоскими зеркалами; 3- сочетание моноэллиптической и биэллиптической систем с разными фокусными расстояниями.

Осевое распределение энергии в оптических печах: а - одновременная работа моно и биэллипсоидов; б - биэллип-тическая система; в - моноэллиптическая система.

Радиальное распределение световой энергии в оптической печи.

Рис. 1.3. Распределение энергии в оптических печах. i

Рис, 1.4. Оптическая схема из 4-х моноэллиптических систем каждый из моноэллипсоидов вдоль своей оси и регулируя мощность излучателей, можно поддерживать плотность потока на поверхно -сти образца близкой к максимальной. В других же системах это возможно достичь только регулированием мощности источников нагрева.

Более симметричный и равномерный нагрев цилиндрических образцов в кольцевой зоне может быть реализован, при использова -нии тороэллипсоидной оптической схемы с кольцевым излучателем, изображенной на рис. 1.5. Эта система может быть образована вращением образующей эллипса вокруг оси, проходящей через дальний фокус или в некотором удалении от него в плоскости, перпендикулярной оптической оси эллипса. Источник нагрева должен быть кольцеобразным с радиусом вращения, равным расстоянию между осью вращения системы и ближним фокусом. Варьируя размерами образующей тороэллипсоида и размером излучателя, можно задавать необходимый режим облучения в зоне нагрева.

Анализ рассмотренных схем оптических установок показывает, что энергетические характеристики в зоне нагрева определяются параметрами отражателей (геометрией зеркальной поверхности, точностью её выполнения и размерами), характеристикой источника излучения (конфигурацией, его размерами, степенью изотроп -ности излучения и её интенсивностью), а также геометрическими и оптическими характеристиками облучаемых объектов. Выбор конкретной схемы прежде всего должен определяться заложенным принципом осуществления технологического процесса (зонная плавка, вытягивание кристалла из расплава и т.д.). Параметры отражателей и источника излучения, принятой за основу оптической схемы, определяются исходя из условий облученности в зоне нагрева образца, обеспечивающих его заданный тепловой режим в процессе

Тороэллипсоидная схема с кольцевым излучателем. плавки.

Практическая реализация оптических технологических устано -вок на базе приведенных выше схем во многом определяется технологическими возможностями качественного изготовления отражате -лей и источников излучения. В связи с этим следует рассмотреть особенности создания отражающих элементов и характеристик различных источников излучения.

Наиболее распространенными и перспективными материалами,используемыми для изготовления оптических отражателей, являются стекло, металлы и их сплавы, полимеры. В практике создания оптических технологических установок с искусственными излучателями обычно используются стеклянные отражатели. Этому способствуют специфичные свойства стекла - прозрачность, твердость, малый коэффициент линейного расширения, стойкость в широком диапазоне температур, технологичность обработки. В процессе их изготовления применяют методы моллирования, механической шлифовки и по -лировки, прессование /7,24,29,46/ . Метод моллирования отлича -ется простотой изготовления отражателей, однако точность при этом низка и он применяется в основном для производства средне-температурных установок. Лучшие параметры отражателей достига -ются при механической обработке. Этим методом изготавливаются линзы, зеркала, призмы и другие оптические детали, поскольку он обеспечивает высокую точность и хорошее качество поверхности изделий. После шлифовки для окончательной отделки поверхности её полируют. При этом точность поверхностей достигается высокой и может соизмеряться с долями длины световой волны.

Наносимый на отражающую поверхность зеркальный слой должен обеспечивать максимально возможный коэффициент зеркального от -ражения в области спектра, соответствующего излучению источника.

- 17

Спектральные диапазоны искусственных источников излучения и Солнца лежат в интервале 0,25-2,5 мкм. Отражатели оптических установок, особенно те, в фокусе которых располагается излучатель, подвергаются значительному температурному нагреву, воз -действию ультрофиолетовой части спектра, атмосферной влажности и т.д. Вследствие этого, зеркальное металлическое покрытие должно быть надёжно защищено прозрачным защитным слоем, который также должен быть стойким в процессе длительной эксплуатации и допускать периодическую очистку.

Основными характеристиками отражающей поверхности являются спектральный коэффициент отражения излучения и зеркальность, определяемая шероховатостью поверхности и оптическими постоянными наносимого металла. В области спектра 0,25-2,5 мкм высо -ким коэффициентом отражения обладает алюминий, который и используется чаще всего в качестве зеркального слоя. В видимой и инфракрасной областях спектра наиболее высокий коэффициент отражения имеет серебро, однако в ультрафиолетовой части спектра-его отражательная способность низка, рис. 1.6. Зеркальные слои могут наноситься на отражатели как с лицевой, так и с тыльной стороны. С точки зрения потерь энергии применение лицевых покрытий желательнее, так как в этом случае оптические потери сводятся к минимуму. При лицевом отражении потери энергии из -лучения составляют 10$ для алюминия и 5-6$ для серебра, в то . время как при тыльном отражении они достигают 15-20$ /7, 27 /.

Для защиты лицевых покрытий от воздействия внешних факто -ров используются пленки окиси кремния /7/ j которые наносятся вакуумным напылением. Они обладают хорошими адгезион -ными и антикоррозионными свойствами и большой стойкостью к абразивкому износу.

В конечном итоге оптико-геометрические характеристики от

Рис. 1.6. Монохроматическая отражательная способность серебра ражателя в целом, с учетом совокупности параметров основы отражателя, зеркального и защитного слоев, определяют особенности распределения плотности потока излучения в фокальной плоскости. В настоящее время имеется ряд работ, посвященных теории концентрации лучистых потоков, учитывающих специфику переноса и приёма энергии излучения в солнечных установках / 19, 25 ,26,31, 32/. Они базируются на современных представлениях по переносу лучистой энергии, учитывают практически все факторы, участвую -щие в формировании концентрированного потока излучения, и вы -полнены с использованием математического аппарата с применением ЭВМ. Для решения практических задач применительно к отражателям, характеризующихся среднестатистическим отклонением нормали примерно равным б1 , возможно применение распределения Апариси для фокального распределения облученности, которое базируется на. предположении, что в среднем неточности отражения подчиняются закону нормального распределения Гаусса/25,26/. Эта зависимость не применима для точных зеркал, однако уже для параболоидов прожекторного класса (характерное отклонение нормали б' ) расхождение с формулой Апариси оказывается незначительным ( 3# ),причём при дальнейшем росте отклонений нормали кривая распределе -ния полностью сливается с экспонентой. Для того, чтобы пользо -ваться этой зависимостью, необходимо знать количественную связь параметра точности к со среднеквадратичными угловыми неточностями зеркала. Для зеркал прожекторного класса параметр точ -ности равен К * 3,5. Кривые распределения плотности потока в фокальной плоскости, рассчитанные на основе этого метода, хорошо совпадают с результатами исследований /25,26,31,32/. Следует отметить, что точность зеркал в оптических установках находится в тех же пределах, что и у прожекторных зеркал, поэтому при проведении оптических расчётов возможно использовать рассмотренный выше методический подход. Параметр точности для оптических отражателей должен определяться при проведении оптимизационных расчётов систем отражатель - излучатель, которые учитывают соотношение геометрических размеров этих элементов, характер излучения источника и т.д.

Заключение диссертация на тему "Разработка зеркально- лучевой печи и исследование ее энергетических характеристик"

выводы

1. Анализ литературных источников показал, что несмотря на перспективность использования радиационных оптических печей с искусственными источниками излучения, в настоящее время отсутствуют инженерные методы расчета энергетической освещенности цилиндрических приемников излучения. А расчеты и проектирование концентрирующих систем проводятся в отрыве от анализа температурных режимов приемников излучения.

2. Разработан инженерный метод расчета энергетической осве -щенности в системе источник излучения-эллипсоидный концентратор-цилиндрический приемник, на основе которого проведены исследо -вания энергетической освещенности цилиндрического приемника в зависимости от его радиуса и характерного размера источника излучения.

3. Проведенное расчетное исследование энергетической освещенности приемника в совмещенном фокусе двух, трех и четырех моно -эллипсоидов показало, что равномерность облученности цилиндрического приемника можно обеспечить только вращением приемника вокруг своей оси.

4. Определена зависимость коэффициента улавливания цилиндрического приемника-излучения источника, являющегося интегральной характеристикой перехода от светового потока источника излучения к световому потоку на поверхности приемника.

5. Поставлена краевая задача теплопроводности с нелинейными граничными условиями радиационно-конвективного теплосъёма с по -верхности приемника, описывающая тепловой режим приемника излу

- 107 чения. Разработана методика численного решения этой задачи; проведено численное исследование теплового режима цилиндрических образцов и особенностей формирования зоны расплава радиационным потоком энергии. б. На базе проведенных исследований разработаны и внедрены установка для проведения зонной плавки полупроводников и установка для проведения кратковременных экспериментов в условиях невесомости, и экспериментально определены их характеристики.

108

Библиография Шокин, Владимир Васильевич, диссертация по теме Теоретические основы теплотехники

1. ГРИГОРЬЕВ Б.А. Импульсный нагрев излучениями. М.: Наука, 1974,т.1, 319с.

2. ЛОПАТИНА Г.Г., САСОРОВ В.П. Оптические печи. М.:Металлургия,1969, 215с.

3. ЛАСЛО Т. Оптические высокотемпературные печи. М.: Мир, 1968,212с.

4. ЛАТЫЕВ Л.Н., ПЕТРОВ В.А. и др. Тепловое излучение твердых веществ. Справочник, М.:Энергия, 1973, 471с.

5. ВУГМАН С.М., ВОЛКОВ В.И. Галогенные лампы накаливания. М.:1. Энергия, 1980, с.10-66.

6. F.Tromber u-gp. „First results obtained with tta 1000 kw Solar

7. Fvmase "„Solar Еиегду", vaiiS, 1975, p.p.63+6^

8. Солнечные ввыоакотемпературные печи. Сб.переводов под ред.

9. В.А.Баума, проф.,М., ИЛ., I960, с.5-70.

10. АРСЕНЬЕВ П.А., КОСТОВ Е.Ф. Применение светового нагрева длявыращивания монокристаллов окисных соединений. В сб.:"Исследование материалов в условиях лучистого нагрева",Киев,"Наукова думка", 1975, с. 87-92.

11. ДВЕРНЯКОВ B.C. Использование гелиоустановок ЦПМ АН СССР длялучевой технологии доследований свойств и создания новых материалов. В сб.:"Исследование материалов в условиях лучистого нагрева", Киев, "Наукова думка", 1975, с. 9-12.

12. ДВЕРНЯКОВ B.C. Кинетика высокотемпературного разрушения материалов. Киев, "Наукова думка",1981, с.10-48.

13. АВДУЕВСКИЙ B.C.,БАРМИН И.В.,ГРИШИН С.Д. и др. Проблемы космического производства. М.:Машиностроение,1980,224с

14. БАУМ И.В., КОРПЕЕВ Н.Р., ЛУЧЕВ О.А., ШОКИН В.В. Формированиезоны расплава потоком лучистой энергии в процессе зонной плавки. Изв. АН ТССР, серия ФТХ и ГН, 1983, № б, с.79-82.

15. Такемако Sakurai и Construction о^ a larcje Solar

16. Furnace" Solar fwenjv'J vo1.8r V-4, 1967 p.p ИГМ26.- по

17. S.(rra.hu. The Swedish sounding rocket Module 4or wciterie'fs scienceexperiments in weightlessness. Swedish Space Co. Solna, Sweden, W7.

18. S.Gt-айи. Preliminary experiment pi an TEXUS-2

19. Swedish Space Co, Sofna, Sweden. 197b.

20. КАРЯКИН H.A. Световые приборы. M.: Высшая школа, 1975, 335с.

21. СКОБЕЛЕВ В.й., АФАНАСЬЕВА Е.И. Источники света и пускорегулирующая аппаратура. М.: Энергия, 1973, 367с.

22. МАРШАК И.С. Импульсные источники света. М.: Госэнергоиздат,1963, с. 10-26.

23. МЕЛЬНИКОВ Ю.Ф. Светотехнические материалы. М.: Высшая школа,1976, 150с.

24. ПОСКАЧЕЙ А.А., ЧУБАРОВ Е.П. Оптико-электронные системы измерения температуры. М.: Энергия, 1979, с.175-189.

25. ЗАХИДОВ Р.А. Технология и испытание гелиотехнических концентрирующих систем. Ташкент, "ФАН", 1978, с.28-101.

26. ЗАХИДОВ Р.А., УМАРОВ Г.Я., ВАЙНЕР А.А. Теория и расчет гелиотехнических концентрирующих систем. Ташкент,"ФАН"1977, с.6-80.

27. АПАРИСИ P.P. Концентрация солнечной энергии в гелиотехническихсооружениях. Автореф.канд.дисс. М., 1955.

28. ЙЗЛУЧАТЕЛЬНЫЕ свойства твердых материалов. Под ред. А.Е.Шейндлина. М.: Энергия, 1974, 470с.

29. Ever, a, KolbeseH В.О and Witshe.R, Floatiид ^оие growth of silicon

30. Single crystals /и a douhic-ellipsoid Mirror furnace. Journal of Crystal Growth. 57.1932 p,p. f<i5-M5V North HoUand Publishing Company.

31. ВЕЙНБЕРГ В.Б. Оптика в установках для исследования солнечнойэнергии. M.: Обороногиз, I959, с.10-35.

32. Таблицы физических величин. Под ред. И.К.Кикоина, М.: Атомиздат, 1976, ЮОбс.

33. БАУМ И.В. Солнечные электростанции и высокотемпературные установки: энергетика оптических систем и имитационные модели. Докторская диссертация, Ашхабад, 1980, 187с.

34. МАМЕДНЙЯЗОВ С.О. Функциональные энергетические характеристики концентраторов солнечной энергии. Кандидатская диссертация, Ашхабад, 1980, 15бс.

35. ФОРСАЙТ Дж., МАЛЬКОЛЬМ М., МОУЛЕР К. Машинные методы математических вычислений. М.: Мир, 1980, 279с.

36. ЛЕБЕДЕВ А.П., ПОЛЕЖАЕВ В.И. Математическое моделирование возмущающих ускорений в экспериментах космической технологии. В сб.: Гидромеханика и тепло-массообмен в невесомости. М.: Наука, 1982, с.163-173.

37. ОХОТЙН А.С., ПУШКАРЕВСКИЙ А.С., ГОРБАЧЕВ В.В. Теплофизические свойства полупроводников. М.: Атомиздат, 1972,200с.

38. Теплопроводность твердых тел. Справочник под ред. А.С.Охотина, М.: Энергоатомиздат, 1984, 321с.

39. ГЛАЗОВ В.М., ЧИЖЕВСКАЯ С.Н., ГЛАГОЛЕВА Н.Н. Жидкие полупроводники. М.: Наука, 1967, 244с.

40. МИХЕЕВ М.А. Основы теплопередачи. Л., Госэнергоиздат,1956,392с.

41. БЕРЕЗОВСКИЙ А.А. Нелинейные краевые задачи теплоизлучающеготела. Киев, "Наукова думка", 1968, 165с.

42. ОРТЕГА Дж., РЕЙНБОДЦТ В. Итерационные методы решения нелинейных систем уравнений со многими неизвестными. М.: Мир, 1975, 558с.

43. МАК-КРАКЕН Д., ДОРН У. Численные методы и программированиена фортране. М.: Мир, 1977, 584с.

44. ПРЕОБРАЖЕНСКИЙ В.П. Теплотехнические измерения и приборы.

45. И.: Энергия, 1978, с.56-297.

46. ЛИНЕВЕГ $. Измерение температур в технике. М.: Металлургия,1980, 543с.

47. АРТОБОЛЕВСКИЙ И.И. Механизмы в современной техники. М.: Наука, 1980, т. 1У, с.321-406.

48. СИНДЕЕВ И.М. Электроснабжение летательных аппаратов. М.:1. Транспорт, 1982, с.48-54.

49. ОРЛОВ П.И. Основы конструирования. М.: Машиностроение, 1977,1. Т.1-Ш.

50. КАПУСТИН А.С., СОКОЛОВ В.А., ХОЛОДОВА Л.А. Механизм опусканияампулы для выращивания кристалла из расплава. Кристаллография АН СССР, т.15, № 5, 1970, с.25-33.

51. Технология стекла, под ред. И.И.Китайгородского. М.: Изд.литература по строительству, 1967, 564 с.

52. ДОЛГОПОЛОВ В.И. Светотехнические материалы. М.: Энергия,1972, 167с.

53. МАЛИК0В Л.М. Авиационные приборы и измерительные системы. Рига,1. РКИИГА, 1972, с.186-187.1. УТВЕРЖДАЮ"

54. Генеральный директор ШО "Солнце "jmkoGV . академик АЕЙЙСР;'иу!ёЩ)амов Р.Б.: ),28 " * jJ^ff'"

55. СПРАВКА об использовании результатов диссертационной работы Шокина В.В. "Разработка зеркально-лучевой печи и исследование её энергетических характеристик", представленной на соискание ученой степени кандидата технических наук.

56. Зам. зав. отделом энергетических густановок ШО "Солнце" АН ТССР,к.т.н.1. МАМЕЩНИЯЗОВ С.0,